| Quantité: | |
|---|---|
TNO1200-60IIC-R
TN
La réception d'alimentation du four à tube rotatif pour le nettoyage CVD de poudre PE est une solution de pointe conçue pour améliorer l'efficacité et la précision des processus PECVD.
Ce produit innovant offre un mécanisme d'alimentation et de réception fluide et précis pour les matériaux en poudre utilisés dans le nettoyage PECVD.Grâce à sa conception de four tubulaire rotatif, il assure un chauffage et une distribution uniformes de la poudre, ce qui entraîne un dépôt de couche mince cohérent et de haute qualité.
Le four à tube rotatif d'alimentation et de réception pour le nettoyage CVD de poudre PE est équipé d'une technologie plasma avancée, qui permet le dépôt de films minces avec une adhérence et une uniformité exceptionnelles.Cela garantit que les films résultants répondent aux exigences strictes de l’industrie électronique, garantissant des performances et une fiabilité optimales.
Conçu avec le plus grand professionnalisme, ce produit est fabriqué à partir de matériaux et de composants de haute qualité, garantissant durabilité et performances à long terme.Son interface conviviale et ses commandes intuitives facilitent son utilisation et sa maintenance, réduisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant la productivité.
Grâce à sa conception compacte et peu encombrante, le four tubulaire rotatif d'alimentation et de réception pour le nettoyage CVD en poudre PE peut être intégré de manière transparente aux systèmes PECVD existants, minimisant ainsi le temps d'installation et de configuration.Sa construction robuste et son ingénierie précise garantissent un fonctionnement stable et fiable, même dans des environnements industriels exigeants.
En résumé, la réception d'alimentation du four à tube rotatif pour le nettoyage CVD en poudre PE est une solution de pointe qui révolutionne le processus de nettoyage PECVD.Ses fonctionnalités avancées, sa conception professionnelle et ses performances exceptionnelles en font un outil indispensable pour l’industrie électronique, garantissant un dépôt de couches minces supérieur et une qualité de produit optimale.
Paramètres techniques
Four tubulaire à double zone de température | Modèle du produit | TNO1200-60IIC-R |
Puissance de l'équipement | 3KW | |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté | |
Taille du tube du four | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (Tube hétéromorphe en quartz) | |
Longueur de la chambre du four | 440mm | |
Longueur de la zone de chauffage | 200mm+200mm | |
Température de fonctionnement | 0～1150℃ | |
Température limite | 1200℃ | |
Précision du contrôle de la température | ±1 ℃ | |
Type de thermocouple | Thermocouple de type K | |
Mode de contrôle de la température | Contrôle de la température du programme à 30 segments, Auto-réglage des paramètres PID | |
Mode d'affichage | Écran tactile LCD couleur HD | |
Méthode de scellement | Bride à vide en acier inoxydable 304 | |
Source de courant | CA : 220 V 50/60 Hz | |
Vitesse de rotation | 0~13 tr/min | |
Angle d'inclinaison | 0~35° | |
Débitmètre massique à 3 canaux | Modèle du produit | CY-3Z |
Nombre de chemins de gaz | 3 canaux | |
Type de débitmètre | Débitmètre massique | |
Plage de mesure | Un canal : 0~100sccm ;Canal B : 0~200 sccm;Canal C : 0 ~ 500 sccm | |
Précision de mesure | ±1,5% | |
Différence de pression de travail | 0,1 ~ 0,5MPa | |
Interface de pipeline | Connecteur de virole de 1/4 pouces | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Système de vide | Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives à deux étages |
Vitesse de pompage | 1,1 L/s | |
Port de pompage | KF16 | |
Pomper le vide ultime | 10E-1Pa | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Alimentation RF | Fréquence du signal | 13,56 MHz ± 0,005 % |
Plage de puissance de sortie | 0~500W | |
Puissance réfléchie maximale | 100W | |
Interface de sortie RF | 50Ω, type N, femelle | |
Stabilité de puissance | ≤5W |
La réception d'alimentation du four à tube rotatif pour le nettoyage CVD de poudre PE est une solution de pointe conçue pour améliorer l'efficacité et la précision des processus PECVD.
