| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSV325-II-DCDC-SS
TN
La machine à revêtement à double magnétron à double cible à vide est un équipement de pointe conçu pour la microélectronique et la fabrication de semi-conducteurs. Cette machine est spécifiquement conçue pour déposer des films multicouches de haute qualité et des revêtements sur divers substrats.
Avec la capacité de gérer simultanément plusieurs cibles, cette machine est idéale pour produire des structures complexes et des matériaux avancés utilisés dans les appareils magnétiques et spintroniques. L'environnement à vide élevé assure un contrôle précis sur le processus de dépôt, entraînant des revêtements uniformes et hautes performances.
La machine à revêtement à double cible à double cible à vide à vide est capable de déposer des revêtements durs tels que le nitrure de titane (TIN) et le nitrure de chrome (CRN), qui sont couramment utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour leur excellente résistance à l'usure et stabilité thermique.
Cette machine de pointe offre une précision et une efficacité inégalées, ce qui en fait un atout précieux pour les laboratoires de recherche et développement, ainsi que des installations de production. Ses fonctionnalités avancées et sa construction robuste assurent des performances fiables et cohérentes, ce qui en fait le choix parfait pour exiger des applications dans l'industrie de la microélectronique et des semi-conducteurs.
Nom de produit | Type à vide élevé à vide élevé Machine de revêtement magnétron de magnétron | |
Modèle de produit | TN-MSV325-II-DCDC-SS | |
Tension d'alimentation | AC220V ， 50Hz | |
POUR COMPLÉMENT | 6 kW | |
Vide du système | ≦ 5 × 10-4pa | |
Étape de l'échantillon | Dimensions | φ150 mm |
Température de chauffage | ≦ 600 ℃ | |
Précision du contrôle de la température | ± 1 ℃ | |
Vitesse réglable | ≦ 20rpm | |
Pistolet cible magnétique | Taille cible | Diamètre φ50,8 mm, épaisseur ≤3 mm |
Mode de refroidissement | Refroidissement en circulation de l'eau | |
Taille du débit d'eau | Pas moins de 10L / min | |
Quantité | 2 | |
Chambre à vide | Cavité | Diamètre φ325 mm, hauteur 500 mm |
Matériau de cavité | SUU304 en acier inoxydable | |
Fenêtre d'observation | Diamètre φ100mm | |
Méthode d'ouverture | Ouverture supérieure | |
Contrôle des gaz | 1 flux de masse est utilisé pour contrôler le débit AR, avec une plage de 200sccm | |
Système d'aspirateur | Équipé d'un système de pompe moléculaire, vitesse de pompage de gaz 600L / s | |
Mesure de l'épaisseur du film | METTRENEUR DE FILM CRISTAL FILM FORMATIQUE FACTIVE , Résolution 0,10 Å | |
Alimentation de la pulvérisation | Équipé d'une alimentation CC, puissance 500W * 2 | |
Système de contrôle | Système de contrôle professionnel auto-développé Cyky | |
Dimensions de l'équipement | 540 mm × 540 mm × 1000 mm | |
Poids de l'équipement | 145 kg | |
La machine à revêtement à double magnétron à double cible à vide est un équipement spécialisé conçu pour le dépôt de films minces en utilisant deux cibles distinctes (matériaux) dans un environnement à vide élevé. Cette configuration permet une large gamme d'applications et offre une flexibilité dans la création de revêtements complexes et multicouches. Voici les principaux domaines où ce type de machine est disponible et couramment utilisé:
Microélectronique et fabrication de semi-conducteurs :
Films multicouches : La configuration à double cible est idéale pour déposer des films multicouches, où différents matériaux peuvent être déposés séquentiellement ou simultanément pour créer des structures complexes essentielles pour les dispositifs semi-conducteurs.
Couches conductrices et isolantes : cette machine est utilisée pour déposer à la fois conductrice (par exemple, métaux comme le cuivre ou l'aluminium) et les couches isolantes (par exemple, dioxyde de silicium, nitrure de silicium) dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres composants microélectroniques.
