| Quantité: | |
|---|---|
TN-PSP180G-2TA-R
TN
La coucheuse par pulvérisation plasma à double cible est capable de fournir des revêtements d'or, de platine, d'indium et d'argent de haute qualité sur divers substrats.
Le dispositif de pulvérisation plasma à double cible est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la préparation d'échantillons SEM et des expériences de revêtement métallique.Grâce à sa technologie avancée et à son contrôle précis, cette coucheuse garantit des revêtements cohérents et uniformes, permettant une analyse et une observation précises au microscope électronique à balayage.
Équipée d'une pompe à vide, cette coucheuse crée un environnement basse pression nécessaire au processus de pulvérisation plasma.La configuration à double cible permet un revêtement simultané avec différents matériaux, augmentant ainsi la productivité et la polyvalence.Que vous ayez besoin de revêtements en or, platine, indium ou argent, ce revêtement offre des résultats exceptionnels.
Le procédé de pulvérisation plasma à basse température utilisé par cette coucheuse offre plusieurs avantages.Il minimise le risque de dommages thermiques sur les échantillons délicats, garantissant ainsi leur intégrité tout au long du processus de revêtement.De plus, le contrôle précis des paramètres de dépôt permet un réglage précis de l'épaisseur du revêtement, garantissant ainsi des résultats optimaux pour votre application spécifique.
Avec ses performances de qualité professionnelle et son interface conviviale, le dispositif de pulvérisation plasma à double cible est le choix idéal pour les chercheurs, les scientifiques et les techniciens dans le domaine de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'électronique.Sa fiabilité, son efficacité et sa polyvalence en font un outil essentiel pour tout laboratoire ou installation de recherche.
Investissez dans l'appareil de pulvérisation plasma à double cible avec pompe à vide pour les revêtements d'or, de platine, d'indium et d'argent, et élevez vos expériences de préparation d'échantillons et de revêtement métallique vers de nouveaux sommets de précision et de qualité.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-2TA-R | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
La coucheuse par pulvérisation plasma à double cible est capable de fournir des revêtements d'or, de platine, d'indium et d'argent de haute qualité sur divers substrats.
Le dispositif de pulvérisation plasma à double cible est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la préparation d'échantillons SEM et des expériences de revêtement métallique.Grâce à sa technologie avancée et à son contrôle précis, cette coucheuse garantit des revêtements cohérents et uniformes, permettant une analyse et une observation précises au microscope électronique à balayage.
Équipée d'une pompe à vide, cette coucheuse crée un environnement basse pression nécessaire au processus de pulvérisation plasma.La configuration à double cible permet un revêtement simultané avec différents matériaux, augmentant ainsi la productivité et la polyvalence.Que vous ayez besoin de revêtements en or, platine, indium ou argent, ce revêtement offre des résultats exceptionnels.
Le procédé de pulvérisation plasma à basse température utilisé par cette coucheuse offre plusieurs avantages.Il minimise le risque de dommages thermiques sur les échantillons délicats, garantissant ainsi leur intégrité tout au long du processus de revêtement.De plus, le contrôle précis des paramètres de dépôt permet un réglage précis de l'épaisseur du revêtement, garantissant ainsi des résultats optimaux pour votre application spécifique.
Avec ses performances de qualité professionnelle et son interface conviviale, le dispositif de pulvérisation plasma à double cible est le choix idéal pour les chercheurs, les scientifiques et les techniciens dans le domaine de la science des matériaux, de la nanotechnologie et de l'électronique.Sa fiabilité, son efficacité et sa polyvalence en font un outil essentiel pour tout laboratoire ou installation de recherche.
Investissez dans l'appareil de pulvérisation plasma à double cible avec pompe à vide pour les revêtements d'or, de platine, d'indium et d'argent, et élevez vos expériences de préparation d'échantillons et de revêtement métallique vers de nouveaux sommets de précision et de qualité.
Paramètres techniques:
Modèle du produit | TN-PSP180G-2TA-R | |
Échantillon scène | Taille | 100mm |
Distance de la scène d'échantillonnage à la surface cible | 20 ~ 35 mm réglable en hauteur | |
Tournant vitesse | 1~20 tr/min Ajustable | |
Chauffage température | ≤500℃ | |
Température précision du contrôle | ±1 ℃ PID contrôle de la température | |
Plasma source de pulvérisation | Quantité | 2 pouces x 1/2/3 |
Refroidissement méthode | Eau refroidissement/refroidissement naturel | |
Vide chambre | Chambre taille | φ180 mm x 210 mm |
Observation fenêtre | Omnidirectionnel visibilité | |
Chambre matériel | Haut quartz de pureté | |
Ouvrir méthode | Haut housse amovible | |
Supérieur et matériau du couvercle inférieur | 304 acier inoxydable | |
Pompage port | KF16 | |
Admission port | 1/4 connecteur de virole en pouces | |
Pouvoir configuration | Quantité | CC alimentation x1 |
Sortir pouvoir | Max. 150W | |
Pulvérisation pouvoir | 1200V | |
Max. courant de pulvérisation | 50mA | |
Vide système | Vide type de pompe | À deux étages pompe à vide à palettes rotatives |
Pompage port | KF16 | |
Échappement interface | KF16 | |
Pompage taux | 1,1 L/s (4 m3/h) | |
Ultime vide | ≥0,1Pa | |
Vide la mesure | Résistance jauge à vide | |
Autres | Pouvoir fournir | CA 220V 50Hz |
Total pouvoir | 1,5 kW/2 kW | |
Dimension | 500mm x 320 mm x 470 mm | |
Poids | 30 kg | |
