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TN-MSP300S-2DC
TN
Le dispositif de pulvérisation magnétron CC à double cible pour films minces ferroélectriques multicouches est une solution très avancée et efficace pour la préparation de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.Cette coucheuse de pointe utilise la technologie de pulvérisation magnétron DC à double cible, garantissant un dépôt précis et uniforme des films.
Grâce à ses capacités polyvalentes, cette coucheuse est idéale pour diverses applications dans les domaines de l'électronique, de la science des matériaux et de la recherche.Que vous ayez besoin de créer des structures multicouches complexes ou des films monocouches, cette coucheuse garantit des résultats exceptionnels grâce à ses performances et sa fiabilité supérieures.
La fonction à double cible permet le dépôt simultané de différents matériaux, permettant ainsi de créer facilement des structures multicouches complexes.Cette flexibilité ouvre un monde de possibilités aux chercheurs et aux scientifiques, car ils peuvent explorer et expérimenter diverses combinaisons et compositions de matériaux.
Équipée d'une technologie de pointe, cette coucheuse garantit une excellente qualité, uniformité et contrôle de l'épaisseur du film.Son système de contrôle avancé permet un ajustement précis des paramètres de dépôt, garantissant la reproductibilité et la précision de chaque expérience ou cycle de production.
En plus de ses performances exceptionnelles, cette coucheuse dispose d'une interface conviviale, la rendant facile à utiliser et à contrôler.Sa conception intuitive et ses fonctions de sécurité complètes garantissent un environnement de travail sécurisé et sans tracas.
Investir dans une coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible pour couches minces ferroélectriques multicouches est un choix judicieux pour les professionnels à la recherche d’une solution fiable et efficace pour leurs besoins de dépôt de couches minces.Avec ses fonctionnalités avancées, ses performances supérieures et sa construction de qualité professionnelle, cette coucheuse est un atout précieux pour tout laboratoire ou établissement de recherche.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron DC à double cible :
nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron DC à double cible |
Pulvérisation source de courant | Alimentation CC × 2 Alimentation CC alimentation : 500 W |
Chambre à vide | Taille de la chambre：φ300mm×300mm，Matériau de la chambre：Acier inoxydable Fenêtre de montre : φ100 mm Le La méthode d'ouverture de la cavité adopte une ouverture supérieure, ce qui facilite le changement de cible |
Pulvérisation magnétron tête cible | Il y a 2 têtes de pulvérisation magnétron installées dans l'instrument, et ils sont tous équipés d'une couche intermédiaire refroidie à l'eau, qui peut passer dans l'eau de refroidissement pour refroidir le matériau cible.Les deux les têtes de pulvérisation sont connectées à une alimentation CC, et le principal pulvérisation conductrice |
Étape d'échantillonnage | Échantillon taille du support : 140 mm de diamètre.(Un substrat maximum de 4' peut être placé) L'échantillon le support peut tourner à une vitesse de : 1-20 tr/min (réglable) La vitesse la plus élevée la température de chauffage du porte-échantillon est de 500 ℃, et la température la précision du contrôle est de +/- 1,0 °C |
Contrôleur de débit de gaz | Là Si 2 débitmètres massiques sont installés à l'intérieur de l'instrument, la plage est : 0-200 sccm |
Pompe à vide | Équipé avec un ensemble de système de pompe moléculaire, utilisant une opération à un bouton 80L/S |
Système de refroidissement | 16L/min. |
Tension | 220 V 50 Hz |
Le dispositif de pulvérisation magnétron CC à double cible pour films minces ferroélectriques multicouches est une solution très avancée et efficace pour la préparation de films minces ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs et de films d'alliage.Cette coucheuse de pointe utilise la technologie de pulvérisation magnétron DC à double cible, garantissant un dépôt précis et uniforme des films.
Grâce à ses capacités polyvalentes, cette coucheuse est idéale pour diverses applications dans les domaines de l'électronique, de la science des matériaux et de la recherche.Que vous ayez besoin de créer des structures multicouches complexes ou des films monocouches, cette coucheuse garantit des résultats exceptionnels grâce à ses performances et sa fiabilité supérieures.
La fonction à double cible permet le dépôt simultané de différents matériaux, permettant ainsi de créer facilement des structures multicouches complexes.Cette flexibilité ouvre un monde de possibilités aux chercheurs et aux scientifiques, car ils peuvent explorer et expérimenter diverses combinaisons et compositions de matériaux.
Équipée d'une technologie de pointe, cette coucheuse garantit une excellente qualité, uniformité et contrôle de l'épaisseur du film.Son système de contrôle avancé permet un ajustement précis des paramètres de dépôt, garantissant la reproductibilité et la précision de chaque expérience ou cycle de production.
En plus de ses performances exceptionnelles, cette coucheuse dispose d'une interface conviviale, la rendant facile à utiliser et à contrôler.Sa conception intuitive et ses fonctions de sécurité complètes garantissent un environnement de travail sécurisé et sans tracas.
Investir dans une coucheuse par pulvérisation magnétron CC à double cible pour couches minces ferroélectriques multicouches est un choix judicieux pour les professionnels à la recherche d’une solution fiable et efficace pour leurs besoins de dépôt de couches minces.Avec ses fonctionnalités avancées, ses performances supérieures et sa construction de qualité professionnelle, cette coucheuse est un atout précieux pour tout laboratoire ou établissement de recherche.
Paramètres techniques de la coucheuse de pulvérisation magnétron DC à double cible :
nom du produit | Machine de pulvérisation magnétron DC à double cible |
Pulvérisation source de courant | Alimentation CC × 2 Alimentation CC alimentation : 500 W |
Chambre à vide | Taille de la chambre：φ300mm×300mm，Matériau de la chambre：Acier inoxydable Fenêtre de montre : φ100 mm Le La méthode d'ouverture de la cavité adopte une ouverture supérieure, ce qui facilite le changement de cible |
Pulvérisation magnétron tête cible | Il y a 2 têtes de pulvérisation magnétron installées dans l'instrument, et ils sont tous équipés d'une couche intermédiaire refroidie à l'eau, qui peut passer dans l'eau de refroidissement pour refroidir le matériau cible.Les deux les têtes de pulvérisation sont connectées à une alimentation CC, et le principal pulvérisation conductrice |
Étape d'échantillonnage | Échantillon taille du support : 140 mm de diamètre.(Un substrat maximum de 4' peut être placé) L'échantillon le support peut tourner à une vitesse de : 1-20 tr/min (réglable) La vitesse la plus élevée la température de chauffage du porte-échantillon est de 500 ℃, et la température la précision du contrôle est de +/- 1,0 °C |
Contrôleur de débit de gaz | Là Si 2 débitmètres massiques sont installés à l'intérieur de l'instrument, la plage est : 0-200 sccm |
Pompe à vide | Équipé avec un ensemble de système de pompe moléculaire, utilisant une opération à un bouton 80L/S |
Système de refroidissement | 16L/min. |
Tension | 220 V 50 Hz |