Revêtements optiques :
Revêtements antireflectifs et réfléchissants : La machine est utilisée pour créer des revêtements optiques qui nécessitent un contrôle précis de l'épaisseur du film et de la composition des matériaux. En utilisant deux cibles, il est possible de créer des revêtements d'index gradient ou des piles multicouches complexes pour les lentilles, les miroirs et les filtres optiques.
Miroirs diélectriques et séparateurs de faisceaux : ces composants nécessitent souvent des couches alternées de différents matériaux, qui peuvent être déposées efficacement à l'aide d'un système à double cible.
Dispositifs magnétiques et spintroniques :
Films minces magnétiques : La machine est utilisée pour déposer des matériaux magnétiques, tels que le cobalt, le nickel ou les alliages de fer, qui sont cruciaux dans la production de dispositifs de stockage magnétiques comme les disques durs et le mRAM (mémoire magnétoreiste-accès aléatoire).
Applications spintronic : la pulvérisation à double cible est essentielle pour créer des structures multicouches utilisées dans Spintronics, où la rotation des électrons est exploitée en plus de leur charge.
Revêtements durs et résistants à l'usure :
Instruments d'outillage et de coupe : La machine est utilisée pour déposer des revêtements durs, tels que le nitrure de titane (TIN), le nitrure de chrome (CRN) ou le carbone de type diamant (DLC), sur des outils, des matrices et d'autres composants mécaniques pour améliorer leur usure résistance et durabilité.
Revêtements protecteurs : Ces revêtements sont également utilisés dans diverses applications industrielles où les surfaces nécessitent une protection contre la corrosion, l'oxydation et d'autres formes d'usure.
Dispositifs d'énergie :
Cellules solaires : la pulvérisation à double cible est utilisée pour déposer les différentes couches requises dans les cellules solaires à couches minces, telles que les oxydes conducteurs transparents (TCO) et les couches d'absorbeur. Cela permet le développement de dispositifs photovoltaïques efficaces.
Piles à combustible et batteries : La machine peut déposer des films minces utilisés dans les dispositifs de stockage et de conversion d'énergie, tels que les matériaux d'électrode dans les batteries ou les couches de protection dans les piles à combustible.
Recherche et développement :
Science des matériaux et nanotechnologie : Dans les paramètres de R&D, cette machine est utilisée pour explorer de nouveaux matériaux et des structures à couches minces. La capacité de déposer deux matériaux différents permet simultanément ou séquentiellement le développement de nouveaux matériaux avec des propriétés sur mesure.
Prototypage et expérimentation : les chercheurs utilisent des systèmes à double cible pour prototyper les nouveaux appareils, étudier les interactions des matériaux et optimiser les processus de dépôt à couches minces.
Revêtements décoratifs et fonctionnels :
Électronique et bijoux grand public : La machine est utilisée pour appliquer des revêtements métalliques décoratifs sur les produits de consommation, tels que l'électronique et les bijoux. Ces revêtements peuvent également offrir des avantages fonctionnels, tels que la résistance aux rayures ou une conductivité accrue.
Verre architecturale : la pulvérisation à double cible est utilisée pour créer des revêtements sur un verre architectural qui offrent une efficacité énergétique, une protection des UV et des améliorations esthétiques.
Films supraconducteurs :
Recherche du supraconducteur : La machine est utilisée pour déposer des matériaux supraconducteurs, tels que YBCO (Yttrium Barium Copper Oxyde), pour la recherche en supraconductivité et le développement de dispositifs supraconducteurs.
Dans l'ensemble, une machine à revêtement à double cible à vide à vide à vide est très polyvalente et est utilisée dans plusieurs industries et domaines de recherche pour créer une large gamme de matériaux à film mince avec des propriétés spécifiques. Sa capacité à gérer deux cibles simultanément ou en séquence permet le développement de revêtements multicouches complexes adaptés aux besoins d'applications spécifiques.
