| Quantité: | |
|---|---|
CY-MSP325S-2DC-1RF
TN
La coucheuse de pulvérisation magnétron en acier inoxydable à trois cibles est équipée d'une chambre en acier inoxydable et de trois cibles de pulvérisation magnétron, permettant un dépôt efficace et précis des matériaux.L'enduction comprend également une jauge d'épaisseur de film, garantissant un contrôle précis de l'épaisseur du film pendant le processus de revêtement.
Grâce à sa technologie avancée de pulvérisation magnétron, cette coucheuse est capable de produire des films minces de haute qualité avec une excellente adhérence et uniformité.La chambre en acier inoxydable offre un environnement propre et stable pour le dépôt du film, minimisant ainsi la contamination et garantissant des résultats cohérents.
Que vous ayez besoin de préparer des films minces d'ITO (oxyde d'étain d'indium) ou d'autres films fonctionnels, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est une solution fiable et polyvalente.Son interface conviviale et ses commandes intuitives le rendent facile à utiliser, même pour les utilisateurs ayant une expérience limitée.
La coucheuse est conçue avec des composants de qualité professionnelle et conçue pour résister à une utilisation continue en laboratoire ou dans un environnement de production.Sa construction robuste et ses performances fiables garantissent une durabilité à long terme et des besoins d'entretien minimes.
Investissez dans la coucheuse par pulvérisation magnétron en acier inoxydable à trois cibles avec jauge d'épaisseur de film pour ITO Indium T et bénéficiez d'un dépôt de film efficace et précis pour une large gamme d'applications.Avec ses fonctionnalités de qualité professionnelle et sa conception conviviale, cette coucheuse est le choix idéal pour les chercheurs, les ingénieurs et les fabricants à la recherche de revêtements en couches minces de haute qualité.
Étape d'échantillonnage | Taille | Dia.140mm |
Température de chauffage | Maximum 500 ℃ | |
Précision de la température | ±1 ℃ | |
Vitesse rotationnelle | 1-20 tr/min réglable | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'×3 (1',2' en option) |
Mode refroidissement | Eau froide | |
Refroidisseur d'eau | Refroidisseur d'eau à circulation avec un débit de 10L/min | |
Chambre à vide | Taille de la chambre | Diamètre 300 mm × 300 mm |
Matériau de la chambre | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | Dia.100mm | |
Mode d'ouverture | Capot supérieur ouvert | |
Débitmètre massique | 2 canaux ;plage de mesure 100SCCM ;100SCCM (peut être personnalisé selon les besoins du client) | |
Système de vide | Modèle | TN-GZK103-A |
Pompe moléculaire | TN-600 | |
Pompe de support | Pompe à palettes | |
Vide ultime | 1,0E-5Pa | |
Interface de pompage | CF160 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge à vide composée | |
Source de courant | CA ; 220 V 50/60Hz | |
Taux de pompage | Pompe moléculaire : 600 L/S Pompe à palettes rotatives : 1,1 L/S Performances complètes de pompage de gaz : vide jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x2 Alimentation RF x1 |
Puissance de sortie maximale | CC 500 W, RF 500 W | |
Autres paramètres | Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz |
Pouvoir total | 4KW | |
Taille globale | 600 mm × 650 mm × 1200 mm | |
Poids total | Environ 350kg | |
La coucheuse de pulvérisation magnétron en acier inoxydable à trois cibles est équipée d'une chambre en acier inoxydable et de trois cibles de pulvérisation magnétron, permettant un dépôt efficace et précis des matériaux.L'enduction comprend également une jauge d'épaisseur de film, garantissant un contrôle précis de l'épaisseur du film pendant le processus de revêtement.
Grâce à sa technologie avancée de pulvérisation magnétron, cette coucheuse est capable de produire des films minces de haute qualité avec une excellente adhérence et uniformité.La chambre en acier inoxydable offre un environnement propre et stable pour le dépôt du film, minimisant ainsi la contamination et garantissant des résultats cohérents.
Que vous ayez besoin de préparer des films minces d'ITO (oxyde d'étain d'indium) ou d'autres films fonctionnels, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est une solution fiable et polyvalente.Son interface conviviale et ses commandes intuitives le rendent facile à utiliser, même pour les utilisateurs ayant une expérience limitée.
La coucheuse est conçue avec des composants de qualité professionnelle et conçue pour résister à une utilisation continue en laboratoire ou dans un environnement de production.Sa construction robuste et ses performances fiables garantissent une durabilité à long terme et des besoins d'entretien minimes.
Investissez dans la coucheuse par pulvérisation magnétron en acier inoxydable à trois cibles avec jauge d'épaisseur de film pour ITO Indium T et bénéficiez d'un dépôt de film efficace et précis pour une large gamme d'applications.Avec ses fonctionnalités de qualité professionnelle et sa conception conviviale, cette coucheuse est le choix idéal pour les chercheurs, les ingénieurs et les fabricants à la recherche de revêtements en couches minces de haute qualité.
Étape d'échantillonnage | Taille | Dia.140mm |
Température de chauffage | Maximum 500 ℃ | |
Précision de la température | ±1 ℃ | |
Vitesse rotationnelle | 1-20 tr/min réglable | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'×3 (1',2' en option) |
Mode refroidissement | Eau froide | |
Refroidisseur d'eau | Refroidisseur d'eau à circulation avec un débit de 10L/min | |
Chambre à vide | Taille de la chambre | Diamètre 300 mm × 300 mm |
Matériau de la chambre | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | Dia.100mm | |
Mode d'ouverture | Capot supérieur ouvert | |
Débitmètre massique | 2 canaux ;plage de mesure 100SCCM ;100SCCM (peut être personnalisé selon les besoins du client) | |
Système de vide | Modèle | TN-GZK103-A |
Pompe moléculaire | TN-600 | |
Pompe de support | Pompe à palettes | |
Vide ultime | 1,0E-5Pa | |
Interface de pompage | CF160 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge à vide composée | |
Source de courant | CA ; 220 V 50/60Hz | |
Taux de pompage | Pompe moléculaire : 600 L/S Pompe à palettes rotatives : 1,1 L/S Performances complètes de pompage de gaz : vide jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x2 Alimentation RF x1 |
Puissance de sortie maximale | CC 500 W, RF 500 W | |
Autres paramètres | Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz |
Pouvoir total | 4KW | |
Taille globale | 600 mm × 650 mm × 1200 mm | |
Poids total | Environ 350kg | |
