| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP500S-2DC
TN
La coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible est équipée d'une table de jauge d'épaisseur de film spécialement conçue pour les applications de semi-conducteurs.Cette coucheuse de bureau offre des capacités de pulvérisation précises et efficaces, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires de recherche et développement de l'industrie des semi-conducteurs.
La coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible est conçue pour répondre aux exigences exigeantes du dépôt de films semi-conducteurs.Il permet la préparation de films monocouches ou multicouches de haute qualité avec une excellente uniformité et adhérence.Cette coucheuse est capable de déposer des films minces ferroélectriques, des films conducteurs, des films d'alliage et des films composites, offrant ainsi aux chercheurs un outil polyvalent pour leurs besoins en matière de synthèse et de caractérisation de matériaux.
Équipée d'une table de jauge d'épaisseur de film, cette coucheuse permet une surveillance et un contrôle précis de l'épaisseur du film pendant le processus de dépôt.Ceci est particulièrement crucial dans les applications de semi-conducteurs, où une épaisseur de film précise est essentielle pour les performances du dispositif.La table de jauge permet aux chercheurs d'obtenir l'épaisseur de film souhaitée avec une précision et une répétabilité élevées, garantissant des résultats cohérents et facilitant l'optimisation des propriétés du film.
La conception de bureau de cette coucheuse la rend compacte et peu encombrante, ce qui la rend adaptée aux laboratoires disposant d'un espace limité.Malgré son faible encombrement, il offre de puissantes capacités de pulvérisation, grâce à la configuration magnétron CC à double cible.Cela permet un dépôt efficace et uniforme des films, ce qui donne lieu à des revêtements de haute qualité dotés d'excellentes propriétés électriques et optiques.
Avec ses performances professionnelles et fiables, la machine de pulvérisation magnétron DC à double cible de bureau avec table de jauge d'épaisseur de film est un outil indispensable pour la recherche et le développement de semi-conducteurs.Il permet aux chercheurs d’explorer de nouveaux matériaux, d’optimiser les propriétés des films et de faire progresser le développement de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron DC à double cible :
nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron à double cible |
Pulvérisation source de courant | alimentation × 2 alimentation ： 500W |
Chambre à vide | Taille de la chambre：φ300mm×300mm，Matériau de la chambre：Acier inoxydable Fenêtre de montre : φ100 mm Le La méthode d'ouverture de la cavité adopte une ouverture supérieure, ce qui facilite le changement de cible |
Pulvérisation magnétron tête cible | Il y a 2 têtes de pulvérisation magnétron installées dans l'instrument, et ils sont tous équipés d'une couche intermédiaire refroidie à l'eau, qui peut passer dans l'eau de refroidissement pour refroidir le matériau cible.Les deux les têtes de pulvérisation sont connectées à une alimentation CC, et le principal pulvérisation conductrice |
Étape d'échantillonnage | Échantillon taille du support : 140 mm de diamètre.(Un substrat maximum de 4' peut être placé) L'échantillon le support peut tourner à une vitesse de : 1-20 tr/min (réglable) La vitesse la plus élevée la température de chauffage du porte-échantillon est de 500 ℃, et la température la précision du contrôle est de +/- 1,0 °C |
Contrôleur de débit de gaz | Là Si 2 débitmètres massiques sont installés à l'intérieur de l'instrument, la plage est : 0-200 sccm |
Pompe à vide | Équipé avec un ensemble de système de pompe moléculaire, utilisant une opération à un bouton 80L/S |
Système de refroidissement | 16L/min. |
Tension | 220 V 50 Hz |
La coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible est équipée d'une table de jauge d'épaisseur de film spécialement conçue pour les applications de semi-conducteurs.Cette coucheuse de bureau offre des capacités de pulvérisation précises et efficaces, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires de recherche et développement de l'industrie des semi-conducteurs.
La coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible est conçue pour répondre aux exigences exigeantes du dépôt de films semi-conducteurs.Il permet la préparation de films monocouches ou multicouches de haute qualité avec une excellente uniformité et adhérence.Cette coucheuse est capable de déposer des films minces ferroélectriques, des films conducteurs, des films d'alliage et des films composites, offrant ainsi aux chercheurs un outil polyvalent pour leurs besoins en matière de synthèse et de caractérisation de matériaux.
Équipée d'une table de jauge d'épaisseur de film, cette coucheuse permet une surveillance et un contrôle précis de l'épaisseur du film pendant le processus de dépôt.Ceci est particulièrement crucial dans les applications de semi-conducteurs, où une épaisseur de film précise est essentielle pour les performances du dispositif.La table de jauge permet aux chercheurs d'obtenir l'épaisseur de film souhaitée avec une précision et une répétabilité élevées, garantissant des résultats cohérents et facilitant l'optimisation des propriétés du film.
La conception de bureau de cette coucheuse la rend compacte et peu encombrante, ce qui la rend adaptée aux laboratoires disposant d'un espace limité.Malgré son faible encombrement, il offre de puissantes capacités de pulvérisation, grâce à la configuration magnétron CC à double cible.Cela permet un dépôt efficace et uniforme des films, ce qui donne lieu à des revêtements de haute qualité dotés d'excellentes propriétés électriques et optiques.
Avec ses performances professionnelles et fiables, la machine de pulvérisation magnétron DC à double cible de bureau avec table de jauge d'épaisseur de film est un outil indispensable pour la recherche et le développement de semi-conducteurs.Il permet aux chercheurs d’explorer de nouveaux matériaux, d’optimiser les propriétés des films et de faire progresser le développement de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron DC à double cible :
nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron à double cible |
Pulvérisation source de courant | alimentation × 2 alimentation ： 500W |
Chambre à vide | Taille de la chambre：φ300mm×300mm，Matériau de la chambre：Acier inoxydable Fenêtre de montre : φ100 mm Le La méthode d'ouverture de la cavité adopte une ouverture supérieure, ce qui facilite le changement de cible |
Pulvérisation magnétron tête cible | Il y a 2 têtes de pulvérisation magnétron installées dans l'instrument, et ils sont tous équipés d'une couche intermédiaire refroidie à l'eau, qui peut passer dans l'eau de refroidissement pour refroidir le matériau cible.Les deux les têtes de pulvérisation sont connectées à une alimentation CC, et le principal pulvérisation conductrice |
Étape d'échantillonnage | Échantillon taille du support : 140 mm de diamètre.(Un substrat maximum de 4' peut être placé) L'échantillon le support peut tourner à une vitesse de : 1-20 tr/min (réglable) La vitesse la plus élevée la température de chauffage du porte-échantillon est de 500 ℃, et la température la précision du contrôle est de +/- 1,0 °C |
Contrôleur de débit de gaz | Là Si 2 débitmètres massiques sont installés à l'intérieur de l'instrument, la plage est : 0-200 sccm |
Pompe à vide | Équipé avec un ensemble de système de pompe moléculaire, utilisant une opération à un bouton 80L/S |
Système de refroidissement | 16L/min. |
Tension | 220 V 50 Hz |
