| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP500S-DCRF-B
TN
Revêtement de pulvérisation magnétron DC RF à double cible avec type de cible inférieure pour le revêtement de métaux nobles
La coucheuse de pulvérisation magnétron DC RF à double cible est équipée d'un système de pulvérisation magnétron DC RF à double cible, permettant un revêtement efficace et précis des métaux nobles.Le type de cible inférieure garantit un revêtement uniforme sur tout le substrat, ce qui entraîne un dépôt de film cohérent et de haute qualité.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse offre une excellente adhérence du film, des taux de dépôt élevés et une faible contrainte du film.Il fournit également une large gamme de paramètres de processus, permettant la personnalisation et l'optimisation des conditions de revêtement.L'interface conviviale et les commandes intuitives facilitent l'utilisation et la surveillance du processus de revêtement.
Cette coucheuse par pulvérisation convient aux laboratoires de recherche et développement, aux universités et aux applications industrielles.Il est idéal pour diverses applications telles que les revêtements optiques, les appareils électroniques, les cellules solaires, les capteurs, etc.Sa construction robuste et ses performances fiables garantissent un fonctionnement durable et efficace.
Dans l’ensemble, la coucheuse par pulvérisation magnétron RF DC à double cible avec type de cible inférieure pour le revêtement métallique noble est une solution polyvalente et fiable pour un dépôt de film précis et de haute qualité.Ses fonctionnalités avancées et sa conception conviviale en font un excellent choix pour les professionnels du domaine.
coucheuse de pulvérisation magnétron paramètre technique :
Modèle | TN-MSP500S-DCRF-B | |
Saisir | AC220V, 50Hz | |
Pouvoir total | 6KW | |
Degré de vide limite | 5x10-4Pa | |
Exemples de paramètres de tableau | Taille | 150 diamètres. |
Hauteur | 70 mm réglable | |
Chauffage | ≤500℃ | |
Vitesse de rotation | 1-20 tr/min | |
Paramètres de la tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2 jeux, 2 pouces |
Mode refroidissement | Refroidi par eau, débit requis 10L/min | |
Refroidisseur d'eau | Refroidissement par eau en circulation 10L/min | |
Chambre à vide | Taille | |
Matériel | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | 100 mm de diamètre. | |
Mode ouvert | porte à ouverture frontale | |
Contrôleur de débit de gaz | 1 canal 200 sccm Ar ; | |
Pompe à vide | Pompage du système de pompe moléculaire, 600L/S | |
Jauge d'épaisseur de film | Jauge d'épaisseur de film vibrant à Quartz, un ensemble, résolution 0,10 Å | |
Alimentation par pulvérisation | Alimentation CC : un jeu, 500 W, pour films métalliques Alimentation RF : un jeu, 500 W, pour films non métalliques | |
Mode de fonctionnement | Fonctionnement informatique tout-en-un | |
Dimensions hors tout | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
Poids total | 350 kg | |
Revêtement de pulvérisation magnétron DC RF à double cible avec type de cible inférieure pour le revêtement de métaux nobles
La coucheuse de pulvérisation magnétron DC RF à double cible est équipée d'un système de pulvérisation magnétron DC RF à double cible, permettant un revêtement efficace et précis des métaux nobles.Le type de cible inférieure garantit un revêtement uniforme sur tout le substrat, ce qui entraîne un dépôt de film cohérent et de haute qualité.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse offre une excellente adhérence du film, des taux de dépôt élevés et une faible contrainte du film.Il fournit également une large gamme de paramètres de processus, permettant la personnalisation et l'optimisation des conditions de revêtement.L'interface conviviale et les commandes intuitives facilitent l'utilisation et la surveillance du processus de revêtement.
Cette coucheuse par pulvérisation convient aux laboratoires de recherche et développement, aux universités et aux applications industrielles.Il est idéal pour diverses applications telles que les revêtements optiques, les appareils électroniques, les cellules solaires, les capteurs, etc.Sa construction robuste et ses performances fiables garantissent un fonctionnement durable et efficace.
Dans l’ensemble, la coucheuse par pulvérisation magnétron RF DC à double cible avec type de cible inférieure pour le revêtement métallique noble est une solution polyvalente et fiable pour un dépôt de film précis et de haute qualité.Ses fonctionnalités avancées et sa conception conviviale en font un excellent choix pour les professionnels du domaine.
coucheuse de pulvérisation magnétron paramètre technique :
Modèle | TN-MSP500S-DCRF-B | |
Saisir | AC220V, 50Hz | |
Pouvoir total | 6KW | |
Degré de vide limite | 5x10-4Pa | |
Exemples de paramètres de tableau | Taille | 150 diamètres. |
Hauteur | 70 mm réglable | |
Chauffage | ≤500℃ | |
Vitesse de rotation | 1-20 tr/min | |
Paramètres de la tête de pulvérisation magnétron | Quantité | 2 jeux, 2 pouces |
Mode refroidissement | Refroidi par eau, débit requis 10L/min | |
Refroidisseur d'eau | Refroidissement par eau en circulation 10L/min | |
Chambre à vide | Taille | |
Matériel | Acier inoxydable | |
Fenêtre de montre | 100 mm de diamètre. | |
Mode ouvert | porte à ouverture frontale | |
Contrôleur de débit de gaz | 1 canal 200 sccm Ar ; | |
Pompe à vide | Pompage du système de pompe moléculaire, 600L/S | |
Jauge d'épaisseur de film | Jauge d'épaisseur de film vibrant à Quartz, un ensemble, résolution 0,10 Å | |
Alimentation par pulvérisation | Alimentation CC : un jeu, 500 W, pour films métalliques Alimentation RF : un jeu, 500 W, pour films non métalliques | |
Mode de fonctionnement | Fonctionnement informatique tout-en-un | |
Dimensions hors tout | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
Poids total | 350 kg | |
