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Machine de pulvérisation magnétron à trois cibles avec alimentation 500 W DC pour la préparation de films métalliques

Le revêtement par pulvérisation magnétron DC peut être utilisé pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, des films semi-conducteurs, des films céramiques, des films diélectriques, des films optiques, des films d'oxyde, des films durs, des films PTFE, etc. .Comparée à un équipement similaire, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-MSP300S-3DC

  • TN

La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est équipée de trois cibles, permettant le dépôt simultané de différents matériaux, ce qui la rend très polyvalente et efficace.La coucheuse fonctionne selon le principe de pulvérisation magnétron DC, garantissant un dépôt de film uniforme et de haute qualité.


Grâce à sa technologie avancée et à son système de contrôle précis, cette coucheuse par pulvérisation magnétron offre un contrôle exceptionnel de l'épaisseur du film, allant de quelques nanomètres à quelques micromètres.Ses paramètres réglables permettent de personnaliser les propriétés du film, telles que la densité, la composition et la force d'adhésion.


La conception compacte et l'interface conviviale de la coucheuse la rendent facile à utiliser et à entretenir.Il est équipé de fonctions de sécurité, notamment d'une protection contre les surintensités et les surtensions, garantissant un environnement de travail sécurisé.


Que vous soyez dans la recherche et le développement, le milieu universitaire ou la production industrielle, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est un outil indispensable pour la préparation de films métalliques de haute qualité.Sa polyvalence, son efficacité et son contrôle précis le rendent adapté à un large éventail d'applications, notamment l'électronique, l'optique, le stockage d'énergie, etc.


Investissez dans cette coucheuse de qualité professionnelle et débloquez des possibilités infinies en matière de dépôt de couches minces.Bénéficiez de performances, de fiabilité et de productivité supérieures avec notre coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles.

Étape d'échantillonnage

Taille

Dia.140mm

Température de chauffage

Maximum 500 ℃

Précision de la température

±1 ℃

Vitesse rotationnelle

1-20 tr/min réglable

Tête de pulvérisation magnétron

Quantité

2'×3 (1',2' en option)

Mode refroidissement

Eau froide

Refroidisseur d'eau

Refroidisseur d'eau à circulation avec un débit de 10L/min

Chambre à vide

Taille de la chambre

Diamètre 300 mm × 300 mm

Matériau de la chambre

Acier inoxydable

Fenêtre de montre

Dia.100mm

Mode d'ouverture

Capot supérieur ouvert

Débitmètre massique

2 canaux ;plage de mesure 100SCCM ;100SCCM (peut   être personnalisé selon les besoins du client)

Système de vide

Modèle

TN-GZK103-A

Pompe moléculaire

TN-600

Pompe de support

Pompe à palettes

Vide ultime

1,0E-5Pa

Interface de pompage

CF160

Interface d'échappement

KF40

Mesure du vide

Jauge à vide composée

Source de courant

CA ; 220 V   50/60Hz

Taux de pompage

Pompe moléculaire : Pompe à palettes rotatives 600L/S :   1,1L/S  

Performances complètes de pompage de gaz : vide jusqu'à   1,0E-3Pa en 20 minutes

Configuration de l'alimentation

Quantité

Alimentation CC x2

Alimentation RF x1

Puissance de sortie maximale

CC 500 W, RF 500 W

Autres paramètres

Tension d'alimentation

AC220V, 50Hz

Pouvoir total

4KW

Taille globale

600 mm × 650 mm × 1280 mm

Poids total

Environ 300 kg



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