La machine à revêtement à double magnétron à double cible à vide est un équipement de pointe conçu pour la microélectronique et la fabrication de semi-conducteurs. Cette machine est spécifiquement conçue pour déposer des films multicouches de haute qualité et des revêtements sur divers substrats.
Avec la capacité de gérer simultanément plusieurs cibles, cette machine est idéale pour produire des structures complexes et des matériaux avancés utilisés dans les appareils magnétiques et spintroniques. L'environnement à vide élevé assure un contrôle précis sur le processus de dépôt, entraînant des revêtements uniformes et hautes performances.
La machine à revêtement à double cible à double cible à vide à vide est capable de déposer des revêtements durs tels que le nitrure de titane (TIN) et le nitrure de chrome (CRN), qui sont couramment utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour leur excellente résistance à l'usure et stabilité thermique.
Cette machine de pointe offre une précision et une efficacité inégalées, ce qui en fait un atout précieux pour les laboratoires de recherche et développement, ainsi que des installations de production. Ses fonctionnalités avancées et sa construction robuste assurent des performances fiables et cohérentes, ce qui en fait le choix parfait pour exiger des applications dans l'industrie de la microélectronique et des semi-conducteurs.
Nom de produit | Type à vide élevé à vide élevé Machine de revêtement magnétron de magnétron | |
Modèle de produit | TN-MSV325-II-DCDC-SS | |
Tension d'alimentation | AC220V ， 50Hz | |
POUR COMPLÉMENT | 6 kW | |
Vide du système | ≦ 5 × 10-4pa | |
Étape de l'échantillon | Dimensions | φ150 mm |
Température de chauffage | ≦ 600 ℃ | |
Précision du contrôle de la température | ± 1 ℃ | |
Vitesse réglable | ≦ 20rpm | |
Pistolet cible magnétique | Taille cible | Diamètre φ50,8 mm, épaisseur ≤3 mm |
Mode de refroidissement | Refroidissement en circulation de l'eau | |
Taille du débit d'eau | Pas moins de 10L / min | |
Quantité | 2 | |
Chambre à vide | Cavité | Diamètre φ325 mm, hauteur 500 mm |
Matériau de cavité | SUU304 en acier inoxydable | |
Fenêtre d'observation | Diamètre φ100mm | |
Méthode d'ouverture | Ouverture supérieure | |
Contrôle des gaz | 1 flux de masse est utilisé pour contrôler le débit AR, avec une plage de 200sccm | |
Système d'aspirateur | Équipé d'un système de pompe moléculaire, vitesse de pompage de gaz 600L / s | |
Mesure de l'épaisseur du film | METTRENEUR DE FILM CRISTAL FILM FORMATIQUE FACTIVE , Résolution 0,10 Å | |
Alimentation de la pulvérisation | Équipé d'une alimentation CC, puissance 500W * 2 | |
Système de contrôle | Système de contrôle professionnel auto-développé Cyky | |
Dimensions de l'équipement | 540 mm × 540 mm × 1000 mm | |
Poids de l'équipement | 145 kg | |
La machine à revêtement à double magnétron à double cible à vide est un équipement spécialisé conçu pour le dépôt de films minces en utilisant deux cibles distinctes (matériaux) dans un environnement à vide élevé. Cette configuration permet une large gamme d'applications et offre une flexibilité dans la création de revêtements complexes et multicouches. Voici les principaux domaines où ce type de machine est disponible et couramment utilisé:
Microélectronique et fabrication de semi-conducteurs :
Films multicouches : La configuration à double cible est idéale pour déposer des films multicouches, où différents matériaux peuvent être déposés séquentiellement ou simultanément pour créer des structures complexes essentielles pour les dispositifs semi-conducteurs.
Couches conductrices et isolantes : cette machine est utilisée pour déposer à la fois conductrice (par exemple, métaux comme le cuivre ou l'aluminium) et les couches isolantes (par exemple, dioxyde de silicium, nitrure de silicium) dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres composants microélectroniques.
