| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP500S-DC-RF
TN
Cet équipement est une machine de revêtement par pulvérisation magnétron à tête unique de bureau.La conception miniaturisée de l'équipement limite l'apparence de l'équipement au niveau du bureau, réduisant considérablement les exigences du site d'installation.L'équipement est équipé d'une alimentation CC, qui peut être utilisée pour la pulvérisation de matériaux métalliques et présente les caractéristiques d'une vitesse rapide et d'une faible augmentation de température.
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête de pulvérisation unique avec chambre en acier inoxydable peut être utilisée pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, etc.Par rapport à un équipement similaire, la coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
Paramètres techniques:
Tension d'alimentation | VCA 220, 60 Hz |
Chambre à vide | Dimension : Dia.300 mm * H 300 mm Matériau : acier inoxydable 304 Portée (Fenêtre) : ~4'' (100mm) avec obturateur |
Chambre supérieure | Porte-échantillon supérieur central Taille de l'échantillon : Max.4'' de diamètre Vitesse de rotation : 0-20 tr/min réglable Température de chauffage : jusqu'à 300°C |
Chambre inférieure | Pistolets de pulvérisation magnétron 2 × 2'', avec obturateur automatique pour chaque pistolet, le tout CON-FOCAL, orientation de pulvérisation vers le haut 1 Thermo évaporation résistive, basse tension, puissance 500W |
Générateur CC | Quantité: 1 ensemble Puissance de sortie : 0 ~ 500 W Tension de sortie : 0 ~ 600 V Longueur de synchronisation: 65000S Temps de démarrage progressif : 1 ~ 10 S Max.courant de sortie : 1 A Régulation de charge : >99,86 % Temps de réponse en court-circuit : <5 mS Précision du contrôle : 1 % ± 1 |
Moniteur d'épaisseur de film | Cristal de moniteur à quartz : 6 MHz |
Pompe à vide système | Limité vide : 10-5Pa |
Refroidisseur d'eau | Température de l'eau de refroidissement : 37 ℃ Débit : 10L/min Puissance : 0,1 KW Puissance de refroidissement : 50 W/℃ Capacité du réservoir : 9L |
Débitmètre massique | 1 × contrôle du débit massique MFC Avec soupape à vide électrique pour fermer le flux de gaz |
Cet équipement est une machine de revêtement par pulvérisation magnétron à tête unique de bureau.La conception miniaturisée de l'équipement limite l'apparence de l'équipement au niveau du bureau, réduisant considérablement les exigences du site d'installation.L'équipement est équipé d'une alimentation CC, qui peut être utilisée pour la pulvérisation de matériaux métalliques et présente les caractéristiques d'une vitesse rapide et d'une faible augmentation de température.
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête de pulvérisation unique avec chambre en acier inoxydable peut être utilisée pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, etc.Par rapport à un équipement similaire, la coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
Paramètres techniques:
Tension d'alimentation | VCA 220, 60 Hz |
Chambre à vide | Dimension : Dia.300 mm * H 300 mm Matériau : acier inoxydable 304 Portée (Fenêtre) : ~4'' (100mm) avec obturateur |
Chambre supérieure | Porte-échantillon supérieur central Taille de l'échantillon : Max.4'' de diamètre Vitesse de rotation : 0-20 tr/min réglable Température de chauffage : jusqu'à 300°C |
Chambre inférieure | Pistolets de pulvérisation magnétron 2 × 2'', avec obturateur automatique pour chaque pistolet, le tout CON-FOCAL, orientation de pulvérisation vers le haut 1 Thermo évaporation résistive, basse tension, puissance 500W |
Générateur CC | Quantité: 1 ensemble Puissance de sortie : 0 ~ 500 W Tension de sortie : 0 ~ 600 V Longueur de synchronisation: 65000S Temps de démarrage progressif : 1 ~ 10 S Max.courant de sortie : 1 A Régulation de charge : >99,86 % Temps de réponse en court-circuit : <5 mS Précision du contrôle : 1 % ± 1 |
Moniteur d'épaisseur de film | Cristal de moniteur à quartz : 6 MHz |
Pompe à vide système | Limité vide : 10-5Pa |
Refroidisseur d'eau | Température de l'eau de refroidissement : 37 ℃ Débit : 10L/min Puissance : 0,1 KW Puissance de refroidissement : 50 W/℃ Capacité du réservoir : 9L |
Débitmètre massique | 1 × contrôle du débit massique MFC Avec soupape à vide électrique pour fermer le flux de gaz |
