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Revêtement de pulvérisation magnétron à cible unique avec cavité de quartz pour revêtement métallique noble

Cet équipement est une coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique avec une platine d'échantillonnage inclinable.L'angle entre la platine d'échantillonnage et la surface cible est réglable et une coucheuse par pulvérisation magnétron peut être utilisée pour fabriquer des films avec des angles de croissance spécifiques.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-MSP180S-DC-AR

  • TN

Cet équipement est une coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique équipée d'une cavité en quartz, qui garantit une grande pureté et uniformité des films déposés.Cette coucheuse utilise la technologie de pulvérisation magnétron, permettant un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition du film.Il est particulièrement adapté aux applications de revêtement de métaux nobles, offrant une excellente adhérence et durabilité.Grâce à sa conception à cible décalée, cette coucheuse offre une efficacité de dépôt améliorée et une réduction des déchets de matériaux.Son interface conviviale et son système de contrôle avancé permettent une utilisation facile et un réglage précis des paramètres.La coucheuse de pulvérisation magnétron à cible unique à cible décalée avec cavité en quartz est une solution fiable et efficace pour divers besoins de revêtement de couches minces dans les milieux de la recherche et de l'industrie.

Paramètres techniques de la coucheuse par pulvérisation magnétron :

TN-MSP180S-DC-GU

Étape d'échantillonnage

Taille

Φ60mm

Vitesse de rotation

0-20 réglable

Cible de pulvérisation magnétron

Quantité

2'x1



Chambre à vide

Taille de la chambre

Φ180 mm x 150 mm

Fenêtre d'observation

Visibilité omnidirectionnelle

Matériau de la chambre

Quartz de haute pureté

Ouverture   méthode

Capot supérieur amovible

Bride inférieure

Y compris le mécanisme d'inclinaison de la table d'échantillons   et mécanisme de rotation

Système de vide

Pompe mécanique

Pompe à palettes rotatives à deux étages

Interface de pompage

KF16

Pompe moléculaire

Pompe turbomoléculaire

Interface de pompage

KF40

Mesure du vide

Jauge de résistance + jauge d'ionisation

Interface d'échappement

KF40

Vide ultime

1.0E-3Pa

Source de courant

CA 220 V 50/60 Hz

Taux de pompage

Pompe de support : 1,1 L/s Pompe moléculaire :   60 L/S

Configuration de l'alimentation

Quantité

Alimentation CC x1

Puissance de sortie maximale

Alimentation CC 300W

Autre

Fournir  tension

AC220V, 50Hz

Dimensions

500 mm  x320mm x620mm

Pouvoir total

2 kW





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