| Quantité: | |
|---|---|
TN-PSP180G-1TA-RSH
TN
Le mini plasma Sputter Coater est capable de recouvrir un film d'or conducteur sur divers substrats, tels que les métaux, la céramique et le verre.La mini coucheuse par pulvérisation plasma est équipée d'une chambre en verre de quartz, garantissant une transparence élevée et une excellente visibilité pendant le processus de revêtement.
Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour les chercheurs, les scientifiques et les professionnels dans le domaine de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'analyse des surfaces.Sa taille compacte et son interface conviviale le rendent adapté aux environnements de laboratoire et industriels.
La méthode de pulvérisation en deux étapes utilisée par cette machine garantit une épaisseur de revêtement uniforme et précise, ce qui donne des échantillons de haute qualité pour l'analyse SEM ou les expériences de revêtement métallique.Le processus de pulvérisation plasma à basse température garantit un minimum de dommages aux échantillons délicats ou sensibles à la chaleur, préservant ainsi leur intégrité et leur précision.
Avec ses fonctionnalités avancées et ses performances fiables, cette mini coucheuse par pulvérisation plasma est un outil essentiel pour toute installation de recherche ou de production nécessitant un revêtement précis et efficace d'un film d'or conducteur.Investissez dans cet équipement pour améliorer vos capacités de recherche et obtenir des résultats supérieurs dans vos expériences.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-1TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
Le mini plasma Sputter Coater est capable de recouvrir un film d'or conducteur sur divers substrats, tels que les métaux, la céramique et le verre.La mini coucheuse par pulvérisation plasma est équipée d'une chambre en verre de quartz, garantissant une transparence élevée et une excellente visibilité pendant le processus de revêtement.
Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour les chercheurs, les scientifiques et les professionnels dans le domaine de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'analyse des surfaces.Sa taille compacte et son interface conviviale le rendent adapté aux environnements de laboratoire et industriels.
La méthode de pulvérisation en deux étapes utilisée par cette machine garantit une épaisseur de revêtement uniforme et précise, ce qui donne des échantillons de haute qualité pour l'analyse SEM ou les expériences de revêtement métallique.Le processus de pulvérisation plasma à basse température garantit un minimum de dommages aux échantillons délicats ou sensibles à la chaleur, préservant ainsi leur intégrité et leur précision.
Avec ses fonctionnalités avancées et ses performances fiables, cette mini coucheuse par pulvérisation plasma est un outil essentiel pour toute installation de recherche ou de production nécessitant un revêtement précis et efficace d'un film d'or conducteur.Investissez dans cet équipement pour améliorer vos capacités de recherche et obtenir des résultats supérieurs dans vos expériences.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-1TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
