État de disponibilité: | |
---|---|
Quantité: | |
TN-PSP180G-2TA-RSH
TN
Technologie de pointe, il assure un revêtement uniforme et de haute qualité d'un film d'or conducteur sur divers substrats.La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est équipée d'une chambre en verre de quartz, offrant une excellente visibilité et durabilité.Sa taille compacte et sa conception conviviale le rendent adapté à une utilisation en laboratoire ou à une production à petite échelle.
Grâce à la méthode de pulvérisation en deux étapes, cette machine offre un contrôle précis du processus de revêtement, garantissant des résultats cohérents et reproductibles.La technologie de pulvérisation plasma à basse température permet le dépôt de films minces sans endommager les échantillons sensibles.Cela en fait un choix idéal pour la préparation d'échantillons SEM, où un revêtement conducteur est requis pour l'imagerie et l'analyse.
La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est conçue pour offrir des performances fiables et une facilité d'utilisation.Il dispose d'une interface conviviale avec des commandes intuitives, permettant une utilisation et un réglage des paramètres faciles.La chambre en verre de quartz offre non seulement une excellente visibilité pendant le processus de revêtement, mais offre également une résistance exceptionnelle à la corrosion chimique et aux chocs thermiques.
Cette coucheuse par pulvérisation cathodique est compatible avec une large gamme de substrats, notamment le verre, le métal, la céramique et les matériaux semi-conducteurs.Il permet le dépôt de films d’or conducteurs d’épaisseur réglable, répondant aux exigences spécifiques des différentes applications.Le revêtement uniforme obtenu par cette machine garantit des résultats précis et fiables dans divers domaines de recherche, tels que la science des matériaux, la nanotechnologie et l'analyse de surfaces.
En conclusion, la mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau avec chambre en verre de quartz est un instrument de qualité professionnelle adapté au revêtement de films d'or conducteurs.Sa méthode de pulvérisation en deux étapes, sa technologie de pulvérisation plasma à basse température et sa conception conviviale en font un excellent choix pour la préparation d'échantillons SEM ou les expériences de revêtement métallique.Avec sa taille compacte et ses performances fiables, c'est un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques de diverses industries.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-2TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320mm x470mm | |
Poids | 30 kg |
Technologie de pointe, il assure un revêtement uniforme et de haute qualité d'un film d'or conducteur sur divers substrats.La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est équipée d'une chambre en verre de quartz, offrant une excellente visibilité et durabilité.Sa taille compacte et sa conception conviviale le rendent adapté à une utilisation en laboratoire ou à une production à petite échelle.
Grâce à la méthode de pulvérisation en deux étapes, cette machine offre un contrôle précis du processus de revêtement, garantissant des résultats cohérents et reproductibles.La technologie de pulvérisation plasma à basse température permet le dépôt de films minces sans endommager les échantillons sensibles.Cela en fait un choix idéal pour la préparation d'échantillons SEM, où un revêtement conducteur est requis pour l'imagerie et l'analyse.
La mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau est conçue pour offrir des performances fiables et une facilité d'utilisation.Il dispose d'une interface conviviale avec des commandes intuitives, permettant une utilisation et un réglage des paramètres faciles.La chambre en verre de quartz offre non seulement une excellente visibilité pendant le processus de revêtement, mais offre également une résistance exceptionnelle à la corrosion chimique et aux chocs thermiques.
Cette coucheuse par pulvérisation cathodique est compatible avec une large gamme de substrats, notamment le verre, le métal, la céramique et les matériaux semi-conducteurs.Il permet le dépôt de films d’or conducteurs d’épaisseur réglable, répondant aux exigences spécifiques des différentes applications.Le revêtement uniforme obtenu par cette machine garantit des résultats précis et fiables dans divers domaines de recherche, tels que la science des matériaux, la nanotechnologie et l'analyse de surfaces.
En conclusion, la mini coucheuse par pulvérisation plasma sous vide de bureau avec chambre en verre de quartz est un instrument de qualité professionnelle adapté au revêtement de films d'or conducteurs.Sa méthode de pulvérisation en deux étapes, sa technologie de pulvérisation plasma à basse température et sa conception conviviale en font un excellent choix pour la préparation d'échantillons SEM ou les expériences de revêtement métallique.Avec sa taille compacte et ses performances fiables, c'est un outil essentiel pour les chercheurs et les scientifiques de diverses industries.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-2TA-RSH | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50 Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320mm x470mm | |
Poids | 30 kg |