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Machine de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons sous vide poussé pour film optique

La machine de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons sous vide poussé (faisceau électronique) est un équipement spécialisé utilisé pour déposer des films minces sur divers substrats à l'aide d'un faisceau d'électrons pour évaporer des matériaux dans un environnement sous vide poussé.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-EBH500-SS

  • TN

La machine de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons (faisceau électronique) sous vide poussé est un équipement sophistiqué et spécialisé conçu pour déposer des films minces sur une variété de substrats. Cette machine utilise un faisceau d'électrons pour évaporer les matériaux, créant ainsi un revêtement uniforme et de haute qualité sur la surface du substrat.


Grâce à sa technologie avancée et à ses mécanismes de contrôle précis, la machine de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons sous vide poussé (faisceau électronique) offre une précision et une efficacité inégalées dans le processus de revêtement. Il est capable de déposer une large gamme de matériaux, notamment des métaux, des oxydes et des semi-conducteurs, sur des substrats de formes et de tailles variées.


Cette machine de pointe est idéale pour les applications dans des secteurs tels que l'électronique, l'optique et l'aérospatiale, où les revêtements en couches minces sont essentiels pour améliorer les performances et la durabilité des produits. Son environnement sous vide poussé garantit un processus de revêtement propre et sans contamination, ce qui se traduit par une adhérence et une qualité de film supérieures.


De plus, la machine de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons (faisceau électronique) sous vide poussé est équipée de fonctionnalités avancées telles que des systèmes de surveillance et de contrôle en temps réel, permettant un ajustement précis des paramètres de dépôt pour obtenir l'épaisseur et les propriétés de revêtement souhaitées. Son interface conviviale le rend facile à utiliser et à entretenir, garantissant des performances constantes et fiables.


Dans l’ensemble, la machine de revêtement par évaporation par faisceau d’électrons (faisceau électronique) sous vide poussé est un outil précieux pour les chercheurs et les fabricants cherchant à obtenir des revêtements en couches minces de haute qualité avec une précision et une répétabilité exceptionnelles. Sa conception innovante et ses capacités avancées en font un choix idéal pour les applications exigeantes qui nécessitent des performances de revêtement supérieures.

Paramètres techniques du revêtement par évaporation par faisceau d'électrons :

Nom du produit

Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons   machine

Modèle de produit

TN-EBH500-SS

État de service

La température ambiante variait de 5 à 40 ℃

Source

Triphasé 380V

Tension

220 V 50 Hz

Pouvoir

<20 kW

Jauge d'eau

<2,5bar

Surveillance de la couche plaquée

En utilisant le moniteur d'épaisseur de membrane SQM160,   l'inhomogénéité du revêtement   l'épaisseur est inférieure à 6 %.

Lampe chauffante

Quatre lampes chauffantes halogènes ont été utilisées pour   dégazage et une lampe au néon   pour l'éclairage

L'interface des électrodes

Avec une électrode d'évaporation métallique à 2 voies   interface, sauvegarde

Système de refroidissement par eau

Surveillance de la pression de l'eau

Fenêtre d'observation

100 mm de diamètre, avec filtre à rayons X   verre

Système de contrôle

Système d'écran tactile

Dimensions de la chambre à vide

Dimensions de la chambre d'évaporation : Φ 500 *   H500mm

Pistolet à électrons

Nouveau pistolet électronique, un creuset 6 trous

Exemple de platine vinyle

Taille de l'échantillon : <150 mm, la table d'échantillons   peut tourner, la table d'échantillons   surface et la surface du canon à électrons   réglage de la distance de haut en bas, le   la distance de réglage est   200 mm-250 mm, la table d'échantillons peut être chauffée, chauffée   température   <500 ℃.

Degré de vide du système

A. Limiter le vide : cuisson pendant 12 à 24 heures,   pompage continu, vide   moins de 5x10-5Pa

B. Taux d'extraction : un vide <5x10 po   40 minutes, à partir du   atmosphère-4Pa

C. Taux de fuite du système : après 12 heures de   arrêt, mesurer le vide   le degré de la chambre à vide est <10Pa

L'unité de vide

Pompe moléculaire FB1200 + façade VRD-16   pompe d'étage + vanne d'extraction latérale   + Vanne + Vanne de coupure +   Vacuomètre composite + surveillance du revêtement   interface de vacuomètre   (attendre)

Vidéo de l'enduction par évaporation par faisceau d'électrons :

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