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|---|---|
TN-MSP190S-1T-UD
TN
La coucheuse de pulvérisation magnétron à cible inférieure de bureau utilise une technologie avancée de pulvérisation magnétron, permettant un dépôt de film efficace et fiable.Grâce à son interface conviviale, les opérateurs peuvent facilement contrôler les paramètres de dépôt et surveiller le processus de revêtement en temps réel.
Cette coucheuse est capable de déposer des films sur divers substrats, notamment le verre, le silicium et le métal.Il propose une large gamme de matériaux de dépôt, tels que des métaux, des alliages et des oxydes, offrant une flexibilité pour différentes applications de recherche et industrielles.
La coucheuse par pulvérisation magnétron garantit une excellente qualité de film, avec une adhérence élevée, une épaisseur uniforme et une faible rugosité de surface.Il permet un contrôle précis de la composition et de l’épaisseur du film, ce qui permet d’obtenir des propriétés de film cohérentes et reproductibles.
Grâce à sa conception compacte, cette coucheuse de bureau convient aux laboratoires, aux instituts de recherche et aux installations de production à petite échelle.Il nécessite un espace d'installation minimal et peut être facilement intégré aux configurations existantes.
En résumé, la coucheuse par pulvérisation magnétron à cible inférieure de bureau pour film sensible avec une chambre en acier inoxydable offre des capacités avancées de dépôt de film, un contrôle précis des paramètres de revêtement et une excellente qualité de film.C'est un choix idéal pour les chercheurs et les professionnels à la recherche de solutions de dépôt de couches minces fiables et efficaces.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Nom du produit | Machine de pulvérisation par pulvérisation à cible unique et fond de bureau en acier inoxydable cavité |
modèle du produit | TN-MSP190S-1T-UD (sous) |
Conditions d'installation | 1, température de l'environnement de travail : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % RH ± 10 % RH ; 2, alimentation de l'équipement : AC220V, 50 Hz, doit être bien mise à la terre ; 3, puissance nominale : 1000 W ; 4, Équipement pour le gaz ： La chambre de l'équipement doit être remplie de gaz argon pour le nettoyage. Le client doit préparer du gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5, exigences de taille de table : 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacité portante ≥ 50 kg ; 6, la position doit être bien ventilée et refroidie. |
Indicateurs techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 300 W ; tension de sortie maximale 600 V, limité sortie courant 500mA 2. Cible magnétron : cible d'équilibre de 2 pouces, déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible approprié : φ50 mm x 3 mm d'épaisseur 4、Taille de la cavité：à l'extérieur diamètre 194, diamètre intérieur 186 mm x hauteur 230 mm 5. Matériau de la cavité : acier inoxydable 304 6、 Échantillon de chauffage rotatif tableau：faire pivoter vitesse 1 ~ 20 tr/min réglable en continu ; température de chauffage maximale 500 ℃, le plus bas recommandé taux de chauffage 10 ℃/min, le plus élevé recommandé taux de chauffage 20℃/min. 7、 Mode de refroidissement ：cible magnétique et la pompe moléculaire nécessite un refroidisseur d'eau à circulation 8. Machine de refroidissement par eau : volume du réservoir 9 L, débit 10 L/min. 9. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, type de gaz Argon, débit 1 ~ 30 sccm (personnalisable) 10、 Précision du débitmètre ：±1,5% plage de mesure 11、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF25 12、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces 13. L'écran tactile est de couleur 7 pouces écran tactile 14、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 15、 protection de sécurité : surintensité, vide trop faible coupe automatiquement le courant de pulvérisation 16、 Vide ultime : 5E-4Pa (moléculaire correspondant pompe); 17、Vide la mesure est une jauge à vide Parana, la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1, pulvérisation magnétron a un vide de travail élevé, généralement inférieur à 2 Pa, et doit être utilisé avec pompe moléculaire. 2, afin d'atteindre un environnement sans oxygène élevé, la chambre à vide doit être nettoyée au moins 3 fois avec du gaz inerte de haute pureté. 3, la pulvérisation magnétron est sensible à l'entrée d'air, un débitmètre massique est donc nécessaire pour contrôler l'air admission |
Facultatif accessoire | |
Film épaisseur Moniteur | 1, résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2, précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, en particulier la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et densité 3, vitesse de mesure : 100 ms-1 s/fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4, cristal de capteur Standard: 6 MHz 5, adapté à la plaquette fréquence: 6 MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm montage bride：CF35 |
Un autre accessoire | · 1, série CY-CZK103 haute performance ensemble de pompes moléculaires (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~105Pa) Ensemble de petites pompes moléculaires série CY-GZK60 (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 2,KF25 Soufflet à vide ;La longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF40 3, mètre d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; |
La coucheuse de pulvérisation magnétron à cible inférieure de bureau utilise une technologie avancée de pulvérisation magnétron, permettant un dépôt de film efficace et fiable.Grâce à son interface conviviale, les opérateurs peuvent facilement contrôler les paramètres de dépôt et surveiller le processus de revêtement en temps réel.
