| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP180G-DC
TN
Présentation de notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête de pulvérisation unique de bureau pour film d'oxyde d'étain d'indium ITO.Cette coucheuse de pointe est conçue avec un ton professionnel et est parfaite pour diverses applications.
Notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau est dotée d'une chambre robuste en acier inoxydable, garantissant durabilité et longévité.Cela permet la préparation de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse permet une pulvérisation précise et uniforme, ce qui donne lieu à des films d'oxyde d'étain et d'indium ITO de haute qualité.Que vous ayez besoin d'améliorer la conductivité de vos matériaux ou d'améliorer leurs propriétés optiques, notre coucheuse est la solution idéale.
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau offre une utilisation et un contrôle faciles, ce qui la rend adaptée aux environnements de recherche et de production.Sa taille compacte permet de le placer sur un bureau, économisant ainsi un espace précieux dans votre laboratoire ou installation.
Investissez dans notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau pour un dépôt de film efficace et fiable.Découvrez les avantages de ses performances de qualité professionnelle et obtenez des résultats exceptionnels dans vos applications de couches minces.
Paramètres techniques:
Étape d'échantillonnage | Taille | φ100mm |
Chauffage | Max.500℃ | |
Vitesse de rotation | 0-20 tr/min réglable | |
Magnétron tête de pulvérisation | Quantité | 2' x1 |
Vide chambre | Chambre taille | φ180mm x 215mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel transparent | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Supérieur housse amovible | |
Vide système | Mécanique pompe | Rotatif Pompe à palettes |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Moléculaire pompe | Turbomoléculaire pompe | |
Pompage port | KF40 | |
Échappement interface | KF40 | |
Vide la mesure | Résistance jauge + jauge d'ionisation | |
Ultime vide | 1,0E-4Pa | |
Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Mécanique pompe 1,1L/s Pompe moléculaire 600L/s | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Max. puissance de sortie | CC alimentation 150W | |
Fournir tension | AC220V, 50Hz | |
Autres | Total pouvoir | 2 kW |
Dans l'ensemble taille | 550mm x 350 mm x 400 mm |
Présentation de notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête de pulvérisation unique de bureau pour film d'oxyde d'étain d'indium ITO.Cette coucheuse de pointe est conçue avec un ton professionnel et est parfaite pour diverses applications.
Notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau est dotée d'une chambre robuste en acier inoxydable, garantissant durabilité et longévité.Cela permet la préparation de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse permet une pulvérisation précise et uniforme, ce qui donne lieu à des films d'oxyde d'étain et d'indium ITO de haute qualité.Que vous ayez besoin d'améliorer la conductivité de vos matériaux ou d'améliorer leurs propriétés optiques, notre coucheuse est la solution idéale.
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau offre une utilisation et un contrôle faciles, ce qui la rend adaptée aux environnements de recherche et de production.Sa taille compacte permet de le placer sur un bureau, économisant ainsi un espace précieux dans votre laboratoire ou installation.
Investissez dans notre coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau pour un dépôt de film efficace et fiable.Découvrez les avantages de ses performances de qualité professionnelle et obtenez des résultats exceptionnels dans vos applications de couches minces.
Paramètres techniques:
Étape d'échantillonnage | Taille | φ100mm |
Chauffage | Max.500℃ | |
Vitesse de rotation | 0-20 tr/min réglable | |
Magnétron tête de pulvérisation | Quantité | 2' x1 |
Vide chambre | Chambre taille | φ180mm x 215mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel transparent | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Supérieur housse amovible | |
Vide système | Mécanique pompe | Rotatif Pompe à palettes |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Moléculaire pompe | Turbomoléculaire pompe | |
Pompage port | KF40 | |
Échappement interface | KF40 | |
Vide la mesure | Résistance jauge + jauge d'ionisation | |
Ultime vide | 1,0E-4Pa | |
Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Mécanique pompe 1,1L/s Pompe moléculaire 600L/s | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Max. puissance de sortie | CC alimentation 150W | |
Fournir tension | AC220V, 50Hz | |
Autres | Total pouvoir | 2 kW |
Dans l'ensemble taille | 550mm x 350 mm x 400 mm |
