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Machine de revêtement par évaporation thermique de bureau sous vide poussé avec cavité en acier inoxydable pour les matières organiques et les métaux

La coucheuse par évaporation thermique de bureau sous vide poussé peut être utilisée pour préparer divers films conducteurs, films semi-conducteurs, films ferroélectriques, films optiques, micro-traitement de dispositifs micro-nano, prétraitement d'échantillons au microscope électronique, etc.
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  • TN-EVP170S-1S-A

  • TN

Cet équipement est une petite coucheuse par évaporation thermique de bureau spécialement conçue pour le vide poussé, elle peut fournir un courant de revêtement maximum de 100 A, une température d'évaporation maximale jusqu'à 1 800 ℃ et peut répondre à l'évaporation d'une variété de métaux communs et d'une partie de non- métal.La chambre à vide est en acier inoxydable et a été dégazée avant la livraison.Il peut atteindre le vide limite de 5x10-5Pa avec le groupe de pompe moléculaire, qui peut répondre à l'environnement de vide requis par l'évaporation de la plupart des matériaux.La chambre à vide s'ouvre en soulevant le couvercle pour faciliter le gonflement.La chambre est équipée d'une fenêtre d'observation adaptative avec un déflecteur pour observer le processus de revêtement.Le déflecteur peut efficacement empêcher la fenêtre d'observation d'être polluée par le matériau du film.

bureau à vide poussé  La coucheuse par évaporation thermique peut être utilisée pour préparer divers films conducteurs, films semi-conducteurs, films ferroélectriques, films optiques, micro-traitement de dispositifs micro-nano, prétraitement d'échantillons au microscope électronique, etc.


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