| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS
TN
Présentation de notre coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles de pointe, conçue pour les applications de revêtement de précision dans diverses industries. Cette coucheuse avancée est équipée des dernières technologies pour produire des films multicouches et classés de haute qualité, des films d'alliage complexe et des films d'alliage magnétiques avec une précision et une efficacité exceptionnelles.
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est capable de déposer une large gamme de matériaux, notamment des alliages aluminium-cuivre, des films de silicium-germanium, du permalloy (nickel-fer) et du CoFeB (cobalt-fer-bore). Ces matériaux sont essentiels à la production de cellules solaires à couches minces, ainsi que d'autres dispositifs électroniques et optiques.
Avec ses capacités polyvalentes et ses performances supérieures, notre coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est la solution idéale pour les laboratoires de recherche et développement, les universités et les fabricants industriels qui cherchent à obtenir des revêtements précis et uniformes sur divers substrats. Investissez dès aujourd’hui dans notre coucheuse de pointe et découvrez la différence de qualité et d’efficacité qu’elle peut apporter à vos processus de production.
Produit nom | Automatique revêtement par pulvérisation magnétron à trois cibles sous vide poussé contrôlé par programme instrument pour film d'oxyde | |
Produit modèle | TN-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
Pouvoir tension d'alimentation | AC220V, 50Hz | |
Complet pouvoir | 6KW | |
Système vide | ≦5×10-4Pa | |
Échantillon scène | Dimensions | φ150mm |
Chauffage température | ≦850℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ | |
Adjustable vitesse | ≦20 tr/min | |
Magnétron Cible de pulvérisation | Cible taille | Diamètre Φ50,8 mm, épaisseur ≦3 mm |
Refroidissement mode | Circulé refroidissement par eau | |
Eau taille du débit | Not moins de 10L/Min | |
Quantité | 3 | |
Vide chambre | Cavité taille | Diamètre φ325mm |
Cavité matériel | SUU304 acier inoxydable | |
Observation fenêtre | Diamètre φ100mm | |
Ouverture méthode | Haut ouverture | |
Gaz contrôle | 1 Le débitmètre massique est utilisé pour contrôler le débit d'Ar, avec une plage de 200 SCCM | |
Vide système | Équipé avec 1 système de pompe moléculaire, vitesse de pompage du gaz 600L/S | |
Film mesure d'épaisseur | Facultatif Mesureur d'épaisseur de film de cristal de quartz, résolution 0,10 Å | |
Pulvérisation alimentation | Équipé avec alimentation CC, puissance 500 W * 2 alimentation RF 300 W | |
Contrôle système | CYKY système de contrôle professionnel auto-développé | |
Équipement dimensions | 570mm×1040mm×1700mm | |
Équipement poids | 350 kg | |
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles pour films minces d'alliage est un équipement hautement spécialisé conçu pour le dépôt de compositions d'alliages complexes et de structures multicouches. En utilisant trois cibles différentes, ce système permet la création de films d'alliage précis et de matériaux en couches aux propriétés adaptées. Voici les principaux domaines dans lesquels ce type de machine est disponible et couramment utilisé :
Films multicouches et calibrés: La configuration à trois cibles est idéale pour le dépôt de films multicouches ou gradués, où différents matériaux peuvent être déposés séquentiellement ou simultanément. Ceci est crucial dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés, notamment des transistors, des condensateurs et des interconnexions.
Films d'alliage complexes: En microélectronique, des films d'alliages présentant des propriétés électriques et thermiques spécifiques sont souvent nécessaires. Un système à trois cibles permet de contrôler précisément la composition de ces alliages, comme les alliages aluminium-cuivre ou les films silicium-germanium.
Revêtements antireflets et réfléchissants: La machine peut déposer des revêtements optiques complexes, notamment ceux avec des indices de réfraction dégradés ou des empilements multicouches. Ces revêtements sont essentiels pour les lentilles, les miroirs et les filtres optiques dans une large gamme d'applications.
Miroirs gazouillés et séparateurs de faisceau: Ces composants nécessitent souvent des couches multi-matériaux complexes, qui peuvent être créées efficacement à l'aide de trois cibles différentes.