Revêtements optiques :
Revêtements antireflectifs et réfléchissants : La machine est utilisée pour créer des revêtements optiques qui nécessitent un contrôle précis de l'épaisseur du film et de la composition des matériaux. En utilisant deux cibles, il est possible de créer des revêtements d'index gradient ou des piles multicouches complexes pour les lentilles, les miroirs et les filtres optiques.
Miroirs diélectriques et séparateurs de faisceaux : ces composants nécessitent souvent des couches alternées de différents matériaux, qui peuvent être déposées efficacement à l'aide d'un système à double cible.
Dispositifs magnétiques et spintroniques :
Films minces magnétiques : La machine est utilisée pour déposer des matériaux magnétiques, tels que le cobalt, le nickel ou les alliages de fer, qui sont cruciaux dans la production de dispositifs de stockage magnétiques comme les disques durs et le mRAM (mémoire magnétoreiste-accès aléatoire).
Applications spintronic : la pulvérisation à double cible est essentielle pour créer des structures multicouches utilisées dans Spintronics, où la rotation des électrons est exploitée en plus de leur charge.
Revêtements durs et résistants à l'usure :
Instruments d'outillage et de coupe : La machine est utilisée pour déposer des revêtements durs, tels que le nitrure de titane (TIN), le nitrure de chrome (CRN) ou le carbone de type diamant (DLC), sur des outils, des matrices et d'autres composants mécaniques pour améliorer leur usure résistance et durabilité.
Revêtements protecteurs : Ces revêtements sont également utilisés dans diverses applications industrielles où les surfaces nécessitent une protection contre la corrosion, l'oxydation et d'autres formes d'usure.
Dispositifs d'énergie :
Cellules solaires : la pulvérisation à double cible est utilisée pour déposer les différentes couches requises dans les cellules solaires à couches minces, telles que les oxydes conducteurs transparents (TCO) et les couches d'absorbeur. Cela permet le développement de dispositifs photovoltaïques efficaces.
Piles à combustible et batteries : La machine peut déposer des films minces utilisés dans les dispositifs de stockage et de conversion d'énergie, tels que les matériaux d'électrode dans les batteries ou les couches de protection dans les piles à combustible.
Recherche et développement :
Science des matériaux et nanotechnologie : Dans les paramètres de R&D, cette machine est utilisée pour explorer de nouveaux matériaux et des structures à couches minces. La capacité de déposer deux matériaux différents permet simultanément ou séquentiellement le développement de nouveaux matériaux avec des propriétés sur mesure.
Prototypage et expérimentation : les chercheurs utilisent des systèmes à double cible pour prototyper les nouveaux appareils, étudier les interactions des matériaux et optimiser les processus de dépôt à couches minces.
Revêtements décoratifs et fonctionnels :
Électronique et bijoux grand public : La machine est utilisée pour appliquer des revêtements métalliques décoratifs sur les produits de consommation, tels que l'électronique et les bijoux. Ces revêtements peuvent également offrir des avantages fonctionnels, tels que la résistance aux rayures ou une conductivité accrue.
Verre architecturale : la pulvérisation à double cible est utilisée pour créer des revêtements sur un verre architectural qui offrent une efficacité énergétique, une protection des UV et des améliorations esthétiques.
Films supraconducteurs :
Recherche du supraconducteur : La machine est utilisée pour déposer des matériaux supraconducteurs, tels que YBCO (Yttrium Barium Copper Oxyde), pour la recherche en supraconductivité et le développement de dispositifs supraconducteurs.
Dans l'ensemble, une machine à revêtement à double cible à vide à vide à vide est très polyvalente et est utilisée dans plusieurs industries et domaines de recherche pour créer une large gamme de matériaux à film mince avec des propriétés spécifiques. Sa capacité à gérer deux cibles simultanément ou en séquence permet le développement de revêtements multicouches complexes adaptés aux besoins d'applications spécifiques.
