| Quantité: | |
|---|---|
TN-MSP180G-1T-A
TN
Cet équipement est un dispositif de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau spécialement conçu pour être utilisé avec des microscopes à balayage.
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron est équipée d'une cavité en quartz, qui garantit une uniformité et une stabilité élevées pendant le processus de revêtement.La cavité en quartz offre également une excellente visibilité, permettant aux utilisateurs de surveiller de près le processus de dépôt.
Avec sa taille de bureau, cette coucheuse est parfaite pour les laboratoires et les installations de recherche disposant d'un espace limité.Sa conception compacte ne compromet pas ses performances, car elle est capable d'obtenir des films minces de haute qualité avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film.
La configuration à cible unique permet un remplacement facile de la cible et permet le dépôt de différents matériaux sans nécessiter de procédures de configuration complexes.Cela rend la coucheuse très polyvalente et adaptée à une large gamme d'applications.
La technique de pulvérisation magnétron utilisée par cette coucheuse garantit un dépôt efficace et uniforme, résultant en des films avec une excellente adhérence et une densité élevée.L'alimentation électrique réglable permet un contrôle précis du processus de pulvérisation, garantissant des propriétés optimales du film.
De plus, cette coucheuse est équipée de fonctionnalités de sécurité avancées, notamment une protection contre les surintensités et un système de verrouillage, garantissant la sécurité de l'utilisateur et de l'équipement.
Dans l’ensemble, la machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau avec cavité en quartz pour microscope à balayage est un outil fiable et efficace pour les chercheurs et les scientifiques dans le domaine du dépôt de couches minces.Sa taille compacte, ses capacités polyvalentes et ses fonctionnalités avancées en font un choix idéal pour diverses applications dans les domaines de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'ingénierie des surfaces.
Nom du produit | Coucheuse de bureau par pulvérisation magnétron à cible unique |
modèle du produit | TN-MSP180G-1T-A |
Conditions d'installation | 1、Environnement de travail température : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % RH ± 10 % RH ; 2. Alimentation de l'équipement : AC220V, 50Hz, doit être bien mise à la terre ; 3. Puissance nominale : 1000 W ; 4. Équipement pour le gaz : la chambre d'équipement doit être rempli de gaz argon pour le nettoyage.Le client doit préparer Gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5. Exigences en matière de taille de table : 600 mm × 600 mm × 700 mm, roulement capacité ≥ 50 kg ； 6、La position devrait être bonne aéré et refroidi. |
Indicateurs techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 300 W ; tension de sortie maximale 600 V, courant de sortie limité 500 mA. 2. Cible magnétron : cible d'équilibre de 2 pouces, déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible approprié : φ50 mm x 3 mm d'épaisseur 4、Taille de la cavité：φ180mm x 200mm 5、 Matériau de la cavité : élevé quartz de pureté 6、 Échantillon de chauffage rotatif tableau：faire pivoter vitesse 1 ~ 20 tr/min réglable en continu ； chauffage maximum température 500 ℃, la plus basse recommandée taux de chauffage 10 ℃/min, le plus élevé recommandé taux de chauffage 20℃/min. 7、 Mode de refroidissement ：cible magnétique et la pompe moléculaire nécessite un refroidisseur d'eau à circulation 8. Machine de refroidissement par eau : volume du réservoir 9 L, débit 10 L/min. 9. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, type de gaz Argon, débit 1 ~ 30 sccm (personnalisable) 10、 Précision du débitmètre ：±1,5% plage de mesure 11、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF25 12、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces 13、 L'écran tactile est de 7 pouces écran tactile couleur 14、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 15、 sécurité protection : surintensité, le vide est trop faible, coupe automatiquement le courant de pulvérisation 16、 Vide ultime : 5E-4Pa (moléculaire correspondant pompe); 17、Vide la mesure est une jauge à vide Parana, la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1. La pulvérisation magnétron a un vide de travail élevé, généralement inférieur à 2 Pa, et doit être utilisé avec pompe moléculaire. 2、Afin d'atteindre un environnement sans oxygène élevé, la chambre à vide doit être nettoyée au moins 3 fois avec du gaz inerte de haute pureté. 3. La pulvérisation magnétron est sensible à l'entrée d'air, un débitmètre massique est donc nécessaire pour contrôler l'air admission |
Facultatif accessoire | |
Film épaisseur Moniteur | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2、Précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, notamment la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et la densité 3. Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5. Convient à la fréquence des plaquettes: 6MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm bride de montage：CF35 |
Un autre accessoire | · 1、CY-CZK103 ensemble de pompes moléculaires haute performance de série (y compris un manomètre composite, plage de mesure 10-5Pa ~ 105Pa) Ensemble de petites pompes moléculaires série CY-GZK60 (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 2. Soufflet à vide KF25 ;Le la longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF25 3. Mesureur d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; 4, acier inoxydable vanne de réglage fin (convient uniquement aux faibles exigences de revêtement) |
Cet équipement est un dispositif de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau spécialement conçu pour être utilisé avec des microscopes à balayage.
