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TN-MSP325G-2T-DVC-2DC
TN
Le dispositif de pulvérisation magnétron à double cible est conçu pour fournir un revêtement uniforme et uniforme sur les échantillons SEM de laboratoire.Avec son système à double cible, il permet le dépôt simultané de différents matériaux, permettant la création de structures multicouches complexes.Cette fonctionnalité est particulièrement utile pour étudier les propriétés et le comportement de différents films minces.
La coucheuse utilise la technologie de pulvérisation magnétron DC, qui garantit des taux de dépôt élevés et une excellente qualité de film.Le processus de pulvérisation consiste à bombarder un matériau cible avec des ions à haute énergie, provoquant l'éjection et le dépôt des atomes sur le substrat.Il en résulte un film dense et adhérent avec un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition.
La chambre de transition incluse dans cette coucheuse facilite le transfert des échantillons enduits vers un SEM sans exposition à l'air, minimisant ainsi le risque de contamination.Ceci est crucial pour maintenir l’intégrité des échantillons et obtenir des résultats d’analyse précis.La chambre est conçue avec une interface conviviale, permettant un chargement et un déchargement faciles des échantillons.
Avec sa construction robuste et ses fonctionnalités avancées, la coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible avec chambre de transition est un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques travaillant avec des couches minces.Il offre des capacités de revêtement précises et fiables, permettant la production d'échantillons de haute qualité pour une large gamme d'applications.Que ce soit dans le milieu universitaire ou industriel, cette coucheuse est un atout précieux pour tout laboratoire cherchant à faire progresser ses recherches en science des matériaux et dans les domaines connexes.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à double cible :
Nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron à double cible avec chambre de transition |
Modèle du produit | TN-MSP325G-2T-DVC-2DC (double chambre à vide) |
Conditions de pose | 1. Température de l'environnement de fonctionnement 25 ℃ ± 15 ℃, humidité 55 % RH ± 10 % RH ; 2. Alimentation de l'équipement : AC220V, 50 Hz, doit être bien mise à la terre ; 3. Puissance nominale : 5000 W ; 4. Gaz d'équipement : la chambre de l'équipement doit être remplie d'argon pour le nettoyage et le client doit préparer de l'argon d'une pureté ≥99,99 % ; 5. La taille du lieu est de 1 200 mm × 1 200 mm × 2 000 mm ; 6. La position de placement nécessite une bonne ventilation et une bonne dissipation de la chaleur. |
paramètres techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 500 W x2 ;tension de sortie maximale 600 V, courant de sortie limite 1000 mA 2. Cible magnétron : cible équilibrée de 2 pouces avec déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible Applicable pour la cible magnétron: matériau cible métallique conducteur de φ50mm x 3mm d'épaisseur 4. Taille de la cavité : cavité principale φ325mm x 410mm ;cavité de transition 150x150x150mm 5. Fonction de la chambre : La chambre principale est équipée d'une porte latérale scellée par une bague d'étanchéité, d'une fenêtre d'observation en quartz avec un déflecteur et d'une tige de commande manuelle pour le transfert des échantillons.La chambre de transition est équipée d'un couvercle supérieur avec une fenêtre en quartz scellée par une bague d'étanchéité, d'une tige de poussée à couplage magnétique pour transporter les échantillons dans la chambre principale et d'un système de vide indépendant. 6. Matériau de la cavité : acier inoxydable 304 7. Table d'échantillons de chauffage rotative : La vitesse est réglable en continu de 1 à 20 tr/min ;la température de chauffage peut atteindre 500 °C, et il est recommandé que la vitesse de chauffage soit de 10 °C/min, et la température maximale est de 20 °C/min. 8. Méthode de refroidissement : la cible magnétron et la pompe moléculaire nécessitent un refroidisseur d'eau en circulation ; 9. Refroidisseur d'eau : volume du réservoir d'eau 9L, débit 10L/min 10. