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TN
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour le dépôt de Ti et d'Au pour les contacts.Cet équipement de pointe est conçu pour offrir des performances et une précision exceptionnelles dans le processus de dépôt.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est construite avec les dernières technologies, se concentrant principalement sur l’évaporation des sources métalliques/organiques.Cela en fait un choix idéal pour diverses applications, notamment la préparation d'éléments métalliques, d'oxydes, de diélectriques et de films semi-conducteurs.
Grâce à ses caractéristiques et capacités avancées, cette coucheuse garantit un environnement sous vide poussé, permettant un dépôt précis et contrôlé de titane (Ti) et d'or (Au) pour les contacts.Le résultat est un revêtement uniforme et fiable, essentiel pour obtenir des performances optimales dans les appareils électroniques et autres industries connexes.
Cet équipement de qualité professionnelle est conçu pour répondre aux exigences des laboratoires de recherche, des universités et des installations industrielles.Sa construction robuste garantit durabilité et longévité, assurant des années de service fiable.
De plus, notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation dispose de commandes conviviales et d'une interface intuitive, permettant aux opérateurs de définir facilement les paramètres et de surveiller le processus de dépôt.Cela améliore la productivité et l’efficacité, économisant ainsi un temps et des ressources précieux.
En plus de ses performances exceptionnelles, cette coucheuse adhère aux normes de sécurité les plus élevées, offrant un environnement sécurisé aux opérateurs tout au long du processus de dépôt.
Investissez dans notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour le dépôt de Ti et d'Au pour les contacts, et découvrez le summum de la précision et de la fiabilité dans le dépôt de couches minces.Faites confiance à nos équipements de qualité professionnelle pour répondre à vos besoins de recherche et de production avec la plus grande efficacité et précision.
Paramètres techniques:
Échantillon scène | Taille | Max. supporte un échantillon de φ150 mm | Hauteur | Adjustable haut et bas 70mm |
Évaporation source | Quantité | Tungstène Bateau x2 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Dia. 300mm X 400mm | Observation fenêtre | Devant φ100mm avec feuille d'ombrage |
Chambre matériel | 304 acier inoxydable | Ouverture méthode | Devant porte ouverte | |
Film contrôle de l'épaisseur | Cristal instrument de mesure d'épaisseur de film vibrant, film multicanal en option contrôleur d'épaisseur | |||
Vide système | Support pompe | Double pompe à palettes rotatives à étages | Pompage port | KF16 |
Secondaire pompe | Turbo pompe moléculaire | Pompage port | CF160 | |
Vide la mesure | Résistance + ionisation Composé jauge à vide | Échappement taux | Mécanique pompe 1,1L/s Moléculaire pompe 600L/s | |
Ultime vide | 1,0E-5Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Rotatif pompe à palettes : 1,1L/S | |||
Débitmètre | Un Débitmètre massique 500sccm gaz Ar | |||
Contrôle Système | API contrôle automatique Opération interface : écran tactile + panneau de commande | |||
Autre | Fournir tension | AC380V, 50Hz | Machine taille | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total pouvoir | 5 kW | Machine poids | 350 kg | |
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour le dépôt de Ti et d'Au pour les contacts.Cet équipement de pointe est conçu pour offrir des performances et une précision exceptionnelles dans le processus de dépôt.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est construite avec les dernières technologies, se concentrant principalement sur l’évaporation des sources métalliques/organiques.Cela en fait un choix idéal pour diverses applications, notamment la préparation d'éléments métalliques, d'oxydes, de diélectriques et de films semi-conducteurs.
Grâce à ses caractéristiques et capacités avancées, cette coucheuse garantit un environnement sous vide poussé, permettant un dépôt précis et contrôlé de titane (Ti) et d'or (Au) pour les contacts.Le résultat est un revêtement uniforme et fiable, essentiel pour obtenir des performances optimales dans les appareils électroniques et autres industries connexes.
Cet équipement de qualité professionnelle est conçu pour répondre aux exigences des laboratoires de recherche, des universités et des installations industrielles.Sa construction robuste garantit durabilité et longévité, assurant des années de service fiable.
De plus, notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation dispose de commandes conviviales et d'une interface intuitive, permettant aux opérateurs de définir facilement les paramètres et de surveiller le processus de dépôt.Cela améliore la productivité et l’efficacité, économisant ainsi un temps et des ressources précieux.
En plus de ses performances exceptionnelles, cette coucheuse adhère aux normes de sécurité les plus élevées, offrant un environnement sécurisé aux opérateurs tout au long du processus de dépôt.
Investissez dans notre coucheuse par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour le dépôt de Ti et d'Au pour les contacts, et découvrez le summum de la précision et de la fiabilité dans le dépôt de couches minces.Faites confiance à nos équipements de qualité professionnelle pour répondre à vos besoins de recherche et de production avec la plus grande efficacité et précision.
Paramètres techniques:
Échantillon scène | Taille | Max. supporte un échantillon de φ150 mm | Hauteur | Adjustable haut et bas 70mm |
Évaporation source | Quantité | Tungstène Bateau x2 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Dia. 300mm X 400mm | Observation fenêtre | Devant φ100mm avec feuille d'ombrage |
Chambre matériel | 304 acier inoxydable | Ouverture méthode | Devant porte ouverte | |
Film contrôle de l'épaisseur | Cristal instrument de mesure d'épaisseur de film vibrant, film multicanal en option contrôleur d'épaisseur | |||
Vide système | Support pompe | Double pompe à palettes rotatives à étages | Pompage port | KF16 |
Secondaire pompe | Turbo pompe moléculaire | Pompage port | CF160 | |
Vide la mesure | Résistance + ionisation Composé jauge à vide | Échappement taux | Mécanique pompe 1,1L/s Moléculaire pompe 600L/s | |
Ultime vide | 1,0E-5Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Rotatif pompe à palettes : 1,1L/S | |||
Débitmètre | Un Débitmètre massique 500sccm gaz Ar | |||
Contrôle Système | API contrôle automatique Opération interface : écran tactile + panneau de commande | |||
Autre | Fournir tension | AC380V, 50Hz | Machine taille | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total pouvoir | 5 kW | Machine poids | 350 kg | |
