État de disponibilité: | |
---|---|
Quantité: | |
TN-EVP325S-2S
TN
L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation avec quatre sources de chauffage est un équipement de qualité professionnelle conçu pour la préparation précise et efficace de divers films.Cet instrument de haute qualité est idéal pour les applications nécessitant le dépôt de films conducteurs, de films semi-conducteurs, de films ferroélectriques et de films optiques.
Avec ses sources multi-évaporations, cet instrument de revêtement offre une polyvalence et une flexibilité exceptionnelles dans le dépôt de film.Il permet l’évaporation simultanée de plusieurs matériaux, permettant ainsi la création de structures de film complexes avec un contrôle précis de la composition et de l’épaisseur.Cette fonctionnalité en fait un choix idéal pour la recherche et le développement, ainsi que pour les environnements de production.
Fonctionnant dans des conditions de vide poussé, cette coucheuse par évaporation garantit un processus de dépôt de film propre et sans contamination.L'environnement sous vide élimine la présence d'impuretés indésirables, ce qui donne des films d'une excellente pureté et uniformité.Ceci est crucial pour les applications où la qualité et les performances du film sont de la plus haute importance.
Equipé de quatre sources de chauffage, cet instrument permet un chauffage efficace et uniforme des matériaux d'évaporation.Le contrôle précis de la température garantit des taux d’évaporation et des caractéristiques de dépôt optimaux, conduisant à des films de haute qualité dotés des propriétés souhaitées.Les sources de chauffage peuvent être contrôlées individuellement, permettant une évaporation sélective et un dépôt de différents matériaux.
L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation est conçu dans un esprit professionnel, garantissant des résultats fiables et reproductibles.Sa construction robuste et ses fonctionnalités avancées le rendent adapté à un large éventail d'applications, notamment la microélectronique, l'optique, la nanotechnologie et la science des matériaux.
Investissez dans cet instrument de revêtement de pointe pour améliorer vos capacités de dépôt de film et obtenir des résultats supérieurs dans vos processus de recherche ou de production.Avec ses performances de qualité professionnelle et ses caractéristiques exceptionnelles, il constitue un atout précieux pour tout laboratoire ou usine de fabrication recherchant une préparation de film précise et efficace.
Paramètres techniques:
Échantillon scène | Taille | Max. supporte un échantillon de φ150 mm | Hauteur | Adjustable haut et bas 70mm |
Évaporation source | Quantité | Tungstène Bateau x2 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Dia. 300mmX400mm | Observation fenêtre | Devant φ100mm avec feuille d'ombrage |
Chambre matériel | 304 acier inoxydable | Ouverture méthode | Devant porte ouverte | |
Film contrôle de l'épaisseur | Cristal instrument de mesure d'épaisseur de film vibrant, film multicanal en option contrôleur d'épaisseur | |||
Vide système | Support pompe | Double pompe à palettes rotatives à étages | Pompage port | KF16 |
Secondaire pompe | Turbo pompe moléculaire | Pompage port | CF160 | |
Vide la mesure | Résistance + ionisation Composé jauge à vide | Échappement taux | Mécanique pompe 1,1L/s Moléculaire pompe 600L/s | |
Ultime vide | 1,0E-5Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Rotatif pompe à palettes : 1,1L/S | |||
Débitmètre | Un Débitmètre massique 500sccm gaz Ar | |||
Contrôle Système | API contrôle automatique Opération interface : écran tactile + panneau de commande | |||
Autre | Fournir tension | AC380V, 50Hz | Machine taille | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total pouvoir | 5 kW | Machine poids | 350 kg |
L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation avec quatre sources de chauffage est un équipement de qualité professionnelle conçu pour la préparation précise et efficace de divers films.Cet instrument de haute qualité est idéal pour les applications nécessitant le dépôt de films conducteurs, de films semi-conducteurs, de films ferroélectriques et de films optiques.
Avec ses sources multi-évaporations, cet instrument de revêtement offre une polyvalence et une flexibilité exceptionnelles dans le dépôt de film.Il permet l’évaporation simultanée de plusieurs matériaux, permettant ainsi la création de structures de film complexes avec un contrôle précis de la composition et de l’épaisseur.Cette fonctionnalité en fait un choix idéal pour la recherche et le développement, ainsi que pour les environnements de production.
Fonctionnant dans des conditions de vide poussé, cette coucheuse par évaporation garantit un processus de dépôt de film propre et sans contamination.L'environnement sous vide élimine la présence d'impuretés indésirables, ce qui donne des films d'une excellente pureté et uniformité.Ceci est crucial pour les applications où la qualité et les performances du film sont de la plus haute importance.
Equipé de quatre sources de chauffage, cet instrument permet un chauffage efficace et uniforme des matériaux d'évaporation.Le contrôle précis de la température garantit des taux d’évaporation et des caractéristiques de dépôt optimaux, conduisant à des films de haute qualité dotés des propriétés souhaitées.Les sources de chauffage peuvent être contrôlées individuellement, permettant une évaporation sélective et un dépôt de différents matériaux.
L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation est conçu dans un esprit professionnel, garantissant des résultats fiables et reproductibles.Sa construction robuste et ses fonctionnalités avancées le rendent adapté à un large éventail d'applications, notamment la microélectronique, l'optique, la nanotechnologie et la science des matériaux.
Investissez dans cet instrument de revêtement de pointe pour améliorer vos capacités de dépôt de film et obtenir des résultats supérieurs dans vos processus de recherche ou de production.Avec ses performances de qualité professionnelle et ses caractéristiques exceptionnelles, il constitue un atout précieux pour tout laboratoire ou usine de fabrication recherchant une préparation de film précise et efficace.
Paramètres techniques:
Échantillon scène | Taille | Max. supporte un échantillon de φ150 mm | Hauteur | Adjustable haut et bas 70mm |
Évaporation source | Quantité | Tungstène Bateau x2 | ||
Vide chambre | Chambre taille | Dia. 300mmX400mm | Observation fenêtre | Devant φ100mm avec feuille d'ombrage |
Chambre matériel | 304 acier inoxydable | Ouverture méthode | Devant porte ouverte | |
Film contrôle de l'épaisseur | Cristal instrument de mesure d'épaisseur de film vibrant, film multicanal en option contrôleur d'épaisseur | |||
Vide système | Support pompe | Double pompe à palettes rotatives à étages | Pompage port | KF16 |
Secondaire pompe | Turbo pompe moléculaire | Pompage port | CF160 | |
Vide la mesure | Résistance + ionisation Composé jauge à vide | Échappement taux | Mécanique pompe 1,1L/s Moléculaire pompe 600L/s | |
Ultime vide | 1,0E-5Pa | Pouvoir fournir | CA 220 V 50/60 Hz | |
Pompage taux | Rotatif pompe à palettes : 1,1L/S | |||
Débitmètre | Un Débitmètre massique 500sccm gaz Ar | |||
Contrôle Système | API contrôle automatique Opération interface : écran tactile + panneau de commande | |||
Autre | Fournir tension | AC380V, 50Hz | Machine taille | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total pouvoir | 5 kW | Machine poids | 350 kg |