| Quantité: | |
|---|---|
TN-PSP180G-3TA-RSH
TN
La petite machine de revêtement par pulvérisation plasma fournit un revêtement précis et uniforme sur divers matériaux tels que l'or, le platine et l'indium.La conception compacte de cette machine la rend adaptée aux petits espaces de laboratoire.
Equipée d'une cible rotative et d'un étage de chauffage rotatif, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma assure une distribution efficace et uniforme du revêtement.La méthode de pulvérisation en deux étapes améliore la qualité du revêtement et permet un meilleur contrôle du processus de dépôt.
Grâce à sa technologie de pulvérisation plasma à basse température, cette machine offre un processus de revêtement doux, minimisant tout dommage potentiel au substrat.Ceci est particulièrement important pour les échantillons délicats ou les matériaux sensibles.
Le petit pulvérisateur plasma compact à cible rotative à 3 cibles rotatives de laboratoire est conçu pour la préparation d'échantillons SEM et les expériences de revêtement métallique.Il s'agit d'un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques dans divers domaines tels que la science des matériaux, la nanotechnologie et l'analyse des surfaces.
En plus de ses performances fiables, cette machine est conviviale, avec des commandes intuitives et une interface conviviale.Il est facile à utiliser, même pour ceux qui ont une expérience limitée en pulvérisation plasma.
Investir dans cette petite pulvérisation plasma compacte à 3 cibles rotatives de laboratoire avec un étage de chauffage rotatif est un choix judicieux pour les laboratoires et les installations de recherche.Il offre des résultats de revêtement précis et uniformes, garantissant des expériences précises et reproductibles.Sa taille compacte et sa conception efficace en font un ajout précieux à tout espace de laboratoire.
Choisissez cette machine de revêtement par pulvérisation plasma pour vos besoins de recherche et découvrez des capacités de revêtement de qualité professionnelle.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
La petite machine de revêtement par pulvérisation plasma fournit un revêtement précis et uniforme sur divers matériaux tels que l'or, le platine et l'indium.La conception compacte de cette machine la rend adaptée aux petits espaces de laboratoire.
Equipée d'une cible rotative et d'un étage de chauffage rotatif, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma assure une distribution efficace et uniforme du revêtement.La méthode de pulvérisation en deux étapes améliore la qualité du revêtement et permet un meilleur contrôle du processus de dépôt.
Grâce à sa technologie de pulvérisation plasma à basse température, cette machine offre un processus de revêtement doux, minimisant tout dommage potentiel au substrat.Ceci est particulièrement important pour les échantillons délicats ou les matériaux sensibles.
Le petit pulvérisateur plasma compact à cible rotative à 3 cibles rotatives de laboratoire est conçu pour la préparation d'échantillons SEM et les expériences de revêtement métallique.Il s'agit d'un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques dans divers domaines tels que la science des matériaux, la nanotechnologie et l'analyse des surfaces.
En plus de ses performances fiables, cette machine est conviviale, avec des commandes intuitives et une interface conviviale.Il est facile à utiliser, même pour ceux qui ont une expérience limitée en pulvérisation plasma.
Investir dans cette petite pulvérisation plasma compacte à 3 cibles rotatives de laboratoire avec un étage de chauffage rotatif est un choix judicieux pour les laboratoires et les installations de recherche.Il offre des résultats de revêtement précis et uniformes, garantissant des expériences précises et reproductibles.Sa taille compacte et sa conception efficace en font un ajout précieux à tout espace de laboratoire.
Choisissez cette machine de revêtement par pulvérisation plasma pour vos besoins de recherche et découvrez des capacités de revêtement de qualité professionnelle.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
