État de disponibilité: | |
---|---|
Quantité: | |
TN
Présentation de nos systèmes CVD (Chemical Vapor Deposition) de pointe, conçus pour révolutionner le traitement de vos matériaux de substrat.Avec une précision et une fiabilité maximales, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre à une large gamme de matériaux, notamment le silicium, le verre, les métaux, etc.
Fabriqués avec une expertise de pointe, nos systèmes CVD garantissent des performances exceptionnelles et des résultats cohérents, ce qui en fait un choix idéal pour diverses applications.Que vous travailliez avec des substrats en verre délicats ou des surfaces métalliques robustes, nos systèmes CVD offrent une qualité et une efficacité inégalées.
Équipés d'une technologie de pointe, nos systèmes CVD offrent un processus de dépôt transparent et contrôlé.Avec un contrôle précis de la température, de la pression et du débit de gaz, vous pouvez obtenir les caractéristiques de film souhaitées avec la plus grande précision.Ce niveau de contrôle garantit des revêtements uniformes et sans défauts, améliorant ainsi les performances globales et la durabilité de vos produits.
Nos systèmes CVD sont conçus dans un souci de convivialité, avec des interfaces intuitives et des opérations rationalisées.Avec une formation minimale requise, vous pouvez utiliser le système sans effort, économisant ainsi un temps et des ressources précieux.
De plus, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre aux normes de sécurité les plus élevées, garantissant ainsi un environnement de travail sécurisé.Avec des fonctionnalités de sécurité robustes et des systèmes de surveillance complets, vous pouvez avoir l’esprit tranquille lorsque vous utilisez notre équipement.
Investissez dans nos systèmes CVD de pointe et débloquez des possibilités illimitées pour vos besoins en matière de traitement des matériaux de substrat.Bénéficiez de performances inégalées, d'une fiabilité inégalée et d'une qualité exceptionnelle avec nos systèmes CVD de qualité professionnelle.Élevez vos capacités de production et restez en tête sur le marché concurrentiel d'aujourd'hui.
RF source de courant | Signal fréquence | 13,56 MHz ± 0,005 % | |
Pouvoir plage de sortie | 0~300W | ||
Maximum puissance réfléchie | 100W | ||
Reflété puissance (à puissance maximale) | <3W | ||
Pouvoir la stabilité | ±0,1% | ||
Four tubulaire | Tube matériel | Haut quartz de pureté | |
Extérieur diamètre du tube | 100mm | ||
Tube longueur | 1200 mm | ||
fourneau longueur de la chambre | 440mm | ||
Chauffage longueur de la zone | 200mm+200mm (deux zones de température) | ||
Constante longueur de la zone de température | 200mm | ||
Continu température de fonctionnement | |||
Température précision du contrôle | ±1 ℃ | ||
Température mode de contrôle | 30 contrôle de la température du programme de segments | ||
Afficher mode | Écran LCD | ||
Scellage méthode | 304 bride à vide en acier inoxydable | ||
Gaz fournir système | Modèle | CY-6Z | |
Canal Nombres | 6 | ||
Mesure unité | Masse contrôleur de débit | ||
Mesure gamme | A canal : 0~200SCCM pour H2 | Remarques: Si d’autres gammes sont nécessaires, merci de le préciser lors de la commande.Selon le Exigences spécifiques du client, le débitmètre du type de gaz correspondant et la plage est facultative. | |
B canal : 0~200SCCM pour CH4 | |||
C canal : 0~200SCCM pour C2H4 | |||
C canal : 0~500SCCM pour N2 | |||
D canal : 0~500SCCM pour NH3 | |||
E canal : 0~500SCCM pour Ar | |||
Précision de mesure | ±1,5 % PE | ||
Fonctionnement différence de pression | -0,15 MPa ~ 0,15 MPa | ||
De liaison tuyau | 304 acier inoxydable | ||
Gaz canal | 304 vanne à pointeau en acier inoxydable | ||
Interface spécification | 1/4' connecteur à virole pour entrée et sortie de gaz | ||
Vide système | Mécanique pompe | Double étage pompe à palettes | |
Pompage taux | 1,1L/S | ||
Vide la mesure | Résistance jauge | ||
Ultime vide | 1,0E-1Pa | ||
Pompage interface | KF16 | ||
Glissement rail | Peut réaliser le glissement d'un four à deux zones de température, pour réaliser une température rapide Ascension et chute. | ||
Pouvoir fournir | AC220V 50Hz |
Présentation de nos systèmes CVD (Chemical Vapor Deposition) de pointe, conçus pour révolutionner le traitement de vos matériaux de substrat.Avec une précision et une fiabilité maximales, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre à une large gamme de matériaux, notamment le silicium, le verre, les métaux, etc.
