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Machine de pulvérisation magnétron à Double cible de bureau, avec système de pompe moléculaire pour le revêtement de plaquettes de verre

La machine de pulvérisation magnétron Double Target de bureau peut être utilisée pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, etc.Par rapport à un équipement similaire, la coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-MSP210S-DC-D

  • TN

Cet équipement est une coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible, qui peut être utilisée dans la préparation de films métalliques, dans les domaines de l'électronique, de l'optique, des céramiques spéciales, etc. elle peut également être utilisée pour préparer des échantillons SEM en laboratoire.

Il adopte une chambre en acier inoxydable sous vide poussé, une conception d'ouverture de porte avant et une fenêtre d'observation en quartz sur la porte, ce qui est pratique pour l'observation et l'enregistrement de l'expérience.Dans le même temps, l'équipement est équipé d'une table d'échantillons chauffante rotative, qui peut améliorer efficacement l'uniformité et la qualité du film.Un ensemble de déflecteurs est installé sur le capot supérieur, et les deux cibles peuvent être commutées en tournant le déflecteur pour réaliser un revêtement multicouche.

Cet équipement doit être utilisé avec un groupe de pompes moléculaires à vide poussé.Les utilisateurs peuvent choisir une petite pompe moléculaire de marque importée pour économiser davantage la zone d'installation.

Dans le même temps, le modèle peut être équipé de composants de mesure de l'épaisseur du film, qui peuvent surveiller l'épaisseur du film en temps réel et fournir des paramètres fiables pour le processus expérimental.


coucheuse de pulvérisation magnétron à double cible paramètre technique :


Étape d'échantillonnage

Taille

100mm

Chauffage

≤500℃

Vitesse de rotation

1-20 tr/min

Contrôle de la température

±1 ℃

Tête de pulvérisation magnétron

Quantité

2'x2

Mode refroidissement

Refroidi à l'eau

Chambre à vide

Taille

Diamètre 210 mm × 260 mm

Fenêtre de montre

φ40mm

Matériel

SUS

Mode ouvert

Ouverture frontale

Alimentation par pulvérisation

Alimentation CC

1 jeu

Puissance de sortie

≤300W

Tension de sortie

≤600V

Temps de réponse

<5ms

Eau froide

Capacité du réservoir

9L

Couler

10 L/min

Jauge d'épaisseur de film

Précision

0,1 angström

Mode refroidissement

Eau froide

Autre

Source de courant

AC220V, 50Hz

Pouvoir total

4kw

Système de pompe moléculaire

Pompe de support

Pompe à palettes

Pompage

1,1 L/s

Pompe secondaire

pompe turbo moléculaire (domestique)

Pompage

600L/s

Interface d'extraction

KF40

Sortie d'air

KF16


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En vertu d'un: 
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