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, gaz de type AR, débit 1 ~ 200 sccm (personnalisable) ; 11. Précision du débitmètre : plage de ± 1,5 % 12. L'interface de pompage de la chambre à vide est le CF160 ; 13. L'interface d'entrée d'air est un joint à double virole de 1/4 de pouce ; 14. L'écran est constitué de 14 ordinateurs industriels tout-en-un ; 15. Le courant de pulvérisation peut être ajusté, et la valeur de courant de sécurité de pulvérisation et la valeur de vide de sécurité peuvent être réglées ; 16. Protection de sécurité : le courant de pulvérisation sera automatiquement coupé lorsque la surintensité et le vide sont trop faibles ; 17. Système de vide : la chambre principale est équipée d'un ensemble de pompes moléculaires à vide poussé CY-GZK103 avec une vitesse de pompage de 600 L/s ;la chambre de transition est équipée d'un petit groupe de pompe moléculaire avec une vitesse de pompage de 60 L/s.Les deux ensembles de systèmes de vide peuvent fonctionner et contrôler indépendamment, et les vannes pneumatiques entre les chambres et dans le système de vide sont toutes contrôlées par des programmes, qui peuvent réaliser une action à une touche, pratique et rapide. 18. Vide ultime : 5E-4Pa (avec pompe moléculaire) ; 19. La mesure du vide est une jauge à vide composite et sa plage est : 10-5Pa ~ 105Pa |
Précautions | 1. Afin d'obtenir un environnement sans oxygène plus élevé, la chambre à vide doit être nettoyée avec un gaz inerte de haute pureté au moins 3 fois. 2. La pulvérisation magnétron est plus sensible au volume d'air d'admission et un débitmètre massique doit être utilisé pour contrôler le volume d'air d'admission. 3. Gardez la cavité sous vide lorsque l'équipement n'est pas utilisé. 4. S'il n'a pas été aspiré depuis longtemps, il doit être dégazé lorsqu'il est réutilisé pour améliorer les performances du vide. |
Accessoires optionnels | |
Moniteur d'épaisseur de film | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium) 2. Précision de l'épaisseur du film : ±0,5 %, en fonction des conditions du processus, notamment de la position du capteur, de la contrainte du matériau, de la température et de la densité. 3. Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/temps, la plage de mesure peut être réglée : 500 000Å (aluminium). 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5. Fréquence de puce applicable : 6 MHz Taille de puce applicable : Φ14 mm Bride de montage : CF35 |
Autres accessoires | 1. Ensemble de pompes moléculaires haute performance série TN-CZK103 (y compris un manomètre composé, plage de mesure 10-5 Pa ~ 105 Pa) ; Ensemble de petites pompes moléculaires série TN-GZK60 (y compris un manomètre composé, plage de mesure 10-5Pa ~ 102Pa) Pompe à vide bipolaire à palettes VRD-4 ; 2. Soufflet à vide KF25/40 ;la longueur peut être de 0,5 m, 1 m, 1,5 m ;Support de serrage KF25 3. Oscillateur à cristal du compteur d'épaisseur de film ; |
Le dispositif de pulvérisation magnétron à double cible est conçu pour fournir un revêtement uniforme et uniforme sur les échantillons SEM de laboratoire.Avec son système à double cible, il permet le dépôt simultané de différents matériaux, permettant la création de structures multicouches complexes.Cette fonctionnalité est particulièrement utile pour étudier les propriétés et le comportement de différents films minces.
La coucheuse utilise la technologie de pulvérisation magnétron DC, qui garantit des taux de dépôt élevés et une excellente qualité de film.Le processus de pulvérisation consiste à bombarder un matériau cible avec des ions à haute énergie, provoquant l'éjection et le dépôt des atomes sur le substrat.Il en résulte un film dense et adhérent avec un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition.
La chambre de transition incluse dans cette coucheuse facilite le transfert des échantillons enduits vers un SEM sans exposition à l'air, minimisant ainsi le risque de contamination.Ceci est crucial pour maintenir l’intégrité des échantillons et obtenir des résultats d’analyse précis.La chambre est conçue avec une interface conviviale, permettant un chargement et un déchargement faciles des échantillons.