Films en alliage magnétique: La pulvérisation cathodique à trois cibles est utilisée pour déposer des films d'alliages magnétiques, tels que le permalloy (nickel-fer) ou le CoFeB (cobalt-fer-bore), qui sont essentiels à la production de dispositifs de stockage magnétique, de capteurs et de composants spintroniques.
Structures spintroniques: La capacité de créer des couches de matériaux magnétiques et non magnétiques est essentielle pour les dispositifs spintroniques, qui exploitent le spin des électrons pour le stockage de données et les opérations logiques.
Cellules solaires à couches minces: Dans la production de cellules solaires à couches minces, telles que les cellules CIGS (séléniure de cuivre-indium-gallium) ou CZTS (sulfure de cuivre-zinc-étain), un système à trois cibles est essentiel pour le dépôt de couches absorbantes en alliages complexes et d'oxydes conducteurs transparents.
Composants de batterie et de pile à combustible: La pulvérisation à trois cibles est utilisée pour déposer des films d'alliage pour les matériaux d'électrodes dans les batteries et des couches protectrices ou catalytiques dans les piles à combustible, améliorant ainsi l'efficacité et la durabilité de ces dispositifs.
Revêtements d'outillage avancés: Le dispositif de revêtement est utilisé pour créer des revêtements d'alliage durs et résistants à l'usure, tels que le nitrure de titane-aluminium (TiAlN) ou le nitrure de chrome-aluminium (CrAlN), qui sont appliqués sur les outils de coupe, les moules et autres composants mécaniques pour améliorer leur performance.
Revêtements protecteurs: Des revêtements d'alliage offrant une résistance à la corrosion, à l'oxydation ou des barrières thermiques sont déposés à l'aide de ce système pour une utilisation dans les applications aérospatiales, automobiles et industrielles.
Revêtements esthétiques: La machine peut déposer des revêtements multicouches ou en alliage qui offrent à la fois des finitions décoratives et des propriétés fonctionnelles (telles que la résistance aux rayures) sur des produits de consommation tels que l'électronique, les bijoux et les articles ménagers.
Revêtements architecturaux: La pulvérisation à trois cibles est utilisée pour créer des revêtements sur du verre architectural qui améliorent l'efficacité énergétique, la protection UV et l'attrait esthétique.
Développement de nouveaux matériaux: Les chercheurs utilisent des coucheuses par pulvérisation cathodique à trois cibles pour développer et explorer de nouveaux matériaux d'alliage dotés de propriétés électroniques, magnétiques, optiques ou mécaniques spécifiques. La flexibilité du système permet le prototypage rapide de nouveaux matériaux.
Nanostructures et dispositifs à couches minces: Dans la recherche en science des matériaux et en nanotechnologie, la capacité de créer des films complexes à plusieurs composants avec un contrôle précis de la composition et de l'épaisseur est inestimable pour étudier et développer de nouveaux dispositifs à couches minces.
Matériaux supraconducteurs: La machine est utilisée pour déposer des films d'alliage supraconducteurs, tels que NbTi (niobium-titane) ou NbN (nitrure de niobium), destinés à être utilisés dans l'électronique supraconductrice, les aimants et la recherche sur la supraconductivité à haute température.
Revêtements magnétiques avancés: La pulvérisation à trois cibles permet la création d'alliages magnétiques complexes et de multicouches utilisés dans les dispositifs de stockage de données avancés, les capteurs magnétiques et les applications spintroniques.
Revêtements biocompatibles: En génie biomédical, la pulvérisation à trois cibles est utilisée pour déposer des revêtements d'alliages biocompatibles et adaptés aux implants médicaux, tels que des alliages de titane ou des revêtements favorisant la croissance cellulaire.
Biomatériaux fonctionnels: Le système peut également être utilisé pour créer des revêtements dotés de propriétés de surface spécifiques, telles que des surfaces antimicrobiennes ou hydrophiles, pour les dispositifs et instruments médicaux.
Dans l’ensemble, une coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est un outil polyvalent et puissant utilisé dans plusieurs industries et domaines de recherche pour le dépôt de films minces d’alliages complexes et de structures multicouches. Sa capacité à traiter trois matériaux différents simultanément ou en séquence permet le contrôle précis nécessaire au développement de matériaux et de dispositifs avancés aux propriétés sur mesure.