Fabriqués avec une expertise de pointe, nos systèmes CVD garantissent des performances exceptionnelles et des résultats cohérents, ce qui en fait un choix idéal pour diverses applications.Que vous travailliez avec des substrats en verre délicats ou des surfaces métalliques robustes, nos systèmes CVD offrent une qualité et une efficacité inégalées.
Équipés d'une technologie de pointe, nos systèmes CVD offrent un processus de dépôt transparent et contrôlé.Avec un contrôle précis de la température, de la pression et du débit de gaz, vous pouvez obtenir les caractéristiques de film souhaitées avec la plus grande précision.Ce niveau de contrôle garantit des revêtements uniformes et sans défauts, améliorant ainsi les performances globales et la durabilité de vos produits.
Nos systèmes CVD sont conçus dans un souci de convivialité, avec des interfaces intuitives et des opérations rationalisées.Avec une formation minimale requise, vous pouvez utiliser le système sans effort, économisant ainsi un temps et des ressources précieux.
De plus, nos systèmes CVD sont conçus pour répondre aux normes de sécurité les plus élevées, garantissant ainsi un environnement de travail sécurisé.Avec des fonctionnalités de sécurité robustes et des systèmes de surveillance complets, vous pouvez avoir l’esprit tranquille lorsque vous utilisez notre équipement.
Investissez dans nos systèmes CVD de pointe et débloquez des possibilités illimitées pour vos besoins en matière de traitement des matériaux de substrat.Bénéficiez de performances inégalées, d'une fiabilité inégalée et d'une qualité exceptionnelle avec nos systèmes CVD de qualité professionnelle.Élevez vos capacités de production et restez en tête sur le marché concurrentiel d'aujourd'hui.
RF source de courant | Signal fréquence | 13,56 MHz ± 0,005 % | |
Pouvoir plage de sortie | 0~300W | ||
Maximum puissance réfléchie | 100W | ||
Reflété puissance (à puissance maximale) | <3W | ||
Pouvoir la stabilité | ±0,1% | ||
Four tubulaire | Tube matériel | Haut quartz de pureté | |
Extérieur diamètre du tube | 100mm | ||
Tube longueur | 1200 mm | ||
fourneau longueur de la chambre | 440mm | ||
Chauffage longueur de la zone | 200mm+200mm (deux zones de température) | ||
Constante longueur de la zone de température | 200mm | ||
Continu température de fonctionnement | |||
Température précision du contrôle | ±1 ℃ | ||
Température mode de contrôle | 30 contrôle de la température du programme de segments | ||
Afficher mode | Écran LCD | ||
Scellage méthode | 304 bride à vide en acier inoxydable | ||
Gaz fournir système | Modèle | CY-6Z | |
Canal Nombres | 6 | ||
Mesure unité | Masse contrôleur de débit | ||
Mesure gamme | A canal : 0~200SCCM pour H2 | Remarques: Si d’autres gammes sont nécessaires, merci de le préciser lors de la commande.Selon le Exigences spécifiques du client, le débitmètre du type de gaz correspondant et la plage est facultative. | |
B canal : 0~200SCCM pour CH4 | |||
C canal : 0~200SCCM pour C2H4 | |||
C canal : 0~500SCCM pour N2 | |||
D canal : 0~500SCCM pour NH3 | |||
E canal : 0~500SCCM pour Ar | |||
Précision de mesure | ±1,5 % PE | ||
Fonctionnement différence de pression | -0,15 MPa ~ 0,15 MPa | ||
De liaison tuyau | 304 acier inoxydable | ||
Gaz canal | 304 vanne à pointeau en acier inoxydable | ||
Interface spécification | 1/4' connecteur à virole pour entrée et sortie de gaz | ||
Vide système | Mécanique pompe | Double étage pompe à palettes | |
Pompage taux | 1,1L/S | ||
Vide la mesure | Résistance jauge | ||
Ultime vide | 1,0E-1Pa | ||
Pompage interface | KF16 | ||
Glissement rail | Peut réaliser le glissement d'un four à deux zones de température, pour réaliser une température rapide Ascension et chute. | ||
Pouvoir fournir | AC220V 50Hz |