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Machine de revêtement composée de pulvérisation de magnétron et d'évaporation thermique à double cible

La machine de revêtement deux-en-un par pulvérisation magnétron et évaporation thermique peut être utilisée pour le revêtement de produits électroniques, de verre, d'échantillons de céramique, de métal et d'autres échantillons, particulièrement adaptée à la préparation d'échantillons de laboratoire SEM (microscope électronique à balayage).
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-MS500S-2TA1S

  • TN

La machine à revêtement deux en un magnétron et thermique peuvent être utilisées pour le revêtement de produits électroniques, de verre, d'échantillons en céramique, de métal et d'autres échantillons, en particulier adaptés à la préparation des échantillons de SEM de laboratoire (microscope électronique à balayage).


L'équipement est principalement composé d'une chambre à vide en acier inoxydable, d'une cible de pulvérisation de magnétron, d'une source d'évaporation, d'un tableau d'échantillonnage de chauffage rotatif, d'une unité de pompe à vide, d'une jauge de mesure de vide, d'un système d'admission d'air et d'un système de commande.


Paramètre technique

Modèle

TN-MS500S-2TA1S

Table d'échantillonnage

Taille

150 mm dia.

Chauffage

≤ 500 ℃


Vitesse de rotation

1-20r / min

Contrôle de la température

± 1 ℃

Tête de pulvérisation de magnétron

Quantité

2 pouces × 2

Mode de refroidissement

Refroidi à l'eau

Évaporation thermique

Source de l'évaporateur

Panier en fil de tungstène

Température maximale

1500 ℃

Thermocouple

Type s



Chambre à vide

Taille

300 mmdia. × 300 mmh

Fenêtre

100 mm de diamètre.

Matériel

304 Sus

Mode ouvert

Porte d'ouverture avant


Système d'aspirateur

Pompe mécanique

Pompe à palette rotative

Interface d'extraction

KF16

Pompage

1,1L / s



Pompe moléculaire

Turbo-pompe moléculaire

Interface d'extraction

CF150

Pompage

600L / s

Interface d'échappement

Kf40

Jauge à vide

Gauge de résistance + jauge d'ionisation



Degré de vide ultime

1,3x10-4pa

Alimentation électrique

AC; 220V 50 / 60Hz

Power Sputter S Upply

Alimentation CC

1 set

Puissance de sortie

≤1000W

Tension de sortie

≤600W

Temps de réponse

< 5 ms

Alimentation RF

1 set

Puissance de sortie

≤1000W

Stabilité de puissance

≤5W



Fréquence RF

13,56 MHz

Stabilité RF


± 0,005%

Gauge d'épaisseur de film

Résolution

± 0,03 Hz

Précision

± 0,5%

Limite de plage supérieure


50000

Vitesse

100 ~ 1000 ms

Système refroidi par l'eau

Volume de réservoir

9L

Couler

10L / min

Système de gaz

Type de débitmètre

MFC (flux de masse)

Gamme

200SCCM

Type de gaz

Ardente




Autre

Approvisionnement en entrée

AC220V, 50Hz

Taille

1400x750x1300 mm

Puissance totale

4KW (HOST + pompe à vide)

Poids

295 kg

Un nouveau tableau d'échantillons est disponible

Échantillon

Taille

Pour dia.150 mm échantillon max.

Hauteur

70 mm réglable


Vitesse de rotation

1 ~ 20rpm

Chauffage

0 ~ 500 ℃


La double machine à revêtement composite de magnétron à double cible et d'évaporation thermique est une solution de pointe conçue pour des applications de revêtement avancées. L'une de ses caractéristiques remarquables est le fonctionnement de l'écran tactile intuitif, complété par un compteur de commande de température pour une détection précise. Cette interface de paramètres numériques et le mode de fonctionnement automatique offrent aux utilisateurs une plate-forme exceptionnelle pour la recherche et le développement, rationalisant le processus de revêtement et améliorant la productivité.


Construit avec une chambre à vide en acier inoxydable 304, cette machine possède un design esthétiquement agréable ainsi que de l'artisanat fin. La chambre comprend une fenêtre d'observation et un déflecteur, permettant aux utilisateurs de surveiller efficacement le processus de revêtement. La bride principale d'étanchéité est une bride de scellage à vide à vide élevée, assurant des performances de vide supérieures. Chaque interface de la chambre à vide est scellée avec un anneau de joint en caoutchouc durable, ce qui contribue considérablement au maintien de l'intégrité du vide et, par conséquent, à la qualité des revêtements produits.


En termes de fonctionnalités, la machine dispose d'un arrangement cible unique où la cible est positionnée au bas de la cavité, face vers le haut. Cette conception est associée à une table d'échantillon qui peut chauffer et tourner, facilitant un effet de revêtement plus uniforme sur différents substrats. Cette capacité est essentielle pour obtenir des résultats cohérents, en particulier dans les processus de revêtement complexes.


Le système d'acquisition de vide est un autre point fort, en utilisant un groupe de pompe à vide en deux étapes. La pompe à support est une pompe mécanique à grande vitesse qui réduit efficacement le temps nécessaire pour passer de la pression atmosphérique au faible vide. La pompe principale, une pompe moléculaire de turbine, améliore ce processus avec sa vitesse de pompage élevée, garantissant une acquisition rapide de vide. Ensemble, ces composants créent un environnement de vide propre et efficace, qui est essentiel pour atteindre des revêtements de haute qualité dans diverses applications. Dans l'ensemble, cette machine représente une progression importante dans la technologie du revêtement, combinant des fonctionnalités conviviales avec des performances robustes.


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