Présentation de notre coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles de pointe, conçue pour les applications de revêtement de précision dans diverses industries. Cette coucheuse avancée est équipée des dernières technologies pour produire des films multicouches et classés de haute qualité, des films d'alliage complexe et des films d'alliage magnétiques avec une précision et une efficacité exceptionnelles.
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est capable de déposer une large gamme de matériaux, notamment des alliages aluminium-cuivre, des films de silicium-germanium, du permalloy (nickel-fer) et du CoFeB (cobalt-fer-bore). Ces matériaux sont essentiels à la production de cellules solaires à couches minces, ainsi que d'autres dispositifs électroniques et optiques.
Avec ses capacités polyvalentes et ses performances supérieures, notre coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est la solution idéale pour les laboratoires de recherche et développement, les universités et les fabricants industriels qui cherchent à obtenir des revêtements précis et uniformes sur divers substrats. Investissez dès aujourd’hui dans notre coucheuse de pointe et découvrez la différence de qualité et d’efficacité qu’elle peut apporter à vos processus de production.
Produit nom | Automatique revêtement par pulvérisation magnétron à trois cibles sous vide poussé contrôlé par programme instrument pour film d'oxyde | |
Produit modèle | TN-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
Pouvoir tension d'alimentation | AC220V, 50Hz | |
Complet pouvoir | 6KW | |
Système vide | ≦5×10-4Pa | |
Échantillon scène | Dimensions | φ150mm |
Chauffage température | ≦850℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ | |
Adjustable vitesse | ≦20 tr/min | |
Magnétron Cible de pulvérisation | Cible taille | Diamètre Φ50,8 mm, épaisseur ≦3 mm |
Refroidissement mode | Circulé refroidissement par eau | |
Eau taille du débit | Not moins de 10L/Min | |
Quantité | 3 | |
Vide chambre | Cavité taille | Diamètre φ325mm |
Cavité matériel | SUU304 acier inoxydable | |
Observation fenêtre | Diamètre φ100mm | |
Ouverture méthode | Haut ouverture | |
Gaz contrôle | 1 Le débitmètre massique est utilisé pour contrôler le débit d'Ar, avec une plage de 200 SCCM | |
Vide système | Équipé avec 1 système de pompe moléculaire, vitesse de pompage du gaz 600L/S | |
Film mesure d'épaisseur | Facultatif Mesureur d'épaisseur de film de cristal de quartz, résolution 0,10 Å | |
Pulvérisation alimentation | Équipé avec alimentation CC, puissance 500 W * 2 alimentation RF 300 W | |
Contrôle système | CYKY système de contrôle professionnel auto-développé | |
Équipement dimensions | 570mm×1040mm×1700mm | |
Équipement poids | 350 kg | |
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles pour films minces d'alliage est un équipement hautement spécialisé conçu pour le dépôt de compositions d'alliages complexes et de structures multicouches. En utilisant trois cibles différentes, ce système permet la création de films d'alliage précis et de matériaux en couches aux propriétés adaptées. Voici les principaux domaines dans lesquels ce type de machine est disponible et couramment utilisé :
Films multicouches et calibrés: La configuration à trois cibles est idéale pour le dépôt de films multicouches ou gradués, où différents matériaux peuvent être déposés séquentiellement ou simultanément. Ceci est crucial dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés, notamment des transistors, des condensateurs et des interconnexions.
Films d'alliage complexes: En microélectronique, des films d'alliages présentant des propriétés électriques et thermiques spécifiques sont souvent nécessaires. Un système à trois cibles permet de contrôler précisément la composition de ces alliages, comme les alliages aluminium-cuivre ou les films silicium-germanium.
Revêtements antireflets et réfléchissants: La machine peut déposer des revêtements optiques complexes, notamment ceux avec des indices de réfraction dégradés ou des empilements multicouches. Ces revêtements sont essentiels pour les lentilles, les miroirs et les filtres optiques dans une large gamme d'applications.
Miroirs gazouillés et séparateurs de faisceau: Ces composants nécessitent souvent des couches multi-matériaux complexes, qui peuvent être créées efficacement à l'aide de trois cibles différentes.
