| Quantité: | |
|---|---|
TN-EVP180G-2S-HV
TN
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé avec deux sources de film de matière organique.Cet équipement de pointe est conçu pour les professionnels ayant besoin d'une solution fiable et efficace pour le revêtement par évaporation de films minces.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé offre des performances exceptionnelles, vous permettant de recouvrir sans effort des films minces de la plupart des métaux et de certains matériaux organiques.Que vous travailliez avec une large gamme de métaux ou que vous ayez besoin de déposer des matières organiques, notre coucheuse est à la hauteur.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse assure un environnement sous vide poussé, garantissant un dépôt de film précis et uniforme.Ceci est crucial pour obtenir des résultats optimaux dans diverses applications, telles que l’optique, l’électronique et l’ingénierie des surfaces.
Équipé de deux sources, notre enduiseur par évaporation offre une polyvalence et une flexibilité améliorées.La capacité double source vous permet de déposer simultanément différents matériaux ou d'augmenter le taux de dépôt d'un seul matériau.Cette fonctionnalité vous permet de rationaliser votre processus de production et de maximiser l'efficacité.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est méticuleusement conçue pour répondre aux demandes des professionnels de la recherche et du développement, de la fabrication et des institutions universitaires.Sa construction robuste et son interface conviviale le rendent facile à utiliser et à entretenir, garantissant une expérience fluide.
Investissez dans notre coucheuse par évaporation sous vide poussé avec deux sources de film de matière organique et débloquez un monde de possibilités en matière de dépôt de couches minces.Découvrez l'efficacité, la précision et la fiabilité que notre technologie avancée apporte à votre travail.Faites confiance à notre équipement de qualité professionnelle pour élever vos projets vers de nouveaux sommets.
Paramètres techniques:
Saisir pouvoir | CA 220 V, monophasé, 50 Hz |
Évaporation actuel | 100A |
Electrode tension | 10V |
Évaporation source | Quantité : 2 Tungstène panier à filament × 2 pièces, bateau en tungstène × 2 pièces |
Évaporateur baffle | Oui |
Échantillon titulaire | Réglage supérieur Diamètre : φ65 mm Tournant vitesse : 0-20 tr/min Le la distance entre le porte-échantillon et la source d'évaporation est réglable |
Vide chambre | Intérieur traitement des murs : polissage électrolytique Chambre dimension : ~φ180mm×H210mm Matériau de la chambre : acier inoxydable 304 Mode d'ouverture : ouverture par le haut |
Température la mesure | Thermocouple de type B |
Écran d'affichage | Écran tactile de 7 pouces |
Réglementation actuelle | Réglage de l'écran tactile, plage 0 ~ 100A |
Vide requis | Pompe à palettes ou groupe de pompe moléculaire peuvent être sélectionnés selon les besoins.(frais supplémentaires) |
Interface d'extraction | KF25 |
Interface d'entrée | Réglage fin du trou rond de diamètre 6 mm soupape |
Moniteur d'épaisseur de film | Précision : 0,1 Ã Vitesse de mesure : 100 mS-1S réglable Plage de mesure : 500 000Ã (Aluminium) Cristal de capteur standard : 6 MHz |
Présentation de notre coucheuse par évaporation sous vide poussé avec deux sources de film de matière organique.Cet équipement de pointe est conçu pour les professionnels ayant besoin d'une solution fiable et efficace pour le revêtement par évaporation de films minces.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé offre des performances exceptionnelles, vous permettant de recouvrir sans effort des films minces de la plupart des métaux et de certains matériaux organiques.Que vous travailliez avec une large gamme de métaux ou que vous ayez besoin de déposer des matières organiques, notre coucheuse est à la hauteur.
Grâce à sa technologie avancée, cette coucheuse assure un environnement sous vide poussé, garantissant un dépôt de film précis et uniforme.Ceci est crucial pour obtenir des résultats optimaux dans diverses applications, telles que l’optique, l’électronique et l’ingénierie des surfaces.
Équipé de deux sources, notre enduiseur par évaporation offre une polyvalence et une flexibilité améliorées.La capacité double source vous permet de déposer simultanément différents matériaux ou d'augmenter le taux de dépôt d'un seul matériau.Cette fonctionnalité vous permet de rationaliser votre processus de production et de maximiser l'efficacité.
Notre coucheuse par évaporation sous vide poussé est méticuleusement conçue pour répondre aux demandes des professionnels de la recherche et du développement, de la fabrication et des institutions universitaires.Sa construction robuste et son interface conviviale le rendent facile à utiliser et à entretenir, garantissant une expérience fluide.
Investissez dans notre coucheuse par évaporation sous vide poussé avec deux sources de film de matière organique et débloquez un monde de possibilités en matière de dépôt de couches minces.Découvrez l'efficacité, la précision et la fiabilité que notre technologie avancée apporte à votre travail.Faites confiance à notre équipement de qualité professionnelle pour élever vos projets vers de nouveaux sommets.
Paramètres techniques:
Saisir pouvoir | CA 220 V, monophasé, 50 Hz |
Évaporation actuel | 100A |
Electrode tension | 10V |
Évaporation source | Quantité : 2 Tungstène panier à filament × 2 pièces, bateau en tungstène × 2 pièces |
Évaporateur baffle | Oui |
Échantillon titulaire | Réglage supérieur Diamètre : φ65 mm Tournant vitesse : 0-20 tr/min Le la distance entre le porte-échantillon et la source d'évaporation est réglable |
Vide chambre | Intérieur traitement des murs : polissage électrolytique Chambre dimension : ~φ180mm×H210mm Matériau de la chambre : acier inoxydable 304 Mode d'ouverture : ouverture par le haut |
Température la mesure | Thermocouple de type B |
Écran d'affichage | Écran tactile de 7 pouces |
Réglementation actuelle | Réglage de l'écran tactile, plage 0 ~ 100A |
Vide requis | Pompe à palettes ou groupe de pompe moléculaire peuvent être sélectionnés selon les besoins.(frais supplémentaires) |
Interface d'extraction | KF25 |
Interface d'entrée | Réglage fin du trou rond de diamètre 6 mm soupape |
Moniteur d'épaisseur de film | Précision : 0,1 Ã Vitesse de mesure : 100 mS-1S réglable Plage de mesure : 500 000Ã (Aluminium) Cristal de capteur standard : 6 MHz |
