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TN-EVP180G-2S-HV
TN
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé de pointe, conçue pour répondre aux besoins exigeants de diverses industries.Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour le revêtement par évaporation précis de films minces, ce qui en fait un choix idéal pour les matériaux métalliques et certains matériaux organiques.Grâce à ses capacités sous vide poussé, notre coucheuse par évaporation garantit des performances et une efficacité exceptionnelles dans le processus de dépôt.Il permet l'évaporation contrôlée d'une large gamme de métaux, permettant la création de films minces présentant une adhérence et une uniformité supérieures.De plus, cette technologie avancée permet le dépôt de matériaux organiques sélectionnés, élargissant ainsi la portée des applications et des possibilités.Doté de fonctionnalités de pointe, notre enrobeur par évaporation sous vide poussé garantit des résultats fiables et reproductibles.Le système de vide sophistiqué garantit un environnement vierge pour le processus de dépôt, minimisant les impuretés et améliorant la qualité des films enduits.Le mécanisme précis de contrôle de la température permet des taux d’évaporation précis, garantissant une épaisseur et une consistance optimales du film.Conçu avec le plus grand professionnalisme, notre enduiseur par évaporation dispose d'une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et améliore la productivité.Les commandes intuitives et le système de surveillance complet fournissent des données en temps réel, permettant une gestion efficace des processus et un dépannage.La construction robuste et les matériaux de haute qualité utilisés dans sa fabrication garantissent durabilité et longévité, ce qui en fait un investissement précieux pour toute installation de recherche ou de production.Que vous soyez dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs, des revêtements optiques ou de l'ingénierie des surfaces, notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est la solution parfaite pour vos besoins de dépôt de couches minces.Bénéficiez de performances, de fiabilité et de polyvalence inégalées grâce à notre technologie avancée.Élevez vos capacités de revêtement et obtenez des résultats supérieurs avec notre coucheuse par évaporation leader du secteur.
Paramètres techniques:
Saisir pouvoir | CA 220 V, monophasé, 50 Hz |
Évaporation actuel | 100A |
Electrode tension | 10V |
Évaporation source | Quantité : 2 Tungstène panier à filament × 2 pièces, bateau en tungstène × 2 pièces |
Évaporateur baffle | Oui |
Échantillon titulaire | Réglage supérieur Diamètre : φ65 mm Tournant vitesse : 0-20 tr/min Le la distance entre le porte-échantillon et la source d'évaporation est réglable |
Vide chambre | Intérieur traitement des murs : polissage électrolytique Chambre dimension : ~φ180mm×H210mm Matériau de la chambre : acier inoxydable 304 Mode d'ouverture : ouverture par le haut |
Température la mesure | Thermocouple de type B |
Écran d'affichage | Écran tactile de 7 pouces |
Réglementation actuelle | Réglage de l'écran tactile, plage 0 ~ 100A |
Vide requis | Pompe à palettes ou groupe de pompe moléculaire peuvent être sélectionnés selon les besoins.(frais supplémentaires) |
Interface d'extraction | KF25 |
Interface d'entrée | Réglage fin du trou rond de diamètre 6 mm soupape |
Moniteur d'épaisseur de film | Précision : 0,1 Ã Vitesse de mesure : 100 mS-1S réglable Plage de mesure : 500 000Ã (Aluminium) Cristal de capteur standard : 6 MHz |
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé de pointe, conçue pour répondre aux besoins exigeants de diverses industries.Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour le revêtement par évaporation précis de films minces, ce qui en fait un choix idéal pour les matériaux métalliques et certains matériaux organiques.Grâce à ses capacités sous vide poussé, notre coucheuse par évaporation garantit des performances et une efficacité exceptionnelles dans le processus de dépôt.Il permet l'évaporation contrôlée d'une large gamme de métaux, permettant la création de films minces présentant une adhérence et une uniformité supérieures.De plus, cette technologie avancée permet le dépôt de matériaux organiques sélectionnés, élargissant ainsi la portée des applications et des possibilités.Doté de fonctionnalités de pointe, notre enrobeur par évaporation sous vide poussé garantit des résultats fiables et reproductibles.Le système de vide sophistiqué garantit un environnement vierge pour le processus de dépôt, minimisant les impuretés et améliorant la qualité des films enduits.Le mécanisme précis de contrôle de la température permet des taux d’évaporation précis, garantissant une épaisseur et une consistance optimales du film.Conçu avec le plus grand professionnalisme, notre enduiseur par évaporation dispose d'une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et améliore la productivité.Les commandes intuitives et le système de surveillance complet fournissent des données en temps réel, permettant une gestion efficace des processus et un dépannage.La construction robuste et les matériaux de haute qualité utilisés dans sa fabrication garantissent durabilité et longévité, ce qui en fait un investissement précieux pour toute installation de recherche ou de production.Que vous soyez dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs, des revêtements optiques ou de l'ingénierie des surfaces, notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est la solution parfaite pour vos besoins de dépôt de couches minces.Bénéficiez de performances, de fiabilité et de polyvalence inégalées grâce à notre technologie avancée.Élevez vos capacités de revêtement et obtenez des résultats supérieurs avec notre coucheuse par évaporation leader du secteur.
Paramètres techniques:
Saisir pouvoir | CA 220 V, monophasé, 50 Hz |
Évaporation actuel | 100A |
Electrode tension | 10V |
Évaporation source | Quantité : 2 Tungstène panier à filament × 2 pièces, bateau en tungstène × 2 pièces |
Évaporateur baffle | Oui |
Échantillon titulaire | Réglage supérieur Diamètre : φ65 mm Tournant vitesse : 0-20 tr/min Le la distance entre le porte-échantillon et la source d'évaporation est réglable |
Vide chambre | Intérieur traitement des murs : polissage électrolytique Chambre dimension : ~φ180mm×H210mm Matériau de la chambre : acier inoxydable 304 Mode d'ouverture : ouverture par le haut |
Température la mesure | Thermocouple de type B |
Écran d'affichage | Écran tactile de 7 pouces |
Réglementation actuelle | Réglage de l'écran tactile, plage 0 ~ 100A |
Vide requis | Pompe à palettes ou groupe de pompe moléculaire peuvent être sélectionnés selon les besoins.(frais supplémentaires) |
Interface d'extraction | KF25 |
Interface d'entrée | Réglage fin du trou rond de diamètre 6 mm soupape |
Moniteur d'épaisseur de film | Précision : 0,1 Ã Vitesse de mesure : 100 mS-1S réglable Plage de mesure : 500 000Ã (Aluminium) Cristal de capteur standard : 6 MHz |