Vous êtes ici: Maison / Des produits / Coucheuse par évaporation / Machine d'enduction par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour dépôt Ti et Au pour contacts

Machine d'enduction par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation pour dépôt Ti et Au pour contacts

Le revêtement par évaporation sous vide poussé est principalement basé sur l’évaporation de sources métalliques/organiques.Il convient à la préparation d'éléments métalliques, d'oxydes, de diélectriques, de films semi-conducteurs
État de disponibilité:
Quantité:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN-EVP325S-2S

  • TN


L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation avec quatre sources de chauffage est un équipement de qualité professionnelle conçu pour la préparation précise et efficace de divers films.Cet instrument de haute qualité est idéal pour les applications nécessitant le dépôt de films conducteurs, de films semi-conducteurs, de films ferroélectriques et de films optiques.


Avec ses sources multi-évaporations, cet instrument de revêtement offre une polyvalence et une flexibilité exceptionnelles dans le dépôt de film.Il permet l’évaporation simultanée de plusieurs matériaux, permettant ainsi la création de structures de film complexes avec un contrôle précis de la composition et de l’épaisseur.Cette fonctionnalité en fait un choix idéal pour la recherche et le développement, ainsi que pour les environnements de production.


Fonctionnant dans des conditions de vide poussé, cette coucheuse par évaporation garantit un processus de dépôt de film propre et sans contamination.L'environnement sous vide élimine la présence d'impuretés indésirables, ce qui donne des films d'une excellente pureté et uniformité.Ceci est crucial pour les applications où la qualité et les performances du film sont de la plus haute importance.


Equipé de quatre sources de chauffage, cet instrument permet un chauffage efficace et uniforme des matériaux d'évaporation.Le contrôle précis de la température garantit des taux d’évaporation et des caractéristiques de dépôt optimaux, conduisant à des films de haute qualité dotés des propriétés souhaitées.Les sources de chauffage peuvent être contrôlées individuellement, permettant une évaporation sélective et un dépôt de différents matériaux.


L'instrument de revêtement par évaporation sous vide poussé multi-sources d'évaporation est conçu dans un esprit professionnel, garantissant des résultats fiables et reproductibles.Sa construction robuste et ses fonctionnalités avancées le rendent adapté à un large éventail d'applications, notamment la microélectronique, l'optique, la nanotechnologie et la science des matériaux.


Investissez dans cet instrument de revêtement de pointe pour améliorer vos capacités de dépôt de film et obtenir des résultats supérieurs dans vos processus de recherche ou de production.Avec ses performances de qualité professionnelle et ses caractéristiques exceptionnelles, il constitue un atout précieux pour tout laboratoire ou usine de fabrication recherchant une préparation de film précise et efficace.


Paramètres techniques:


Échantillon   scène

Taille

Max.   supporte un échantillon de φ150 mm

Hauteur

Adjustable   haut et bas 70mm

Évaporation   source

Quantité

Tungstène   Bateau x2



Vide   chambre

Chambre   taille

Dia.   300mmX400mm

Observation   fenêtre

Devant   φ100mm avec feuille d'ombrage

Chambre   matériel

304   acier inoxydable

Ouverture   méthode

Devant   porte ouverte

Film   contrôle de l'épaisseur

Cristal   instrument de mesure d'épaisseur de film vibrant, film multicanal en option   contrôleur d'épaisseur

Vide   système

Support   pompe

Double   pompe à palettes rotatives à étages

Pompage   port

KF16

Secondaire   pompe

Turbo   pompe moléculaire

Pompage   port

CF160

Vide   la mesure

Résistance   + ionisation

Composé   jauge à vide

Échappement   taux

Mécanique   pompe 1,1L/s

Moléculaire   pompe 600L/s

Ultime   vide

1,0E-5Pa

Pouvoir   fournir

CA 220 V 50/60 Hz

Pompage   taux

Rotatif   pompe à palettes : 1,1L/S

Débitmètre

Un   Débitmètre massique 500sccm gaz Ar

Contrôle   Système

API   contrôle automatique

Opération   interface : écran tactile + panneau de commande

Autre

Fournir   tension

AC380V, 50Hz

Machine   taille

1000 mm x 800 mm x 1500 mm

Total   pouvoir

5 kW

Machine   poids

350 kg


sur: 
En vertu d'un: 
DEMANDE DE PRODUIT
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

LIENS RAPIDES

CONTACTEZ-NOUS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Salle 401, 4e étage, bâtiment 5, nouvelle ville technologique de Zhengzhou Yida, rue Jinzhan, zone de haute technologie, ville de Zhengzhou
Droits d'auteur © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Soutenu par leadong.com