| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP180G-ALDC
TN
Le revêtement de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau avec chambre en acier inoxydable est très approprié pour le placage d'aluminium et d'autres matériaux très sensibles à l'air.Cet équipement de pulvérisation magnétron a une structure compacte et un fonctionnement parfait. Il est facile à utiliser et convient parfaitement à divers tests de revêtement.
Cet équipement de revêtement par pulvérisation magnétron est une machine de revêtement par pulvérisation magnétron à tête unique de bureau.La conception miniaturisée de l'équipement limite l'apparence de l'équipement au niveau du bureau, réduisant considérablement les exigences du site d'installation.L'équipement est équipé d'une alimentation CC haute performance avec fonction de raffinage de la cible, qui peut éliminer efficacement la couche d'oxyde à la surface de la cible en aluminium.cette coucheuse par pulvérisation magnétron est très adaptée au placage d'aluminium et à d'autres matériaux très sensibles à l'air.Cet équipement a une structure compacte et un fonctionnement parfait, est facile à utiliser et convient parfaitement à divers tests de revêtement.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Étape d'échantillonnage | Taille | φ100mm |
Vitesse de rotation | 0-20 tr/min réglable | |
Chauffage | Max.500℃ | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'x1 |
Chambre à vide | Taille de la chambre | φ180 mm x 215 mm |
Fenêtre d'observation | Transparent omnidirectionnel | |
Matériau de la chambre | Quartz de haute pureté | |
Méthode ouverte | Couche supérieure amovible | |
Système de vide | Pompe mécanique | Pompe à palettes |
Port de pompage | KF16 | |
Interface d'échappement | KF16 | |
Pompe moléculaire | Pompe turbomoléculaire | |
Port de pompage | KF40 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge de résistance + jauge d'ionisation | |
Vide ultime | 1,0E-4Pa | |
Source de courant | CA 220 V 50/60 Hz | |
Taux de pompage | Pompe mécanique 1,1L/s Pompe moléculaire 600L/s | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x1 |
Max.puissance de sortie | Alimentation CC 500W | |
Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz | |
Autres | Pouvoir total | 2 kW |
Taille globale | 550 mm x 350 mm x 500 mm |
Le revêtement de pulvérisation magnétron à tête unique de bureau avec chambre en acier inoxydable est très approprié pour le placage d'aluminium et d'autres matériaux très sensibles à l'air.Cet équipement de pulvérisation magnétron a une structure compacte et un fonctionnement parfait. Il est facile à utiliser et convient parfaitement à divers tests de revêtement.
Cet équipement de revêtement par pulvérisation magnétron est une machine de revêtement par pulvérisation magnétron à tête unique de bureau.La conception miniaturisée de l'équipement limite l'apparence de l'équipement au niveau du bureau, réduisant considérablement les exigences du site d'installation.L'équipement est équipé d'une alimentation CC haute performance avec fonction de raffinage de la cible, qui peut éliminer efficacement la couche d'oxyde à la surface de la cible en aluminium.cette coucheuse par pulvérisation magnétron est très adaptée au placage d'aluminium et à d'autres matériaux très sensibles à l'air.Cet équipement a une structure compacte et un fonctionnement parfait, est facile à utiliser et convient parfaitement à divers tests de revêtement.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Étape d'échantillonnage | Taille | φ100mm |
Vitesse de rotation | 0-20 tr/min réglable | |
Chauffage | Max.500℃ | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'x1 |
Chambre à vide | Taille de la chambre | φ180 mm x 215 mm |
Fenêtre d'observation | Transparent omnidirectionnel | |
Matériau de la chambre | Quartz de haute pureté | |
Méthode ouverte | Couche supérieure amovible | |
Système de vide | Pompe mécanique | Pompe à palettes |
Port de pompage | KF16 | |
Interface d'échappement | KF16 | |
Pompe moléculaire | Pompe turbomoléculaire | |
Port de pompage | KF40 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge de résistance + jauge d'ionisation | |
Vide ultime | 1,0E-4Pa | |
Source de courant | CA 220 V 50/60 Hz | |
Taux de pompage | Pompe mécanique 1,1L/s Pompe moléculaire 600L/s | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x1 |
Max.puissance de sortie | Alimentation CC 500W | |
Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz | |
Autres | Pouvoir total | 2 kW |
Taille globale | 550 mm x 350 mm x 500 mm |
