| Quantité: | |
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TN-EVP170S-2S-A
TN
La coucheuse par évaporation thermique à double source de bureau est équipée de deux sources, permettant le dépôt simultané de plusieurs matériaux.La cavité en acier inoxydable assure d'excellentes performances de vide et empêche la contamination.
Cette coucheuse offre un contrôle précis de la température, permettant le dépôt de films avec une grande uniformité et reproductibilité.Il dispose d’une interface conviviale, facilitant la définition et la surveillance des paramètres de dépôt.La conception de bureau le rend compact et peu encombrant, idéal pour les laboratoires de recherche et la production à petite échelle.
Grâce à sa technologie avancée d'évaporation thermique, cette coucheuse offre une solution fiable et efficace pour le dépôt de couches minces.Il convient à un large éventail d'applications, notamment l'électronique, l'optoélectronique, les cellules solaires et l'ingénierie des surfaces.La construction de haute qualité et les matériaux durables garantissent des performances durables et des besoins d'entretien minimes.
Investissez dans cette coucheuse par évaporation thermique à double source de bureau avec cavité en acier inoxydable pour améliorer vos capacités de recherche et obtenir un dépôt précis de couches minces.Sa conception professionnelle et ses caractéristiques exceptionnelles en font un atout précieux pour tout laboratoire ou installation de production.
Nom du produit | Coucheuse de bureau par évaporation thermique à double source |
modèle du produit | TN-EVP170S-2S-A |
Installation Condition | 1、Fonctionne température ambiante : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % d'humidité relative ± 10 % d'humidité relative ; 2、Puissance de l'équipement alimentation : AC220V, 50 Hz, doit être bien mis à la terre ; 3. Puissance nominale : 2500 w ; 4、Équipement pour gaz ：L'équipement La chambre doit être remplie de gaz argon pour le nettoyage.Le client doit préparer du gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5、Taille du tableau exigences : 600 mm × 600 mm × 700 mm ， capacité portante ≥ 70 kg ； 6、Le poste doit être bien ventilé et refroidi. |
Technique Indicateurs | 1, Nombre de sources d'évaporation : 2, chaque source d'évaporation est équipée d'un déflecteur ; 2、Source d'évaporation tension : 10 V 3、 Courant d'évaporation est réglable en continu de 0 à 100A 4, avec deux bateaux en tungstène, deux paniers en tungstène ; 5、 Acier inoxydable table d'échantillons supérieure rotative, diamètre de 60 mm ; 6、 La distance entre la plateforme d'échantillonnage et la source d'évaporation est réglable de 60 à 100 mm ; 7、 La cavité sous vide est un cavité en acier inoxydable d'un diamètre extérieur de 170 mm, un diamètre intérieur de 160 mm et une hauteur de 210 mm ; 8、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF40 ; 9、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces, réglage fin en acier inoxydable une valve est fournie par défaut pour régler l'entrée d'air ; 10、 L'écran tactile est de 7 pouces écran tactile couleur ; 11、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 12、 Protection de sécurité: surintensité, le vide est trop faible, coupe automatiquement le courant de pulvérisation ; 13、 Vide ultime : 1 Pa (double étage correspondant pompe à palettes rotatives) ； 14、 La mesure du vide est Jauge à vide Parana, le la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1、Afin de donner pleinement jouer sur les performances de vide de la cavité, il est recommandé de l'utiliser avec groupe de pompe moléculaire |
Accessoire en option | |
Film Moniteur d'épaisseur | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2、Précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, en particulier la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et densité 3. Vitesse de mesure : 100 ms à 1 s par fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5, convient aux plaquettes fréquence: 6 MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm bride de montage：CF35 |
Un autre Accessoire | 1, bateau en tungstène, tungstène panier; 2、Évaporation organique source (y compris le bateau à quartz et la source de chauffage en fil de tungstène) 3. Série TN-CZK103 hautes performances ensemble de pompes moléculaires (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5 Pa ~ 105 Pa) ; Petit ensemble de pompes moléculaires série TN-GZK60 (comprenant jauge à vide composite, plage de mesure 10-5Pa ~ 102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 4. Soufflet à vide KF40 ;Le la longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF40 ; 5. Mesureur d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; |
La coucheuse par évaporation thermique à double source de bureau est équipée de deux sources, permettant le dépôt simultané de plusieurs matériaux.La cavité en acier inoxydable assure d'excellentes performances de vide et empêche la contamination.
Cette coucheuse offre un contrôle précis de la température, permettant le dépôt de films avec une grande uniformité et reproductibilité.Il dispose d’une interface conviviale, facilitant la définition et la surveillance des paramètres de dépôt.La conception de bureau le rend compact et peu encombrant, idéal pour les laboratoires de recherche et la production à petite échelle.
