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Système PECVD (ICP PECVD) pour le dépôt de films épais SiOx Ge-SiOx

Le PECVD (Chemical Vapor Deposition) est une technique de dépôt de couches minces couramment utilisée, qui implique la réaction de réactifs en phase gazeuse avec la surface d'un substrat à haute température pour former une couche mince.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN

Présentation de nos systèmes CVD (Chemical Vapor Deposition) de pointe, conçus pour révolutionner le traitement de vos matériaux de substrat.Avec une précision et une fiabilité maximales, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre à une large gamme de matériaux, notamment le silicium, le verre, les métaux, etc.


Fabriqués avec une expertise de pointe, nos systèmes CVD garantissent des performances exceptionnelles et des résultats cohérents, ce qui en fait un choix idéal pour diverses applications.Que vous travailliez avec des substrats en verre délicats ou des surfaces métalliques robustes, nos systèmes CVD offrent une qualité et une efficacité inégalées.


Équipés d'une technologie de pointe, nos systèmes CVD offrent un processus de dépôt transparent et contrôlé.Avec un contrôle précis de la température, de la pression et du débit de gaz, vous pouvez obtenir les caractéristiques de film souhaitées avec la plus grande précision.Ce niveau de contrôle garantit des revêtements uniformes et sans défauts, améliorant ainsi les performances globales et la durabilité de vos produits.


Nos systèmes CVD sont conçus dans un souci de convivialité, avec des interfaces intuitives et des opérations rationalisées.Avec une formation minimale requise, vous pouvez utiliser le système sans effort, économisant ainsi un temps et des ressources précieux.


De plus, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre aux normes de sécurité les plus élevées, garantissant ainsi un environnement de travail sécurisé.Avec des fonctionnalités de sécurité robustes et des systèmes de surveillance complets, vous pouvez avoir l’esprit tranquille lorsque vous utilisez notre équipement.


Investissez dans nos systèmes CVD de pointe et débloquez des possibilités illimitées pour vos besoins en matière de traitement des matériaux de substrat.Bénéficiez de performances inégalées, d'une fiabilité inégalée et d'une qualité exceptionnelle avec nos systèmes CVD de qualité professionnelle.Élevez vos capacités de production et restez en tête sur le marché concurrentiel d'aujourd'hui.

RF   source de courant

Signal   fréquence

13,56 MHz ± 0,005 %

Pouvoir   plage de sortie

0~300W

Maximum   puissance réfléchie

100W

Reflété   puissance (à puissance maximale)

<3W

Pouvoir   la stabilité

±0,1%

Four tubulaire

Tube   matériel

Haut   quartz de pureté

Extérieur   diamètre du tube

100mm

Tube   longueur

1200 mm

fourneau   longueur de la chambre

440mm

Chauffage   longueur de la zone

200mm+200mm   (deux zones de température)

Constante   longueur de la zone de température

200mm

Continu   température de fonctionnement

Max.1100℃

Température   précision du contrôle

±1 ℃

Température   mode de contrôle

30   contrôle de la température du programme de segments

Afficher   mode

Écran LCD

Scellage   méthode

304   bride à vide en acier inoxydable

Gaz   fournir

système

Modèle

CY-6Z

Canal   Nombres

6

Mesure   unité

Masse   contrôleur de débit

Mesure   gamme

A   canal : 0~200SCCM   pour H2  

Remarques:   Si d’autres gammes sont nécessaires, merci de le préciser lors de la commande.Selon le   Exigences spécifiques du client, le débitmètre du type de gaz correspondant   et la plage est facultative.

B   canal : 0~200SCCM   pour CH4

C   canal : 0~200SCCM   pour C2H4

C   canal : 0~500SCCM   pour N2

D   canal : 0~500SCCM   pour NH3

E   canal : 0~500SCCM   pour Ar

Précision de mesure

±1,5 % PE

Fonctionnement   différence de pression

-0,15 MPa ~ 0,15 MPa

De liaison   tuyau

304   acier inoxydable

Gaz   canal

304   vanne à pointeau en acier inoxydable

Interface   spécification

1/4'   connecteur à virole pour entrée et sortie de gaz

Vide   système

Mécanique   pompe

Double étage   pompe à palettes

Pompage   taux

1,1L/S  

Vide   la mesure

Résistance   jauge

Ultime   vide

1,0E-1Pa

Pompage   interface

KF16

Glissement   rail

Peut   réaliser le glissement d'un four à deux zones de température, pour réaliser une température rapide   Ascension et chute.

Pouvoir   fournir

AC220V   50Hz


sur: 
En vertu d'un: 
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