| Quantité: | |
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La coucheuse magnétron à cible unique de bureau est équipée d'une table d'échantillons alternative, permettant un revêtement précis et uniforme.
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique de bureau de haute qualité est parfaite pour les chercheurs et les professionnels dans le domaine du dépôt de couches minces.Grâce à sa technologie avancée et ses performances fiables, il garantit une préparation précise et efficace de divers films minces.
La coucheuse est spécialement conçue pour le dépôt de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs, de films d'alliage et d'autres films minces.Sa technique de pulvérisation magnétron garantit une excellente qualité et uniformité du film.
Équipée d'une table d'échantillons alternative, cette coucheuse offre un contrôle précis du processus de revêtement.La table d'échantillons se déplace d'avant en arrière, assurant une répartition uniforme du matériau pulvérisé sur le substrat.Cette fonctionnalité est essentielle pour obtenir des résultats cohérents et reproductibles.
La machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau est conviviale, avec une interface simple et des commandes intuitives.Il permet un ajustement facile des paramètres de dépôt tels que la puissance de pulvérisation, le temps de dépôt et le débit de gaz.Cela le rend adapté aussi bien aux chercheurs expérimentés qu’aux nouveaux arrivants dans le domaine.
La conception compacte de cette coucheuse la rend idéale pour les laboratoires disposant d’un espace limité.Il peut facilement s’adapter à une paillasse de laboratoire standard, sans compromettre ses performances.Sa construction robuste garantit durabilité et fiabilité à long terme.
En conclusion, la machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau avec table d'échantillons alternative est un outil de qualité professionnelle pour préparer des films minces de haute qualité.Ses fonctionnalités avancées, son interface conviviale et sa conception compacte en font un ajout précieux à toute installation de recherche ou de production.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à cible unique :
Table d'échantillons à mouvement alternatif | taille | 50*100mm | |
Réciproque vitesse | 0 ~ 50 mm/s | ||
Pistolet cible magnétron | Cible avion | Cible plate circulaire | |
Pulvérisation vide | 10 Pa ~ 0,2 Pa | ||
Cible diamètre | 5 centimètres | ||
Cible épaisseur | Recommandé 2 ~ 5 mm | ||
Cible température | ≦65℃ | ||
Chambre à vide | Cavité taille | À propos Φ180 mm × H 215 mm | |
Cavité matériel | Haut quartz de pureté | ||
Observation fenêtre | Omnidirectionnel transparence | ||
Ouverture méthode | Amovible le couvercle supérieur | ||
source de courant | CC source de courant | 150W maximum | |
Quantité | 1 | ||
Système de pompe moléculaire | Première ligne pompe | Rotatif Pompe à palettes | VRD-4 |
Pompage vitesse | 1,1L/S | ||
Ultime vide | 5*10-1Pennsylvanie | ||
Moléculaire pompe | Moléculaire vitesse de pompage | 600 L/S | |
Noté vitesse | 24 000 tr/min | ||
Ultime vide | 5*10-5Pennsylvanie | ||
Vibration valeur | ≦0,1um | ||
Commencer Time | ≦4,5min | ||
Temps d'arrêt | <7min | ||
refroidissement méthode | Refroidissement par eau + refroidissement par air | ||
Refroidisseur d'eau | Refroidissement la température de l'eau | ≦37℃ | |
Refroidissement Débit d'eau | 10L/min | ||
Tension d'alimentation | AC220V 50Hz | ||
La coucheuse magnétron à cible unique de bureau est équipée d'une table d'échantillons alternative, permettant un revêtement précis et uniforme.
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique de bureau de haute qualité est parfaite pour les chercheurs et les professionnels dans le domaine du dépôt de couches minces.Grâce à sa technologie avancée et ses performances fiables, il garantit une préparation précise et efficace de divers films minces.
La coucheuse est spécialement conçue pour le dépôt de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs, de films d'alliage et d'autres films minces.Sa technique de pulvérisation magnétron garantit une excellente qualité et uniformité du film.
Équipée d'une table d'échantillons alternative, cette coucheuse offre un contrôle précis du processus de revêtement.La table d'échantillons se déplace d'avant en arrière, assurant une répartition uniforme du matériau pulvérisé sur le substrat.Cette fonctionnalité est essentielle pour obtenir des résultats cohérents et reproductibles.
La machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau est conviviale, avec une interface simple et des commandes intuitives.Il permet un ajustement facile des paramètres de dépôt tels que la puissance de pulvérisation, le temps de dépôt et le débit de gaz.Cela le rend adapté aussi bien aux chercheurs expérimentés qu’aux nouveaux arrivants dans le domaine.
La conception compacte de cette coucheuse la rend idéale pour les laboratoires disposant d’un espace limité.Il peut facilement s’adapter à une paillasse de laboratoire standard, sans compromettre ses performances.Sa construction robuste garantit durabilité et fiabilité à long terme.
En conclusion, la machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau avec table d'échantillons alternative est un outil de qualité professionnelle pour préparer des films minces de haute qualité.Ses fonctionnalités avancées, son interface conviviale et sa conception compacte en font un ajout précieux à toute installation de recherche ou de production.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à cible unique :
Table d'échantillons à mouvement alternatif | taille | 50*100mm | |
Réciproque vitesse | 0 ~ 50 mm/s | ||
Pistolet cible magnétron | Cible avion | Cible plate circulaire | |
Pulvérisation vide | 10 Pa ~ 0,2 Pa | ||
Cible diamètre | 5 centimètres | ||
Cible épaisseur | Recommandé 2 ~ 5 mm | ||
Cible température | ≦65℃ | ||
Chambre à vide | Cavité taille | À propos Φ180 mm × H 215 mm | |
Cavité matériel | Haut quartz de pureté | ||
Observation fenêtre | Omnidirectionnel transparence | ||
Ouverture méthode | Amovible le couvercle supérieur | ||
source de courant | CC source de courant | 150W maximum | |
Quantité | 1 | ||
Système de pompe moléculaire | Première ligne pompe | Rotatif Pompe à palettes | VRD-4 |
Pompage vitesse | 1,1L/S | ||
Ultime vide | 5*10-1Pennsylvanie | ||
Moléculaire pompe | Moléculaire vitesse de pompage | 600 L/S | |
Noté vitesse | 24 000 tr/min | ||
Ultime vide | 5*10-5Pennsylvanie | ||
Vibration valeur | ≦0,1um | ||
Commencer Time | ≦4,5min | ||
Temps d'arrêt | <7min | ||
refroidissement méthode | Refroidissement par eau + refroidissement par air | ||
Refroidisseur d'eau | Refroidissement la température de l'eau | ≦37℃ | |
Refroidissement Débit d'eau | 10L/min | ||
Tension d'alimentation | AC220V 50Hz | ||