Grâce à sa technologie avancée d'évaporation thermique, cette coucheuse offre une solution fiable et efficace pour le dépôt de couches minces.Il convient à un large éventail d'applications, notamment l'électronique, l'optoélectronique, les cellules solaires et l'ingénierie des surfaces.La construction de haute qualité et les matériaux durables garantissent des performances durables et des besoins d'entretien minimes.
Investissez dans cette coucheuse par évaporation thermique à double source de bureau avec cavité en acier inoxydable pour améliorer vos capacités de recherche et obtenir un dépôt précis de couches minces.Sa conception professionnelle et ses caractéristiques exceptionnelles en font un atout précieux pour tout laboratoire ou installation de production.
Nom du produit | Coucheuse de bureau par évaporation thermique à double source |
modèle du produit | TN-EVP170S-2S-A |
Installation Condition | 1、Fonctionne température ambiante : 25 ℃ ± 15 ℃, humidité : 55 % d'humidité relative ± 10 % d'humidité relative ; 2、Puissance de l'équipement alimentation : AC220V, 50 Hz, doit être bien mis à la terre ; 3. Puissance nominale : 2500 w ; 4、Équipement pour gaz ：L'équipement La chambre doit être remplie de gaz argon pour le nettoyage.Le client doit préparer du gaz argon avec une pureté ≥99,99 %. 5、Taille du tableau exigences : 600 mm × 600 mm × 700 mm ， capacité portante ≥ 70 kg ； 6、Le poste doit être bien ventilé et refroidi. |
Technique Indicateurs | 1, Nombre de sources d'évaporation : 2, chaque source d'évaporation est équipée d'un déflecteur ; 2、Source d'évaporation tension : 10 V 3、 Courant d'évaporation est réglable en continu de 0 à 100A 4, avec deux bateaux en tungstène, deux paniers en tungstène ; 5、 Acier inoxydable table d'échantillons supérieure rotative, diamètre de 60 mm ; 6、 La distance entre la plateforme d'échantillonnage et la source d'évaporation est réglable de 60 à 100 mm ; 7、 La cavité sous vide est un cavité en acier inoxydable d'un diamètre extérieur de 170 mm, un diamètre intérieur de 160 mm et une hauteur de 210 mm ; 8、Interface de pompage d'air de la chambre à vide est KF40 ; 9、 L'interface d'admission d'air est Joint à double virole de 1/4 pouces, réglage fin en acier inoxydable une valve est fournie par défaut pour régler l'entrée d'air ; 10、 L'écran tactile est de 7 pouces écran tactile couleur ; 11、 Pulvérisation réglable courant, pulvérisation la valeur du courant de sécurité et la valeur du vide de sécurité peuvent être définies ; 12、 Protection de sécurité: surintensité, le vide est trop faible, coupe automatiquement le courant de pulvérisation ; 13、 Vide ultime : 1 Pa (double étage correspondant pompe à palettes rotatives) ； 14、 La mesure du vide est Jauge à vide Parana, le la plage est : 1 ~ 105 Pa |
Avis | 1、Afin de donner pleinement jouer sur les performances de vide de la cavité, il est recommandé de l'utiliser avec groupe de pompe moléculaire |
Accessoire en option | |
Film Moniteur d'épaisseur | 1. Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136Å (aluminium). 2、Précision du film épaisseur : ± 0,5 %, cela dépend du processus conditions, en particulier la position du capteur, la contrainte du matériau, la température et densité 3. Vitesse de mesure : 100 ms à 1 s par fois, la plage de mesure peut être ensemble ：500000Å（aluminium） 4. Cristal de capteur standard : 6 MHz 5, convient aux plaquettes fréquence: 6 MHz adapté à la taille de la plaquette : Φ14 mm bride de montage：CF35 |
Un autre Accessoire | 1, bateau en tungstène, tungstène panier; 2、Évaporation organique source (y compris le bateau à quartz et la source de chauffage en fil de tungstène) 3. Série TN-CZK103 hautes performances ensemble de pompes moléculaires (comprenant un manomètre composite, une plage de mesure 10-5 Pa ~ 105 Pa) ; Petit ensemble de pompes moléculaires série TN-GZK60 (comprenant jauge à vide composite, plage de mesure 10-5Pa ~ 102Pa) Palette rotative bipolaire VRD-4 pompe à vide 4. Soufflet à vide KF40 ;Le la longueur peut être de 0,5 m, 1 m ou 1,5 m.Support de serrage KF40 ; 5. Mesureur d'épaisseur de film Oscillateur à cristal; |
