État de disponibilité: | |
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Quantité: | |
TN-MSP180S-DC-AR
TN
Cet équipement est une coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique équipée d'une cavité en quartz, qui garantit une grande pureté et uniformité des films déposés.Cette coucheuse utilise la technologie de pulvérisation magnétron, permettant un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition du film.Il est particulièrement adapté aux applications de revêtement de métaux nobles, offrant une excellente adhérence et durabilité.Grâce à sa conception à cible décalée, cette coucheuse offre une efficacité de dépôt améliorée et une réduction des déchets de matériaux.Son interface conviviale et son système de contrôle avancé permettent une utilisation facile et un réglage précis des paramètres.La coucheuse de pulvérisation magnétron à cible unique à cible décalée avec cavité en quartz est une solution fiable et efficace pour divers besoins de revêtement de couches minces dans les milieux de la recherche et de l'industrie.
Paramètres techniques de la coucheuse par pulvérisation magnétron :
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Étape d'échantillonnage | Taille | Φ60mm | Vitesse de rotation | 0-20 réglable |
Cible de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'x1 | ||
Chambre à vide | Taille de la chambre | Φ180 mm x 150 mm | Fenêtre d'observation | Visibilité omnidirectionnelle |
Matériau de la chambre | Quartz de haute pureté | Ouverture méthode | Capot supérieur amovible | |
Bride inférieure | Y compris le mécanisme d'inclinaison de la table d'échantillons et mécanisme de rotation | |||
Système de vide | Pompe mécanique | Pompe à palettes rotatives à deux étages | Interface de pompage | KF16 |
Pompe moléculaire | Pompe turbomoléculaire | Interface de pompage | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge de résistance + jauge d'ionisation | Interface d'échappement | KF40 | |
Vide ultime | 1.0E-3Pa | Source de courant | CA 220 V 50/60 Hz | |
Taux de pompage | Pompe de support : 1,1 L/s Pompe moléculaire : 60 L/S | |||
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x1 | Puissance de sortie maximale | Alimentation CC 300W |
Autre | Fournir tension | AC220V, 50Hz | Dimensions | 500 mm x320mm x620mm |
Pouvoir total | 2 kW |
Cet équipement est une coucheuse par pulvérisation magnétron à cible unique équipée d'une cavité en quartz, qui garantit une grande pureté et uniformité des films déposés.Cette coucheuse utilise la technologie de pulvérisation magnétron, permettant un contrôle précis de l’épaisseur et de la composition du film.Il est particulièrement adapté aux applications de revêtement de métaux nobles, offrant une excellente adhérence et durabilité.Grâce à sa conception à cible décalée, cette coucheuse offre une efficacité de dépôt améliorée et une réduction des déchets de matériaux.Son interface conviviale et son système de contrôle avancé permettent une utilisation facile et un réglage précis des paramètres.La coucheuse de pulvérisation magnétron à cible unique à cible décalée avec cavité en quartz est une solution fiable et efficace pour divers besoins de revêtement de couches minces dans les milieux de la recherche et de l'industrie.
Paramètres techniques de la coucheuse par pulvérisation magnétron :
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Étape d'échantillonnage | Taille | Φ60mm | Vitesse de rotation | 0-20 réglable |
Cible de pulvérisation magnétron | Quantité | 2'x1 | ||
Chambre à vide | Taille de la chambre | Φ180 mm x 150 mm | Fenêtre d'observation | Visibilité omnidirectionnelle |
Matériau de la chambre | Quartz de haute pureté | Ouverture méthode | Capot supérieur amovible | |
Bride inférieure | Y compris le mécanisme d'inclinaison de la table d'échantillons et mécanisme de rotation | |||
Système de vide | Pompe mécanique | Pompe à palettes rotatives à deux étages | Interface de pompage | KF16 |
Pompe moléculaire | Pompe turbomoléculaire | Interface de pompage | KF40 | |
Mesure du vide | Jauge de résistance + jauge d'ionisation | Interface d'échappement | KF40 | |
Vide ultime | 1.0E-3Pa | Source de courant | CA 220 V 50/60 Hz | |
Taux de pompage | Pompe de support : 1,1 L/s Pompe moléculaire : 60 L/S | |||
Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation CC x1 | Puissance de sortie maximale | Alimentation CC 300W |
Autre | Fournir tension | AC220V, 50Hz | Dimensions | 500 mm x320mm x620mm |
Pouvoir total | 2 kW |