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Mini machine de pulvérisation Plasma sous vide de bureau, avec chambre en verre de Quartz, pour recouvrir un Film doré conducteur sur un échantillon SEM

Ce type de petite machine de revêtement par pulvérisation plasma adopte une méthode de pulvérisation en deux étapes, largement utilisée pour la préparation d'échantillons SEM ou l'expérience de revêtement métallique.Grâce au processus de pulvérisation plasma à basse température, il n'y a pas de température élevée pendant le processus de revêtement.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-PSP180G-2TA-RSH

  • TN

Technologie de pointe, il assure un revêtement uniforme et de haute qualité d'un film d'or conducteur sur divers substrats.La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est équipée d'une chambre en verre de quartz, offrant une excellente visibilité et durabilité.Sa taille compacte et sa conception conviviale le rendent adapté à une utilisation en laboratoire ou à une production à petite échelle.


Grâce à la méthode de pulvérisation en deux étapes, cette machine offre un contrôle précis du processus de revêtement, garantissant des résultats cohérents et reproductibles.La technologie de pulvérisation plasma à basse température permet le dépôt de films minces sans endommager les échantillons sensibles.Cela en fait un choix idéal pour la préparation d'échantillons SEM, où un revêtement conducteur est requis pour l'imagerie et l'analyse.


La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est conçue pour offrir des performances fiables et une facilité d'utilisation.Il dispose d'une interface conviviale avec des commandes intuitives, permettant une utilisation et un réglage des paramètres faciles.La chambre en verre de quartz offre non seulement une excellente visibilité pendant le processus de revêtement, mais offre également une résistance exceptionnelle à la corrosion chimique et aux chocs thermiques.


Cette coucheuse par pulvérisation cathodique est compatible avec une large gamme de substrats, notamment le verre, le métal, la céramique et les matériaux semi-conducteurs.Il permet le dépôt de films d’or conducteurs d’épaisseur réglable, répondant aux exigences spécifiques des différentes applications.Le revêtement uniforme obtenu par cette machine garantit des résultats précis et fiables dans divers domaines de recherche, tels que la science des matériaux, la nanotechnologie et l'analyse de surfaces.


En conclusion, la mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau avec chambre en verre de quartz est un instrument de qualité professionnelle adapté au revêtement de films d'or conducteurs.Sa méthode de pulvérisation en deux étapes, sa technologie de pulvérisation plasma à basse température et sa conception conviviale en font un excellent choix pour la préparation d'échantillons SEM ou les expériences de revêtement métallique.Avec sa taille compacte et ses performances fiables, c'est un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques de diverses industries.

Paramètres techniques:

Modèle du produit

TN-PSP180G-2TA-RSH

Échantillon   scène

Taille

100mm  

Distance   de la scène d'échantillonnage à la surface cible

20 ~ 35 mm   réglable en hauteur

Tournant   vitesse

1~20 tr/min   Ajustable

Chauffage   température

≤500℃

Température   précision du contrôle

±1 ℃ PID   contrôle de la température

Plasma   source de pulvérisation

Quantité

2   pouces x 1/2/3

Refroidissement   méthode

Eau   refroidissement/refroidissement naturel

Vide   chambre

Chambre   taille

φ180 mm x   210 mm    

Observation   fenêtre

Omnidirectionnel   visibilité

Chambre   matériel

Haut   quartz de pureté

Ouvrir   méthode

Haut   housse amovible

Supérieur   et matériau du couvercle inférieur

304   acier inoxydable

Pompage   port

KF16

Admission   port

1/4   connecteur de virole en pouces

Pouvoir   configuration

Quantité

CC   alimentation x1

Sortir   pouvoir

Max.   150W

Pulvérisation   pouvoir

1200V

Max.   courant de pulvérisation

50mA

Vide   système

Vide   type de pompe

À deux étages   pompe à vide à palettes rotatives

Pompage   port

KF16

Échappement   interface

KF16

Pompage   taux

1,1 L/s (4 m3/h)

Ultime   vide

≥0,1Pa

Vide   la mesure

Résistance   jauge à vide

Autres

Pouvoir   fournir

CA   220V  50 Hz

Total   pouvoir

1,5 kW/2 kW

Dimension

500mm   x 320mm x470mm

Poids

30 kg



sur: 
En vertu d'un: 
DEMANDE DE PRODUIT
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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