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TN
La machine de revêtement par évaporation à petite échelle peut être utilisée pour l’évaporation sous vide.Pendant le processus de revêtement par évaporation de l'échantillon, la platine d'échantillon peut être tournée pour obtenir un film plus uniforme.Le courant de revêtement peut atteindre jusqu'à 60A.Ce type de petite machine de revêtement par évaporation a une large gamme d'applications et peut préparer divers films minces métalliques et certains films minces non métalliques, il est donc largement utilisé dans la préparation d'électrodes et la préparation de LED électroluminescentes organiques.L'équipement dispose de deux ensembles de sources d'évaporation, qui peuvent être utilisées pour préparer des films double couche ;chaque ensemble de sources d'évaporation est équipé de déflecteurs, qui peuvent facilement contrôler le démarrage et l'arrêt du processus d'évaporation de chaque source d'évaporation, et peuvent efficacement empêcher la contamination du matériau du film.L'enduction par évaporation est de petite taille, ce qui permet d'économiser efficacement de l'espace en laboratoire ;il est simple à utiliser et présente une forte adaptabilité à différents matériaux, ce qui le rend très approprié pour les achats en laboratoire.
Ce produit présente les caractéristiques suivantes :
1. Cet équipement utilise une chambre en acier inoxydable avec d’excellentes performances de vide ;
2. La scène d'échantillonnage peut être tournée et l'effet de revêtement peut être plus uniforme ;
3. En utilisant un panier en fil de tungstène comme source de chauffage, la température la plus élevée peut atteindre 1 700 ℃ ;
4. Un gaz inerte peut être introduit dans la chambre à vide pour nettoyer la chambre, ou un gaz réactif peut être introduit pour un revêtement par évaporation réactive.
5. L'entrée de gaz est équipée d'une vanne à pointeau pour régler le débit d'air.
Paramètre technique
Article | Détails |
Tension d'alimentation | AC220V, 60Hz |
Puissance maximum | 1200W |
Étape d'échantillonnage | Diamètre φ65 mm ; Rotatif, vitesse 0-20 tr/min ; La distance entre l'évaporation source et la scène de l'échantillon est réglable, la plage de réglage est de 60 mm à 100 mm |
Source d'évaporation | Panier en fil de tungstène/bateau en tungstène x2 ; utilisé avec une électrode de cuivre |
Chambre à vide | Matériau : acier inoxydable 304 O.Dφ168 mm x I.Dφ160 mm x 210 mm |
Température maximale | 1700°C |
Thermocouple | Thermocouple de type B x2 |
Jauge à vide | Vacuomètre à résistance |
Interface sous vide | KF40 |
Port d'admission | 1/4NPS |
Taille globale | 570x420x530mm |
La machine de revêtement par évaporation à petite échelle peut être utilisée pour l’évaporation sous vide.Pendant le processus de revêtement par évaporation de l'échantillon, la platine d'échantillon peut être tournée pour obtenir un film plus uniforme.Le courant de revêtement peut atteindre jusqu'à 60A.Ce type de petite machine de revêtement par évaporation a une large gamme d'applications et peut préparer divers films minces métalliques et certains films minces non métalliques, il est donc largement utilisé dans la préparation d'électrodes et la préparation de LED électroluminescentes organiques.L'équipement dispose de deux ensembles de sources d'évaporation, qui peuvent être utilisées pour préparer des films double couche ;chaque ensemble de sources d'évaporation est équipé de déflecteurs, qui peuvent facilement contrôler le démarrage et l'arrêt du processus d'évaporation de chaque source d'évaporation, et peuvent efficacement empêcher la contamination du matériau du film.L'enduction par évaporation est de petite taille, ce qui permet d'économiser efficacement de l'espace en laboratoire ;il est simple à utiliser et présente une forte adaptabilité à différents matériaux, ce qui le rend très approprié pour les achats en laboratoire.
Ce produit présente les caractéristiques suivantes :
1. Cet équipement utilise une chambre en acier inoxydable avec d’excellentes performances de vide ;
2. La scène d'échantillonnage peut être tournée et l'effet de revêtement peut être plus uniforme ;
3. En utilisant un panier en fil de tungstène comme source de chauffage, la température la plus élevée peut atteindre 1 700 ℃ ;
4. Un gaz inerte peut être introduit dans la chambre à vide pour nettoyer la chambre, ou un gaz réactif peut être introduit pour un revêtement par évaporation réactive.
5. L'entrée de gaz est équipée d'une vanne à pointeau pour régler le débit d'air.
Paramètre technique
Article | Détails |
Tension d'alimentation | AC220V, 60Hz |
Puissance maximum | 1200W |
Étape d'échantillonnage | Diamètre φ65 mm ; Rotatif, vitesse 0-20 tr/min ; La distance entre l'évaporation source et la scène de l'échantillon est réglable, la plage de réglage est de 60 mm à 100 mm |
Source d'évaporation | Panier en fil de tungstène/bateau en tungstène x2 ; utilisé avec une électrode de cuivre |
Chambre à vide | Matériau : acier inoxydable 304 O.Dφ168 mm x I.Dφ160 mm x 210 mm |
Température maximale | 1700°C |
Thermocouple | Thermocouple de type B x2 |
Jauge à vide | Vacuomètre à résistance |
Interface sous vide | KF40 |
Port d'admission | 1/4NPS |
Taille globale | 570x420x530mm |
