| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP325S-2DCRF
TN
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé à trois têtes DC/RF offre une technologie avancée et un contrôle de précision pour un dépôt de film efficace et précis.Grâce à son environnement sous vide poussé, il garantit un processus de revêtement propre et sans contamination.
La coucheuse est équipée de trois têtes de pulvérisation magnétron, permettant le dépôt simultané de plusieurs couches.Cela permet la production de films multicouches complexes avec un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition.
Dotée d'un système de vide de haute qualité, cette coucheuse assure une excellente uniformité et adhérence du film.Les têtes de pulvérisation fournissent une décharge de plasma stable et constante, ce qui se traduit par une densité de film élevée et une faible porosité.
L'équipement est convivial et est livré avec une interface utilisateur qui permet une utilisation et un contrôle faciles.Il propose différents modes de dépôt, notamment la pulvérisation cathodique DC et RF, permettant une flexibilité dans la préparation du film.
Avec sa construction robuste et ses performances fiables, cette coucheuse convient aux laboratoires de recherche et développement, ainsi qu'aux installations de production industrielle.Il constitue une solution rentable pour la fabrication de films optiques multicouches SiO2/Ta2O5 dotés d'excellentes propriétés optiques.
En résumé, la coucheuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé à trois têtes DC/RF est un équipement de qualité professionnelle qui offre un dépôt précis et efficace de films optiques multicouches SiO2/Ta2O5.Ses fonctionnalités avancées et son interface conviviale en font un choix idéal pour diverses applications de couches minces.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Étape d'échantillonnage | Taille | Dia.140mm |
Température de chauffage | Maximum 500 ℃ | |
Précision de la température | ±1 ℃ | |
Vitesse rotationnelle | 1-20 tr/min réglable | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'×3 (1',2' en option) |
Mode refroidissement | Eau froide | |
Refroidisseur d'eau | Refroidisseur d'eau à circulation avec un débit de 10L/min | |
Chambre à vide | Taille de la chambre | Diamètre 300 mm × 300 mm |
Matériau de la chambre | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | Dia.100mm | |
Mode d'ouverture | Capot supérieur ouvert | |
Débitmètre massique | 2 canaux ;plage de mesure 100SCCM ;100SCCM (peut être personnalisé selon les besoins du client) | |
Système de vide | Modèle | TN-GZK103-A |
Pompe moléculaire | TN-600 | |
Pompe de support | Pompe à palettes | |
Vide ultime | 1,0E-5Pa | |
Interface de pompage | CF160 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge à vide composée | |
Source de courant | CA ; 220 V 50/60Hz | |
Taux de pompage | Pompe moléculaire : 600 L/S Pompe à palettes rotatives : 1,1 L/S Performances complètes de pompage de gaz : vide jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x2 Alimentation RF x1 |
Puissance de sortie maximale | CC 500 W, RF 500 W | |
Autres paramètres | Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz |
Pouvoir total | 4KW | |
Taille globale | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Poids total | Environ 300kg | |
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé à trois têtes DC/RF offre une technologie avancée et un contrôle de précision pour un dépôt de film efficace et précis.Grâce à son environnement sous vide poussé, il garantit un processus de revêtement propre et sans contamination.
La coucheuse est équipée de trois têtes de pulvérisation magnétron, permettant le dépôt simultané de plusieurs couches.Cela permet la production de films multicouches complexes avec un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition.
Dotée d'un système de vide de haute qualité, cette coucheuse assure une excellente uniformité et adhérence du film.Les têtes de pulvérisation fournissent une décharge de plasma stable et constante, ce qui se traduit par une densité de film élevée et une faible porosité.
L'équipement est convivial et est livré avec une interface utilisateur qui permet une utilisation et un contrôle faciles.Il propose différents modes de dépôt, notamment la pulvérisation cathodique DC et RF, permettant une flexibilité dans la préparation du film.
Avec sa construction robuste et ses performances fiables, cette coucheuse convient aux laboratoires de recherche et développement, ainsi qu'aux installations de production industrielle.Il constitue une solution rentable pour la fabrication de films optiques multicouches SiO2/Ta2O5 dotés d'excellentes propriétés optiques.
En résumé, la coucheuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé à trois têtes DC/RF est un équipement de qualité professionnelle qui offre un dépôt précis et efficace de films optiques multicouches SiO2/Ta2O5.Ses fonctionnalités avancées et son interface conviviale en font un choix idéal pour diverses applications de couches minces.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron :
Étape d'échantillonnage | Taille | Dia.140mm |
Température de chauffage | Maximum 500 ℃ | |
Précision de la température | ±1 ℃ | |
Vitesse rotationnelle | 1-20 tr/min réglable | |
Tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'×3 (1',2' en option) |
Mode refroidissement | Eau froide | |
Refroidisseur d'eau | Refroidisseur d'eau à circulation avec un débit de 10L/min | |
Chambre à vide | Taille de la chambre | Diamètre 300 mm × 300 mm |
Matériau de la chambre | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | Dia.100mm | |
Mode d'ouverture | Capot supérieur ouvert | |
Débitmètre massique | 2 canaux ;plage de mesure 100SCCM ;100SCCM (peut être personnalisé selon les besoins du client) | |
Système de vide | Modèle | TN-GZK103-A |
Pompe moléculaire | TN-600 | |
Pompe de support | Pompe à palettes | |
Vide ultime | 1,0E-5Pa | |
Interface de pompage | CF160 | |
Interface d'échappement | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge à vide composée | |
Source de courant | CA ; 220 V 50/60Hz | |
Taux de pompage | Pompe moléculaire : 600 L/S Pompe à palettes rotatives : 1,1 L/S Performances complètes de pompage de gaz : vide jusqu'à 1,0E-3Pa en 20 minutes | |
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x2 Alimentation RF x1 |
Puissance de sortie maximale | CC 500 W, RF 500 W | |
Autres paramètres | Tension d'alimentation | AC220V, 50Hz |
Pouvoir total | 4KW | |
Taille globale | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Poids total | Environ 300kg | |