Cette coucheuse est capable de déposer des films sur divers substrats, notamment le verre, le silicium et le métal.Il propose une large gamme de matériaux de dépôt, tels que des métaux, des alliages et des oxydes, offrant une flexibilité pour différentes applications de recherche et industrielles.
La coucheuse par pulvérisation magnétron garantit une excellente qualité de film, avec une adhérence élevée, une épaisseur uniforme et une faible rugosité de surface.Il permet un contrôle précis de la composition et de l’épaisseur du film, ce qui permet d’obtenir des propriétés de film cohérentes et reproductibles.
Grâce à sa conception compacte, cette coucheuse de bureau convient aux laboratoires, aux instituts de recherche et aux installations de production à petite échelle.Il nécessite un espace d'installation minimal et peut être facilement intégré aux configurations existantes.
En résumé, la coucheuse par pulvérisation magnétron à cible inférieure de bureau pour film sensible avec une chambre en acier inoxydable offre des capacités avancées de dépôt de film, un contrôle précis des paramètres de revêtement et une excellente qualité de film.C'est un choix idéal pour les chercheurs et les professionnels à la recherche de solutions de dépôt de couches minces fiables et efficaces.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Nom du produit | Machine de pulvérisation par pulvérisation à cible unique et fond de bureau en acier inoxydable cavité |
modèle du produit | TN-MSP190S-1T-UD (sous) |
Conditions d'installation | 1, température de l'environnement de travail : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % RH ± 10 % RH ; 2, alimentation de l'équipement : AC220V, 50 Hz, doit être bien mise à la terre ; 3, puissance nominale : 1000 W ; 4, Équipement pour le gaz ： La chambre de l'équipement doit être remplie de gaz argon pour le nettoyage. Le client doit préparer du gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5, exigences de taille de table : 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacité portante ≥ 50 kg ; 6, la position doit être bien ventilée et refroidie. |
Indicateurs techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 300 W ; tension de sortie maximale 600 V, limité sortie courant 500mA 2. Cible magnétron : cible d'équilibre de 2 pouces, déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible approprié : φ50 mm x 3 mm d'épaisseur 4、Taille de la cavité：à l'extérieur diamètre 194, diamètre intérieur 186 mm x hauteur 230 mm 5. Matériau de la cavité : acier inoxydable 304 6、 Échantillon de chauffage rotatif tableau：faire pivoter vitesse 1 ~ 20 tr/min réglable en continu ; température de chauffage maximale 500 ℃, le plus bas recommandé taux de chauffage 10 ℃/min, le plus élevé recommandé taux de chauffage 20℃/min. 7、 Mode de refroidissement ：cible magnétique et la pompe moléculaire nécessite un refroidisseur d'eau à circulation 8. Machine de refroidissement par eau : volume du réservoir 9 L, débit 10 L/min. 9. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, type de gaz Argon, débit 1 ~ 30 sccm (personnalisable) 10、 Précision du débitmètre ：±1,5% plage de mesure 11、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF25 12、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces 13. L'écran tactile est de couleur 7 pouces écran tactile 14、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 15、 protection de sécurité : surintensité, vide trop faible coupe automatiquement le courant de pulvérisation 16、 Vide ultime : 5E-4Pa (moléculaire correspondant pompe); 17、Vide la mesure est une jauge à vide Parana, la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1, pulvérisation magnétron a un vide de travail élevé, généralement inférieur à 2 Pa, et doit être utilisé avec pompe moléculaire. 2, afin d'atteindre un environnement sans oxygène élevé, la chambre à vide doit être nettoyée au moins 3 fois avec du gaz inerte de haute pureté. 3, la pulvérisation magnétron est sensible à l'entrée d'air, un débitmètre massique est donc nécessaire pour contrôler l'air admission |
Facultatif accessoire | |
Film épaisseur Moniteur | 1, résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2, précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, en particulier la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et densité 3, vitesse de mesure : 100 ms-1 s/fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4, cristal de capteur Standard: 6 MHz 5, adapté à la plaquette fréquence: 6 MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm montage bride：CF35 |
Un autre accessoire | · 1, série CY-CZK103 haute performance ensemble de pompes moléculaires (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~105Pa) Ensemble de petites pompes moléculaires série CY-GZK60 (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 2,KF25 Soufflet à vide ;La longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF40 3, mètre d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; |