Films en alliage magnétique: La pulvérisation cathodique à trois cibles est utilisée pour déposer des films d'alliages magnétiques, tels que le permalloy (nickel-fer) ou le CoFeB (cobalt-fer-bore), qui sont essentiels à la production de dispositifs de stockage magnétique, de capteurs et de composants spintroniques.
Structures spintroniques: La capacité de créer des couches de matériaux magnétiques et non magnétiques est essentielle pour les dispositifs spintroniques, qui exploitent le spin des électrons pour le stockage de données et les opérations logiques.
Cellules solaires à couches minces: Dans la production de cellules solaires à couches minces, telles que les cellules CIGS (séléniure de cuivre-indium-gallium) ou CZTS (sulfure de cuivre-zinc-étain), un système à trois cibles est essentiel pour le dépôt de couches absorbantes en alliages complexes et d'oxydes conducteurs transparents.
Composants de batterie et de pile à combustible: La pulvérisation à trois cibles est utilisée pour déposer des films d'alliage pour les matériaux d'électrodes dans les batteries et des couches protectrices ou catalytiques dans les piles à combustible, améliorant ainsi l'efficacité et la durabilité de ces dispositifs.
Revêtements d'outillage avancés: Le dispositif de revêtement est utilisé pour créer des revêtements d'alliage durs et résistants à l'usure, tels que le nitrure de titane-aluminium (TiAlN) ou le nitrure de chrome-aluminium (CrAlN), qui sont appliqués sur les outils de coupe, les moules et autres composants mécaniques pour améliorer leur performance.
Revêtements protecteurs: Des revêtements d'alliage offrant une résistance à la corrosion, à l'oxydation ou des barrières thermiques sont déposés à l'aide de ce système pour une utilisation dans les applications aérospatiales, automobiles et industrielles.
Revêtements esthétiques: La machine peut déposer des revêtements multicouches ou en alliage qui offrent à la fois des finitions décoratives et des propriétés fonctionnelles (telles que la résistance aux rayures) sur des produits de consommation tels que l'électronique, les bijoux et les articles ménagers.
Revêtements architecturaux: La pulvérisation à trois cibles est utilisée pour créer des revêtements sur du verre architectural qui améliorent l'efficacité énergétique, la protection UV et l'attrait esthétique.
Développement de nouveaux matériaux: Les chercheurs utilisent des coucheuses par pulvérisation cathodique à trois cibles pour développer et explorer de nouveaux matériaux d'alliage dotés de propriétés électroniques, magnétiques, optiques ou mécaniques spécifiques. La flexibilité du système permet le prototypage rapide de nouveaux matériaux.
Nanostructures et dispositifs à couches minces: Dans la recherche en science des matériaux et en nanotechnologie, la capacité de créer des films complexes à plusieurs composants avec un contrôle précis de la composition et de l'épaisseur est inestimable pour étudier et développer de nouveaux dispositifs à couches minces.
Matériaux supraconducteurs: La machine est utilisée pour déposer des films d'alliage supraconducteurs, tels que NbTi (niobium-titane) ou NbN (nitrure de niobium), destinés à être utilisés dans l'électronique supraconductrice, les aimants et la recherche sur la supraconductivité à haute température.
Revêtements magnétiques avancés: La pulvérisation à trois cibles permet la création d'alliages magnétiques complexes et de multicouches utilisés dans les dispositifs de stockage de données avancés, les capteurs magnétiques et les applications spintroniques.
Revêtements biocompatibles: En génie biomédical, la pulvérisation à trois cibles est utilisée pour déposer des revêtements d'alliages biocompatibles et adaptés aux implants médicaux, tels que des alliages de titane ou des revêtements favorisant la croissance cellulaire.
Biomatériaux fonctionnels: Le système peut également être utilisé pour créer des revêtements dotés de propriétés de surface spécifiques, telles que des surfaces antimicrobiennes ou hydrophiles, pour les dispositifs et instruments médicaux.
Dans l’ensemble, une coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est un outil polyvalent et puissant utilisé dans plusieurs industries et domaines de recherche pour le dépôt de films minces d’alliages complexes et de structures multicouches. Sa capacité à traiter trois matériaux différents simultanément ou en séquence permet le contrôle précis nécessaire au développement de matériaux et de dispositifs avancés aux propriétés sur mesure.
