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Machine d'évaporation sous vide poussé avec chambre en acier inoxydable pour la fabrication d'OLED

Machine de revêtement par évaporation sous vide poussé Utilisé pour le revêtement par évaporation de films minces de la plupart des métaux et de certains matériaux organiques
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-EVP180G-2S-HV

  • TN

Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé de pointe, conçue pour répondre aux besoins exigeants de diverses industries.Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour le revêtement par évaporation précis de films minces, ce qui en fait un choix idéal pour les matériaux métalliques et certains matériaux organiques.Grâce à ses capacités sous vide poussé, notre coucheuse par évaporation garantit des performances et une efficacité exceptionnelles dans le processus de dépôt.Il permet l'évaporation contrôlée d'une large gamme de métaux, permettant la création de films minces présentant une adhérence et une uniformité supérieures.De plus, cette technologie avancée permet le dépôt de matériaux organiques sélectionnés, élargissant ainsi la portée des applications et des possibilités.Doté de fonctionnalités de pointe, notre enrobeur par évaporation sous vide poussé garantit des résultats fiables et reproductibles.Le système de vide sophistiqué garantit un environnement vierge pour le processus de dépôt, minimisant les impuretés et améliorant la qualité des films enduits.Le mécanisme précis de contrôle de la température permet des taux d’évaporation précis, garantissant une épaisseur et une consistance optimales du film.Conçu avec le plus grand professionnalisme, notre enduiseur par évaporation dispose d'une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et améliore la productivité.Les commandes intuitives et le système de surveillance complet fournissent des données en temps réel, permettant une gestion efficace des processus et un dépannage.La construction robuste et les matériaux de haute qualité utilisés dans sa fabrication garantissent durabilité et longévité, ce qui en fait un investissement précieux pour toute installation de recherche ou de production.Que vous soyez dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs, des revêtements optiques ou de l'ingénierie des surfaces, notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est la solution parfaite pour vos besoins de dépôt de couches minces.Bénéficiez de performances, de fiabilité et de polyvalence inégalées grâce à notre technologie avancée.Élevez vos capacités de revêtement et obtenez des résultats supérieurs avec notre coucheuse par évaporation leader du secteur.

Paramètres techniques:

Saisir   pouvoir

CA   220 V, monophasé, 50 Hz

Évaporation   actuel

100A

Electrode   tension

10V

Évaporation   source

Quantité : 2

Tungstène   panier à filament × 2 pièces, bateau en tungstène × 2 pièces

Évaporateur   baffle

Oui

Échantillon   titulaire

Réglage supérieur

Diamètre : φ65 mm

Tournant   vitesse : 0-20 tr/min

Le   la distance entre le porte-échantillon et la source d'évaporation est réglable

Vide   chambre

Intérieur   traitement des murs : polissage électrolytique

Chambre   dimension : ~φ180mm×H210mm

Matériau de la chambre : acier inoxydable 304

Mode d'ouverture : ouverture par le haut

Température   la mesure

Thermocouple de type B

Écran d'affichage

Écran tactile de 7 pouces

Réglementation actuelle

Réglage de l'écran tactile, plage 0 ~ 100A

Vide requis

Pompe à palettes ou groupe de pompe moléculaire   peuvent être sélectionnés selon les besoins.(frais supplémentaires)

Interface d'extraction

KF25

Interface d'entrée

Réglage fin du trou rond de diamètre 6 mm   soupape

Moniteur d'épaisseur de film

Précision : 0,1 Ã

Vitesse de mesure : 100 mS-1S réglable

Plage de mesure : 500 000Ã (Aluminium)

Cristal de capteur standard : 6 MHz


sur: 
En vertu d'un: 
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