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Mini équipement de revêtement par pulvérisation plasma avec chambre en verre de quartz pour le revêtement d'un film d'or conducteur sur un échantillon SEM

Ce type de petite machine de revêtement par pulvérisation plasma adopte une méthode de pulvérisation en deux étapes, largement utilisée pour la préparation d'échantillons SEM ou l'expérience de revêtement métallique.Grâce au processus de pulvérisation plasma à basse température, il n'y a pas de température élevée pendant le processus de revêtement.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-PSP180G-1TA-RSH

  • TN

Le mini plasma Sputter Coater est capable de recouvrir un film d'or conducteur sur divers substrats, tels que les métaux, la céramique et le verre.La mini coucheuse par pulvérisation plasma est équipée d'une chambre en verre de quartz, garantissant une transparence élevée et une excellente visibilité pendant le processus de revêtement.


Cet équipement de qualité professionnelle est spécialement conçu pour les chercheurs, les scientifiques et les professionnels dans le domaine de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'analyse des surfaces.Sa taille compacte et son interface conviviale le rendent adapté aux environnements de laboratoire et industriels.


La méthode de pulvérisation en deux étapes utilisée par cette machine garantit une épaisseur de revêtement uniforme et précise, ce qui donne des échantillons de haute qualité pour l'analyse SEM ou les expériences de revêtement métallique.Le processus de pulvérisation plasma à basse température garantit un minimum de dommages aux échantillons délicats ou sensibles à la chaleur, préservant ainsi leur intégrité et leur précision.


Avec ses fonctionnalités avancées et ses performances fiables, cette mini coucheuse par pulvérisation plasma est un outil essentiel pour toute installation de recherche ou de production nécessitant un revêtement précis et efficace d'un film d'or conducteur.Investissez dans cet équipement pour améliorer vos capacités de recherche et obtenir des résultats supérieurs dans vos expériences.

Paramètres techniques:

Modèle du produit

TN-PSP180G-1TA-RSH

Échantillon   scène

Taille

100mm  

Distance   de la scène d'échantillonnage à la surface cible

20 ~ 35 mm   réglable en hauteur

Tournant   vitesse

1~20 tr/min   Ajustable

Chauffage   température

≤500℃

Température   précision du contrôle

±1 ℃ PID   contrôle de la température

Plasma   source de pulvérisation

Quantité

2   pouces x 1/2/3

Refroidissement   méthode

Eau   refroidissement/refroidissement naturel

Vide   chambre

Chambre   taille

φ180 mm x   210 mm    

Observation   fenêtre

Omnidirectionnel   visibilité

Chambre   matériel

Haut   quartz de pureté

Ouvrir   méthode

Haut   housse amovible

Supérieur   et matériau du couvercle inférieur

304   acier inoxydable

Pompage   port

KF16

Admission   port

1/4   connecteur de virole en pouces

Pouvoir   configuration

Quantité

CC   alimentation x1

Sortir   pouvoir

Max.   150W

Pulvérisation   pouvoir

1200V

Max.   courant de pulvérisation

50mA

Vide   système

Vide   type de pompe

À deux étages   pompe à vide à palettes rotatives

Pompage   port

KF16

Échappement   interface

KF16

Pompage   taux

1,1 L/s (4 m3/h)

Ultime   vide

≥0,1Pa

Vide   la mesure

Résistance   jauge à vide

Autres

Pouvoir   fournir

CA   220V  50Hz

Total   pouvoir

1,5 kW/2 kW

Dimension

500 mm   x 320 mm x 470 mm

Poids

30 kg



sur: 
En vertu d'un: 
DEMANDE DE PRODUIT
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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