Ce produit innovant offre un mécanisme d'alimentation et de réception fluide et précis pour les matériaux en poudre utilisés dans le nettoyage PECVD.Grâce à sa conception de four tubulaire rotatif, il assure un chauffage et une distribution uniformes de la poudre, ce qui entraîne un dépôt de couche mince cohérent et de haute qualité.
Le four à tube rotatif d'alimentation et de réception pour le nettoyage CVD de poudre PE est équipé d'une technologie plasma avancée, qui permet le dépôt de films minces avec une adhérence et une uniformité exceptionnelles.Cela garantit que les films résultants répondent aux exigences strictes de l’industrie électronique, garantissant des performances et une fiabilité optimales.
Conçu avec le plus grand professionnalisme, ce produit est fabriqué à partir de matériaux et de composants de haute qualité, garantissant durabilité et performances à long terme.Son interface conviviale et ses commandes intuitives facilitent son utilisation et sa maintenance, réduisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant la productivité.
Grâce à sa conception compacte et peu encombrante, le four tubulaire rotatif d'alimentation et de réception pour le nettoyage CVD en poudre PE peut être intégré de manière transparente aux systèmes PECVD existants, minimisant ainsi le temps d'installation et de configuration.Sa construction robuste et son ingénierie précise garantissent un fonctionnement stable et fiable, même dans des environnements industriels exigeants.
En résumé, la réception d'alimentation du four à tube rotatif pour le nettoyage CVD en poudre PE est une solution de pointe qui révolutionne le processus de nettoyage PECVD.Ses fonctionnalités avancées, sa conception professionnelle et ses performances exceptionnelles en font un outil indispensable pour l’industrie électronique, garantissant un dépôt de couches minces supérieur et une qualité de produit optimale.
Paramètres techniques
Four tubulaire à double zone de température | Modèle du produit | TNO1200-60IIC-R |
Puissance de l'équipement | 3KW | |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté | |
Taille du tube du four | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (Tube hétéromorphe en quartz) | |
Longueur de la chambre du four | 440mm | |
Longueur de la zone de chauffage | 200mm+200mm | |
Température de fonctionnement | 0～1150℃ | |
Température limite | 1200℃ | |
Précision du contrôle de la température | ±1 ℃ | |
Type de thermocouple | Thermocouple de type K | |
Mode de contrôle de la température | Contrôle de la température du programme à 30 segments, Auto-réglage des paramètres PID | |
Mode d'affichage | Écran tactile LCD couleur HD | |
Méthode de scellement | Bride à vide en acier inoxydable 304 | |
Source de courant | CA : 220 V 50/60 Hz | |
Vitesse de rotation | 0~13 tr/min | |
Angle d'inclinaison | 0~35° | |
Débitmètre massique à 3 canaux | Modèle du produit | CY-3Z |
Nombre de chemins de gaz | 3 canaux | |
Type de débitmètre | Débitmètre massique | |
Plage de mesure | Un canal : 0~100sccm ;Canal B : 0~200 sccm;Canal C : 0 ~ 500 sccm | |
Précision de mesure | ±1,5% | |
Différence de pression de travail | 0,1 ~ 0,5MPa | |
Interface de pipeline | Connecteur de virole de 1/4 pouces | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Système de vide | Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives à deux étages |
Vitesse de pompage | 1,1 L/s | |
Port de pompage | KF16 | |
Pomper le vide ultime | 10E-1Pa | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Alimentation RF | Fréquence du signal | 13,56 MHz ± 0,005 % |
Plage de puissance de sortie | 0~500W | |
Puissance réfléchie maximale | 100W | |
Interface de sortie RF | 50Ω, type N, femelle | |
Stabilité de puissance | ≤5W |