Avec sa construction robuste et ses fonctionnalités avancées, la coucheuse par pulvérisation magnétron à double cible avec chambre de transition est un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques travaillant avec des couches minces.Il offre des capacités de revêtement précises et fiables, permettant la production d'échantillons de haute qualité pour une large gamme d'applications.Que ce soit dans le milieu universitaire ou industriel, cette coucheuse est un atout précieux pour tout laboratoire cherchant à faire progresser ses recherches en science des matériaux et dans les domaines connexes.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron à double cible :
Nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron à double cible avec chambre de transition |
Modèle du produit | TN-MSP325G-2T-DVC-2DC (double chambre à vide) |
Conditions de pose | 1. Température de l'environnement de fonctionnement 25 ℃ ± 15 ℃, humidité 55 % RH ± 10 % RH ; 2. Alimentation de l'équipement : AC220V, 50 Hz, doit être bien mise à la terre ; 3. Puissance nominale : 5000 W ; 4. Gaz d'équipement : la chambre de l'équipement doit être remplie d'argon pour le nettoyage et le client doit préparer de l'argon d'une pureté ≥99,99 % ; 5. La taille du lieu est de 1 200 mm × 1 200 mm × 2 000 mm ; 6. La position de placement nécessite une bonne ventilation et une bonne dissipation de la chaleur. |
paramètres techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 500 W x2 ;tension de sortie maximale 600 V, courant de sortie limite 1000 mA 2. Cible magnétron : cible équilibrée de 2 pouces avec déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible Applicable pour la cible magnétron: matériau cible métallique conducteur de φ50mm x 3mm d'épaisseur 4. Taille de la cavité : cavité principale φ325mm x 410mm ;cavité de transition 150x150x150mm 5. Fonction de la chambre : La chambre principale est équipée d'une porte latérale scellée par une bague d'étanchéité, d'une fenêtre d'observation en quartz avec un déflecteur et d'une tige de commande manuelle pour le transfert des échantillons.La chambre de transition est équipée d'un couvercle supérieur avec une fenêtre en quartz scellée par une bague d'étanchéité, d'une tige de poussée à couplage magnétique pour transporter les échantillons dans la chambre principale et d'un système de vide indépendant. 6. Matériau de la cavité : acier inoxydable 304 7. Table d'échantillons de chauffage rotative : La vitesse est réglable en continu de 1 à 20 tr/min ;la température de chauffage peut atteindre 500 °C, et il est recommandé que la vitesse de chauffage soit de 10 °C/min, et la température maximale est de 20 °C/min. 8. Méthode de refroidissement : la cible magnétron et la pompe moléculaire nécessitent un refroidisseur d'eau en circulation ; 9. Refroidisseur d'eau : volume du réservoir d'eau 9L, débit 10L/min 10. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, gaz de type AR, débit 1 ~ 200 sccm (personnalisable) ; 11. Précision du débitmètre : plage de ± 1,5 % 12. L'interface de pompage de la chambre à vide est le CF160 ; 13. L'interface d'entrée d'air est un joint à double virole de 1/4 de pouce ; 14. L'écran est constitué de 14 ordinateurs industriels tout-en-un ; 15. Le courant de pulvérisation peut être ajusté, et la valeur de courant de sécurité de pulvérisation et la valeur de vide de sécurité peuvent être réglées ; 16. Protection de sécurité : le courant de pulvérisation sera automatiquement coupé lorsque la surintensité et le vide sont trop faibles ; 17. Système de vide : la chambre principale est équipée d'un ensemble de pompes moléculaires à vide poussé CY-GZK103 avec une vitesse de pompage de 600 L/s ;la chambre de transition est équipée d'un petit groupe de pompe moléculaire avec une vitesse de pompage de 60 L/s.Les deux ensembles de systèmes de vide peuvent fonctionner et contrôler indépendamment, et les vannes pneumatiques entre les chambres et dans le système de vide sont toutes contrôlées par des programmes, qui peuvent réaliser une action à une touche, pratique et rapide. 18. Vide ultime : 5E-4Pa (avec pompe moléculaire) ; 19. La mesure du vide est une jauge à vide composite et sa plage est : 10-5Pa ~ 105Pa |
Précautions | 1. Afin d'obtenir un environnement sans oxygène plus élevé, la chambre à vide doit être nettoyée avec un gaz inerte de haute pureté au moins 3 fois. 2. La pulvérisation magnétron est plus sensible au volume d'air d'admission et un débitmètre massique doit être utilisé pour contrôler le volume d'air d'admission. 3. Gardez la cavité sous vide lorsque l'équipement n'est pas utilisé. 4. S'il n'a pas été aspiré depuis longtemps, il doit être dégazé lorsqu'il est réutilisé pour améliorer les performances du vide. |
Accessoires optionnels | |
Moniteur d'épaisseur de film | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium) 2. Précision de l'épaisseur du film : ±0,5 %, en fonction des conditions du processus, notamment de la position du capteur, de la contrainte du matériau, de la température et de la densité. 3. Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/temps, la plage de mesure peut être réglée : 500 000Å (aluminium). 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5. Fréquence de puce applicable : 6 MHz Taille de puce applicable : Φ14 mm Bride de montage : CF35 |
Autres accessoires | 1. Ensemble de pompes moléculaires haute performance série TN-CZK103 (y compris un manomètre composé, plage de mesure 10-5 Pa ~ 105 Pa) ; Ensemble de petites pompes moléculaires série TN-GZK60 (y compris un manomètre composé, plage de mesure 10-5Pa ~ 102Pa) Pompe à vide bipolaire à palettes VRD-4 ; 2. Soufflet à vide KF25/40 ;la longueur peut être de 0,5 m, 1 m, 1,5 m ;Support de serrage KF25 3. Oscillateur à cristal du compteur d'épaisseur de film ; |