Cette coucheuse par pulvérisation magnétron est équipée d'une cavité en quartz, qui garantit une uniformité et une stabilité élevées pendant le processus de revêtement.La cavité en quartz offre également une excellente visibilité, permettant aux utilisateurs de surveiller de près le processus de dépôt.
Avec sa taille de bureau, cette coucheuse est parfaite pour les laboratoires et les installations de recherche disposant d'un espace limité.Sa conception compacte ne compromet pas ses performances, car elle est capable d'obtenir des films minces de haute qualité avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film.
La configuration à cible unique permet un remplacement facile de la cible et permet le dépôt de différents matériaux sans nécessiter de procédures de configuration complexes.Cela rend la coucheuse très polyvalente et adaptée à une large gamme d'applications.
La technique de pulvérisation magnétron utilisée par cette coucheuse garantit un dépôt efficace et uniforme, résultant en des films avec une excellente adhérence et une densité élevée.L'alimentation électrique réglable permet un contrôle précis du processus de pulvérisation, garantissant des propriétés optimales du film.
De plus, cette coucheuse est équipée de fonctionnalités de sécurité avancées, notamment une protection contre les surintensités et un système de verrouillage, garantissant la sécurité de l'utilisateur et de l'équipement.
Dans l’ensemble, la machine de pulvérisation magnétron à cible unique de bureau avec cavité en quartz pour microscope à balayage est un outil fiable et efficace pour les chercheurs et les scientifiques dans le domaine du dépôt de couches minces.Sa taille compacte, ses capacités polyvalentes et ses fonctionnalités avancées en font un choix idéal pour diverses applications dans les domaines de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'ingénierie des surfaces.
Nom du produit | Coucheuse de bureau par pulvérisation magnétron à cible unique |
modèle du produit | TN-MSP180G-1T-A |
Conditions d'installation | 1、Environnement de travail température : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % RH ± 10 % RH ; 2. Alimentation de l'équipement : AC220V, 50Hz, doit être bien mise à la terre ; 3. Puissance nominale : 1000 W ; 4. Équipement pour le gaz : la chambre d'équipement doit être rempli de gaz argon pour le nettoyage.Le client doit préparer Gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5. Exigences en matière de taille de table : 600 mm × 600 mm × 700 mm, roulement capacité ≥ 50 kg ； 6、La position devrait être bonne aéré et refroidi. |
Indicateurs techniques | 1. Alimentation de pulvérisation : alimentation CC 300 W ; tension de sortie maximale 600 V, courant de sortie limité 500 mA. 2. Cible magnétron : cible d'équilibre de 2 pouces, déflecteur de couplage magnétique ; 3. Matériau cible approprié : φ50 mm x 3 mm d'épaisseur 4、Taille de la cavité：φ180mm x 200mm 5、 Matériau de la cavité : élevé quartz de pureté 6、 Échantillon de chauffage rotatif tableau：faire pivoter vitesse 1 ~ 20 tr/min réglable en continu ； chauffage maximum température 500 ℃, la plus basse recommandée taux de chauffage 10 ℃/min, le plus élevé recommandé taux de chauffage 20℃/min. 7、 Mode de refroidissement ：cible magnétique et la pompe moléculaire nécessite un refroidisseur d'eau à circulation 8. Machine de refroidissement par eau : volume du réservoir 9 L, débit 10 L/min. 9. Système d'alimentation en gaz : débitmètre massique, type de gaz Argon, débit 1 ~ 30 sccm (personnalisable) 10、 Précision du débitmètre ：±1,5% plage de mesure 11、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF25 12、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces 13、 L'écran tactile est de 7 pouces écran tactile couleur 14、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 15、 sécurité protection : surintensité, le vide est trop faible, coupe automatiquement le courant de pulvérisation 16、 Vide ultime : 5E-4Pa (moléculaire correspondant pompe); 17、Vide la mesure est une jauge à vide Parana, la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1. La pulvérisation magnétron a un vide de travail élevé, généralement inférieur à 2 Pa, et doit être utilisé avec pompe moléculaire. 2、Afin d'atteindre un environnement sans oxygène élevé, la chambre à vide doit être nettoyée au moins 3 fois avec du gaz inerte de haute pureté. 3. La pulvérisation magnétron est sensible à l'entrée d'air, un débitmètre massique est donc nécessaire pour contrôler l'air admission |
Facultatif accessoire | |
Film épaisseur Moniteur | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2、Précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, notamment la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et la densité 3. Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5. Convient à la fréquence des plaquettes: 6MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm bride de montage：CF35 |
Un autre accessoire | · 1、CY-CZK103 ensemble de pompes moléculaires haute performance de série (y compris un manomètre composite, plage de mesure 10-5Pa ~ 105Pa) Ensemble de petites pompes moléculaires série CY-GZK60 (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5Pa~102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 2. Soufflet à vide KF25 ;Le la longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF25 3. Mesureur d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; 4, acier inoxydable vanne de réglage fin (convient uniquement aux faibles exigences de revêtement) |
