| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP500S-2DC-1RF
TN
coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles avec UPS pour films minces ferroélectriques multicouches
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est un équipement de revêtement par pulvérisation magnétron rentable développé indépendamment par notre société.Il est standardisé, modulaire et personnalisable
Champs d'application de la coucheuse de pulvérisation magnétron à trois cibles :
Ce dispositif peut être utilisé pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, des films semi-conducteurs, des films céramiques, des films diélectriques, des films optiques, des films d'oxyde, des films durs, des films de PTFE, etc.Comparée à un équipement similaire, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à trois cibles :
Tension d'alimentation | l VCA 220, 60 Hz |
UPS | l 20KVA 16KW, 1 heure de retard l 16 batteries, d'une capacité de 38AH |
Chambre à vide | lDimension : Dia.325 mm * H 385 mm lMatériau: acier inoxydable 304 l Viewport (Fenêtre) : ~4'' (100mm) avec obturateur |
Exemple d'étape | l Porte-échantillon supérieur l Exemple de tableau : Dia.150mm l Taille de l'échantillon : Max.4'' de diamètre lVitesse de rotation : 0-40 tr/min Ajustable l Température de chauffage : jusqu'à 700oC l |
Refroidisseur d'eau | l Débit d'eau : 2,3 m3/h lPuissance : 3P l Capacité de refroidissement : 8250Kcal/h lPuissance de sortie du compresseur : 2,25 KW |
Pistolet de pulvérisation magnétron | l Pistolets de pulvérisation magnétron 3× 2'', avec obturateur automatique l Orientation de pulvérisation vers le haut lDiamètre cible: 2'' l Aimants : aimant de terres rares |
Générateur RF | l Alimentation 3 × RF 300 W avec correspondance automatique lPlage de puissance de sortie : 5W ~ 300W lPuissance réfléchie maximale: 100W l Stabilité de puissance : ±0,1 % lComposante harmonique : ≤-50dbc l Alimentation : Monophasé 187-253 VAC, 50/60HZ lEfficacité : ≥70 % l Facteur de puissance : ≥90 % l Puissance réfléchie (à puissance maximale) : <3W lCourant de charge maximal : 30ARMS lTension de charge maximale : 7500VRMS l Connecteur de sortie RF : 50 Ω, L29 ou personnalisé l Temps de match : 1 à 3 s l Plage de pièces réelles d'impédance adaptée : 0 ~ 80 Ω l Plage de pièces imaginaires d'impédance adaptée :﹣200j~ ﹢200j l Méthode de refroidissement : refroidissement forcé |
Débitmètre massique | l 3 × contrôle du débit massique MFC (Ar, O2 et N2) l Plages de mesure : jusqu'à 20 sccm l Avec vanne(s) d'isolement pneumatique et filtre. |
Contrôle entièrement automatique par PC ou PLC, pour contrôler | l Conserver au minimum 100 recettes l Contrôleur plat 19'' |
coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles avec UPS pour films minces ferroélectriques multicouches
La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est un équipement de revêtement par pulvérisation magnétron rentable développé indépendamment par notre société.Il est standardisé, modulaire et personnalisable
Champs d'application de la coucheuse de pulvérisation magnétron à trois cibles :
Ce dispositif peut être utilisé pour préparer des films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, des films semi-conducteurs, des films céramiques, des films diélectriques, des films optiques, des films d'oxyde, des films durs, des films de PTFE, etc.Comparée à un équipement similaire, cette coucheuse par pulvérisation magnétron à trois cibles est non seulement largement utilisée, mais présente également les avantages d'une petite taille et d'une utilisation facile, et constitue un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à trois cibles :
Tension d'alimentation | l VCA 220, 60 Hz |
UPS | l 20KVA 16KW, 1 heure de retard l 16 batteries, d'une capacité de 38AH |
Chambre à vide | lDimension : Dia.325 mm * H 385 mm lMatériau: acier inoxydable 304 l Viewport (Fenêtre) : ~4'' (100mm) avec obturateur |
Exemple d'étape | l Porte-échantillon supérieur l Exemple de tableau : Dia.150mm l Taille de l'échantillon : Max.4'' de diamètre lVitesse de rotation : 0-40 tr/min Ajustable l Température de chauffage : jusqu'à 700oC l |
Refroidisseur d'eau | l Débit d'eau : 2,3 m3/h lPuissance : 3P l Capacité de refroidissement : 8250Kcal/h lPuissance de sortie du compresseur : 2,25 KW |
Pistolet de pulvérisation magnétron | l Pistolets de pulvérisation magnétron 3× 2'', avec obturateur automatique l Orientation de pulvérisation vers le haut lDiamètre cible: 2'' l Aimants : aimant de terres rares |
Générateur RF | l Alimentation 3 × RF 300 W avec correspondance automatique lPlage de puissance de sortie : 5W ~ 300W lPuissance réfléchie maximale: 100W l Stabilité de puissance : ±0,1 % lComposante harmonique : ≤-50dbc l Alimentation : Monophasé 187-253 VAC, 50/60HZ lEfficacité : ≥70 % l Facteur de puissance : ≥90 % l Puissance réfléchie (à puissance maximale) : <3W lCourant de charge maximal : 30ARMS lTension de charge maximale : 7500VRMS l Connecteur de sortie RF : 50 Ω, L29 ou personnalisé l Temps de match : 1 à 3 s l Plage de pièces réelles d'impédance adaptée : 0 ~ 80 Ω l Plage de pièces imaginaires d'impédance adaptée :﹣200j~ ﹢200j l Méthode de refroidissement : refroidissement forcé |
Débitmètre massique | l 3 × contrôle du débit massique MFC (Ar, O2 et N2) l Plages de mesure : jusqu'à 20 sccm l Avec vanne(s) d'isolement pneumatique et filtre. |
Contrôle entièrement automatique par PC ou PLC, pour contrôler | l Conserver au minimum 100 recettes l Contrôleur plat 19'' |
