| Quantité: | |
|---|---|
TN-PSP180G-3TA-R
TN
Technologie de pointe, il permet un revêtement précis et uniforme sur divers matériaux.La machine est équipée d'une chambre en verre de quartz, assurant une grande visibilité pendant le processus de revêtement.
Grâce à sa conception compacte, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma convient aux applications de laboratoire à petite échelle.Il offre la possibilité de recouvrir des échantillons avec des matériaux à la fois en or (Au) et en platine (Pt), ce qui le rend polyvalent pour une gamme de besoins de recherche.
La méthode de pulvérisation en deux étapes utilisée par cette machine garantit une excellente adhérence et uniformité du film, résultant en des revêtements de haute qualité.C'est un choix idéal pour la préparation d'échantillons SEM, permettant aux chercheurs d'obtenir des résultats précis et fiables.
De plus, la technologie de pulvérisation plasma à basse température utilisée par cette machine de revêtement minimise le risque d'endommagement ou de distorsion des échantillons, garantissant ainsi l'intégrité des échantillons.
Investissez dans cette machine de pulvérisation plasma à trois cibles dotée d'une chambre en verre de quartz pour les revêtements Au et Pt, et améliorez vos capacités de recherche grâce à ses performances précises et efficaces.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-R | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
Technologie de pointe, il permet un revêtement précis et uniforme sur divers matériaux.La machine est équipée d'une chambre en verre de quartz, assurant une grande visibilité pendant le processus de revêtement.
Grâce à sa conception compacte, cette machine de revêtement par pulvérisation plasma convient aux applications de laboratoire à petite échelle.Il offre la possibilité de recouvrir des échantillons avec des matériaux à la fois en or (Au) et en platine (Pt), ce qui le rend polyvalent pour une gamme de besoins de recherche.
La méthode de pulvérisation en deux étapes utilisée par cette machine garantit une excellente adhérence et uniformité du film, résultant en des revêtements de haute qualité.C'est un choix idéal pour la préparation d'échantillons SEM, permettant aux chercheurs d'obtenir des résultats précis et fiables.
De plus, la technologie de pulvérisation plasma à basse température utilisée par cette machine de revêtement minimise le risque d'endommagement ou de distorsion des échantillons, garantissant ainsi l'intégrité des échantillons.
Investissez dans cette machine de pulvérisation plasma à trois cibles dotée d'une chambre en verre de quartz pour les revêtements Au et Pt, et améliorez vos capacités de recherche grâce à ses performances précises et efficaces.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-3TA-R | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
