| Quantité: | |
|---|---|
TN-PSP180G-3TA-RS
TN
Technologie de pointe, il garantit un revêtement en couche mince uniforme et de haute qualité.La machine est équipée d'un refroidisseur d'eau pour maintenir une température stable pendant le processus de revêtement, garantissant ainsi des résultats cohérents et précis.
Avec sa conception compacte, cette machine de pulvérisation plasma à cible rotative est parfaite pour les laboratoires ou les instituts de recherche disposant d'un espace limité.Il est facile à utiliser grâce à son interface conviviale et ses commandes intuitives.La méthode de pulvérisation en deux étapes permet un contrôle précis de l’épaisseur du revêtement, ce qui la rend adaptée à diverses applications.
La machine est capable de revêtir une large gamme de matériaux, notamment les métaux, la céramique et les polymères.Il peut être utilisé pour la préparation d'échantillons SEM, les expériences de revêtement métallique ou toute autre application de revêtement de film mince.La technologie de pulvérisation plasma à basse température garantit un minimum de dommages au substrat et une excellente adhérence du revêtement.
Avec sa haute efficacité et sa fiabilité, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma est un outil essentiel pour tout laboratoire ou installation de recherche.Il offre des résultats précis et cohérents, aidant les chercheurs et les scientifiques à obtenir facilement les revêtements en couches minces souhaités.Investissez dans cette coucheuse de qualité professionnelle et améliorez vos capacités de recherche dès aujourd'hui.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-RS | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320mm x470mm | |
Poids | 30 kg | |
Technologie de pointe, il garantit un revêtement en couche mince uniforme et de haute qualité.La machine est équipée d'un refroidisseur d'eau pour maintenir une température stable pendant le processus de revêtement, garantissant ainsi des résultats cohérents et précis.
Avec sa conception compacte, cette machine de pulvérisation plasma à cible rotative est parfaite pour les laboratoires ou les instituts de recherche disposant d'un espace limité.Il est facile à utiliser grâce à son interface conviviale et ses commandes intuitives.La méthode de pulvérisation en deux étapes permet un contrôle précis de l’épaisseur du revêtement, ce qui la rend adaptée à diverses applications.
La machine est capable de revêtir une large gamme de matériaux, notamment les métaux, la céramique et les polymères.Il peut être utilisé pour la préparation d'échantillons SEM, les expériences de revêtement métallique ou toute autre application de revêtement de film mince.La technologie de pulvérisation plasma à basse température garantit un minimum de dommages au substrat et une excellente adhérence du revêtement.
Avec sa haute efficacité et sa fiabilité, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma est un outil essentiel pour tout laboratoire ou installation de recherche.Il offre des résultats précis et cohérents, aidant les chercheurs et les scientifiques à obtenir facilement les revêtements en couches minces souhaités.Investissez dans cette coucheuse de qualité professionnelle et améliorez vos capacités de recherche dès aujourd'hui.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-RS | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320mm x470mm | |
Poids | 30 kg | |
