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Système PE-HPCVD (Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition) pour les dichalcogénures de métaux de transition

sio2 pecvd sio2 cvd revêtement en couche mince dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma pecvd Système CVD à double zone de chauffage pour la production de graphène et le frittage de matériaux


 
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-O1200-50IIT

  • TN

Ce produit est un système de four à tube rotatif à double zone de chauffage hybride amélioré par plasma de 1200 ℃ (HPCVD).L'équipement comprend un four tubulaire à double zone de chauffage, un ensemble de sources d'évaporation de filament de tungstène, un ensemble de générateur de plasma et un ensemble de système de débitmètre massique.Son principe de fonctionnement est d'évaporer le réactif à l'extrémité d'entrée de gaz via la source d'évaporation et de le charger dans la zone de chauffage du four tubulaire via le flux d'air pour effectuer la réaction CVD.Dans le même temps, la réaction est favorisée par l’amélioration du plasma.Il convient au traitement thermique de poudre composite inorganique et à l'uniformité du revêtement de surface (par exemple, préparer des poudres cathodiques de batterie Li-Ion avec des revêtements conducteurs sur la surface de l'échantillon).

Paramètres techniques:

Deux   four tubulaire à zone de chauffage

Produit   modèle

TN-O1200-50IIT

fourneau   matériau du tube

Haut   quartz de pureté

Tube   diamètre

50mm

fourneau   longueur du tube

1200mm

fourneau   longueur de la chambre

440mm

Chauffage   longueur de la zone

200mm+200mm

en fonctionnement   température

0~1100℃

Température   précision du contrôle

±1 ℃

Température   mode de contrôle

30   ou contrôle de la température par programme à 50 segments

Afficher   mode

HD   écran tactile LCD couleur

Scellage   méthode

304   bride à vide en acier inoxydable

Pouvoir   fournir

CA :   220 V 50/60 Hz 2,5 kW

RF   système de sortie

Pouvoir   gamme

0~500W   Ajustable

fonctionnement   fréquence

13,56MHz+0,005%

Fonctionnement   mode

Continu   sortir

Correspondant   mode impédance

Il   peut être assorti et la lueur est uniformément répartie dans tout le four   tube

Pouvoir   la stabilité

≤2W

Normale   puissance réfléchie de travail

≤3W

Amplifié   puissance réfléchie

≤70W

Harmonique   composant

≤-50dBc

Dans l'ensemble   efficacité

≥70%

Pouvoir   Facteur

≥90 %

Fournir   tension/fréquence

Monophasé   Fréquence CA (187 V ~ 153 V) 50/60 Hz

Contrôle   mode

Interne   contrôle/automate  quantité analogique/RS232/485   communication

Pouvoir   paramètres de protection

CC   protection contre les surintensités, protection contre la surchauffe de l'amplificateur de puissance,   protection de la puissance réfléchie

Refroidissement   méthode

Forcé   refroidissement par air

Briller   zone

Sous   Ar, l'alimentation radiofréquence et la bobine coopèrent avec la lueur pour   remplir le tube du four

Évaporation   bateau

Fonctionnement   température

1300℃

Évaporation   source

Tungstène   panier métallique, creuset conique en alumine en option

Thermocouple

S   type thermocouple

Fonctionnement   actuel

≤30A

Max.   pouvoir

500W

Gaz   système de livraison

Débitmètre

Quatre canaux   Débitmètre massique

Couler   gamme

MFC1   plage : 0~200sccm Plage MFC2 : 0~200sccm

MFC3   plage : 0~500sccm Plage MFC4 : 0~500sccm

Correspondant   aux gaz H2, CH4, N2, Ar.

La mesure   précision

±1,5 % PE

Répétabilité

±0,2 % PE

Précision linéaire

±1 % PE

Temps de réponse

≤4s

La pression de travail

-0,15 MPa ~ 0,15 MPa

Couler   contrôle

Écran LCD   contrôle par écran tactile, affichage numérique, chaque canal de gaz contient une vanne à pointeau   pour un contrôle individuel.

Admission   Interface

Il   peut être connecté avec un tuyau en acier inoxydable de 1/4 NPS ou de 6 mm de diamètre extérieur

Sortie   Interface

Il   peut être connecté avec un tuyau en acier inoxydable de 1/4 NPS ou de 6 mm de diamètre extérieur

Connexion   méthode

Double   connecteur de virole

en fonctionnement   température

5 ~ 45 ℃

Gaz   prémélange

Équipé   avec dispositif de prémélange de gaz

Échappement   système

Produit   modèle

CY-GZK103-A

Moléculaire   pompe

Turbomoléculaire   pompe

Support   pompe

En deux étapes   pompe à palettes

Pompage   taux

Moléculaire   pompe : 600L/S

Complet   performances de pompage : 30 minutes de vide peuvent atteindre : 5 × 10E-3Pa

Rotatif   pompe à palettes : 1,1 L/S

Ultime   vide

5×10E-4Pa

Pompage   port

KF40

Échappement   interface

KF16

Vide   la mesure

Composé   jauge à vide


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En vertu d'un: 
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