| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP180G-PST
TN
Présentation de notre coucheuse de pulvérisation magnétron planétaire à cible unique avec cavité en quartz pour films conducteurs.Ce système de revêtement avancé est conçu pour les professionnels ayant besoin d’une préparation de film précise et efficace.
Grâce à sa conception planétaire innovante, notre coucheuse par pulvérisation cathodique permet la création de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.Cette polyvalence en fait un outil précieux pour un large éventail d'applications dans des secteurs tels que l'électronique, l'optique et la recherche.
Equipée d'une cavité en quartz, notre coucheuse assure une qualité et une uniformité optimales du film.Le matériau quartz offre une excellente stabilité thermique et permet des taux de dépôt élevés, garantissant des résultats cohérents et fiables à chaque fois.
Conçue pour les professionnels, notre coucheuse par pulvérisation offre une facilité d'utilisation et de contrôle inégalée.L'interface conviviale permet des ajustements précis des paramètres tels que le temps de dépôt, la puissance et le débit de gaz, garantissant ainsi les conditions parfaites pour vos besoins spécifiques en matière de film.
De plus, notre coucheuse dispose d'une source de pulvérisation magnétron robuste, qui permet un dépôt de film efficace et uniforme.Cela garantit une productivité élevée et minimise le gaspillage de matériaux, vous permettant ainsi d'économiser du temps et des ressources.
Construit avec des matériaux de la plus haute qualité et une technologie de pointe, notre coucheur de pulvérisation magnétron planétaire à cible unique avec cavité en quartz pour films conducteurs est conçu pour durer.Sa construction durable et ses performances fiables en font un atout précieux pour tout professionnel recherchant des capacités exceptionnelles de préparation de films.
Investissez dans notre coucheuse par pulvérisation et libérez le potentiel d’une préparation de film précise et efficace.Découvrez la différence que notre technologie avancée et notre conception conviviale peuvent faire dans votre travail.Faites confiance à notre engagement à fournir des équipements de qualité professionnelle répondant aux normes de qualité et de performance les plus élevées.
Paramètres techniques de la coucheuse planétaire de pulvérisation magnétron à cible unique :
TN-MSP180G-PST (planétaire table d'échantillons) coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique | ||||
Échantillon scène | Taille | φ50mm x4 | Rotation vitesse | Le la vitesse de révolution est réglable de 0 à 10 tr/min, et la révolution et la rotation le rapport de vitesse est de 1:5 |
Magnétron cible de pulvérisation | Quantité | 2' x1 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Φ180mm x 100mm | Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | Ouverture méthode | Haut housse amovible | |
Inférieur bride | Contient mécanisme de transmission planétaire, interface à vide soudée et soupape d'admission | |||
Vide système | Mécanique pompe | En deux étapes pompe à palettes | Pompage interface | KF16 |
Moléculaire pompe | Turbomoléculaire pompe | Pompage interface | KF40 | |
Vide la mesure | Résistance jauge + jauge d'ionisation | Échappement interface | KF40 | |
Ultime vide | 1.0E-3Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Support pompe : 1,1 L/s Pompe moléculaire : 60 L/S | |||
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 | Maximum puissance de sortie | CC alimentation 300W |
Autre | Fournir tension | AC220V, 50Hz | Dans l'ensemble taille | 500mm x 320mm x620mm |
Total pouvoir | 2 kW | |||
Présentation de notre coucheuse de pulvérisation magnétron planétaire à cible unique avec cavité en quartz pour films conducteurs.Ce système de revêtement avancé est conçu pour les professionnels ayant besoin d’une préparation de film précise et efficace.
Grâce à sa conception planétaire innovante, notre coucheuse par pulvérisation cathodique permet la création de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.Cette polyvalence en fait un outil précieux pour un large éventail d'applications dans des secteurs tels que l'électronique, l'optique et la recherche.
Equipée d'une cavité en quartz, notre coucheuse assure une qualité et une uniformité optimales du film.Le matériau quartz offre une excellente stabilité thermique et permet des taux de dépôt élevés, garantissant des résultats cohérents et fiables à chaque fois.
Conçue pour les professionnels, notre coucheuse par pulvérisation offre une facilité d'utilisation et de contrôle inégalée.L'interface conviviale permet des ajustements précis des paramètres tels que le temps de dépôt, la puissance et le débit de gaz, garantissant ainsi les conditions parfaites pour vos besoins spécifiques en matière de film.
De plus, notre coucheuse dispose d'une source de pulvérisation magnétron robuste, qui permet un dépôt de film efficace et uniforme.Cela garantit une productivité élevée et minimise le gaspillage de matériaux, vous permettant ainsi d'économiser du temps et des ressources.
Construit avec des matériaux de la plus haute qualité et une technologie de pointe, notre coucheur de pulvérisation magnétron planétaire à cible unique avec cavité en quartz pour films conducteurs est conçu pour durer.Sa construction durable et ses performances fiables en font un atout précieux pour tout professionnel recherchant des capacités exceptionnelles de préparation de films.
Investissez dans notre coucheuse par pulvérisation et libérez le potentiel d’une préparation de film précise et efficace.Découvrez la différence que notre technologie avancée et notre conception conviviale peuvent faire dans votre travail.Faites confiance à notre engagement à fournir des équipements de qualité professionnelle répondant aux normes de qualité et de performance les plus élevées.
Paramètres techniques de la coucheuse planétaire de pulvérisation magnétron à cible unique :
TN-MSP180G-PST (planétaire table d'échantillons) coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique | ||||
Échantillon scène | Taille | φ50mm x4 | Rotation vitesse | Le la vitesse de révolution est réglable de 0 à 10 tr/min, et la révolution et la rotation le rapport de vitesse est de 1:5 |
Magnétron cible de pulvérisation | Quantité | 2' x1 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Φ180mm x 100mm | Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | Ouverture méthode | Haut housse amovible | |
Inférieur bride | Contient mécanisme de transmission planétaire, interface à vide soudée et soupape d'admission | |||
Vide système | Mécanique pompe | En deux étapes pompe à palettes | Pompage interface | KF16 |
Moléculaire pompe | Turbomoléculaire pompe | Pompage interface | KF40 | |
Vide la mesure | Résistance jauge + jauge d'ionisation | Échappement interface | KF40 | |
Ultime vide | 1.0E-3Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Support pompe : 1,1 L/s Pompe moléculaire : 60 L/S | |||
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 | Maximum puissance de sortie | CC alimentation 300W |
Autre | Fournir tension | AC220V, 50Hz | Dans l'ensemble taille | 500mm x 320mm x620mm |
Total pouvoir | 2 kW | |||
