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Notre four tubulaire rotatif coulissant vertical haute température PECVD est un équipement de pointe conçu pour répondre aux exigences exigeantes de ces industries.
Cette machine utilise la technique PECVD pour déposer des films minces de haute qualité avec une uniformité et une adhérence exceptionnelles.Grâce à sa conception rotative coulissante verticale, il offre une flexibilité et une efficacité accrues dans le processus de dépôt.La fonction de glissement vertical permet un chargement et un déchargement faciles des substrats, minimisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant la productivité.
Le four est capable d'atteindre des températures élevées jusqu'à [insérer la plage de température] avec un contrôle précis de la température.Cela garantit des conditions optimales pour le dépôt du film, ce qui se traduit par une qualité et des performances supérieures du film.Le mouvement de rotation améliore encore l'uniformité du film en permettant une distribution uniforme des gaz précurseurs sur la surface du substrat.
Équipée d'une technologie avancée de génération de plasma, notre four tubulaire PECVD assure une excitation efficace du plasma, conduisant à des propriétés de film améliorées et à une réduction des défauts.Le plasma améliore les réactions chimiques, ce qui entraîne une amélioration de la densité, de la dureté et de l'adhérence du film.Cela en fait un choix idéal pour les applications nécessitant des films minces hautes performances.
La machine est équipée d'un panneau de commande convivial, permettant une utilisation et une surveillance faciles du processus de dépôt.Il offre divers paramètres programmables, tels que le temps de dépôt, la température, les débits de gaz et la pression, permettant un contrôle précis et une personnalisation des propriétés du film.
De plus, notre machine à four tubulaire PECVD est conçue avec des caractéristiques de sécurité pour garantir la protection de l'opérateur et minimiser le risque d'accident.Il est construit avec des matériaux et des composants de haute qualité, garantissant durabilité et fiabilité à long terme.
Dans l’ensemble, notre four à tubes PECVD rotatif coulissant vertical à haute température est une solution de pointe pour le dépôt de couches minces dans l’industrie électronique.Il offre des performances, une flexibilité et une facilité d'utilisation supérieures, ce qui en fait un outil essentiel pour les laboratoires de recherche, les universités et les installations de production.Investissez dans notre four tubulaire PECVD pour obtenir une qualité de couche mince exceptionnelle et accélérer vos processus de recherche et développement.
Paramètres techniques
Four tubulaire à double zone de température | Modèle du produit | CY-O1200-60IIC-R |
Puissance de l'équipement | 3KW | |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté | |
Taille du tube du four | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (tube hétéromorphe à quartz) | |
Longueur de la chambre du four | 440mm | |
Longueur de la zone de chauffage | 200mm+200mm | |
Température de fonctionnement | 0~1150℃ | |
Température limite | 1200℃ | |
Précision du contrôle de la température | ±1 ℃ | |
Type de thermocouple | Thermocouple de type K | |
Mode de contrôle de la température | Contrôle de la température par programme à 30 segments, réglage automatique des paramètres PID | |
Mode d'affichage | Écran tactile LCD couleur HD | |
Méthode de scellement | Bride à vide en acier inoxydable 304 | |
Source de courant | CA : 220 V 50/60 Hz | |
Vitesse de rotation | 0~13 tr/min | |
Angle d'inclinaison | 0~35° | |
Débitmètre massique à 3 canaux | Modèle du produit | CY-3Z |
Nombre de chemins de gaz | 3 canaux | |
Type de débitmètre | Débitmètre massique | |
Plage de mesure | Un canal : 0~100sccm ;Canal B : 0 ~ 200 sccm ;Canal C : 0 ~ 500 sccm | |
Précision de mesure | ±1,5% | |
Différence de pression de travail | 0,1 ~ 0,5MPa | |
Interface de pipeline | Connecteur de virole de 1/4 pouces | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Système de vide | Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives à deux étages |
Vitesse de pompage | 1,1 L/s | |
Port de pompage | KF16 | |
Pomper le vide ultime | 10E-1Pa | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Alimentation RF | Fréquence du signal | 13,56 MHz ± 0,005 % |
Plage de puissance de sortie | 0~500W | |
Puissance réfléchie maximale | 100W | |
Interface de sortie RF | 50Ω, type N, femelle | |
Stabilité de puissance | ≤5W |
Notre four tubulaire rotatif coulissant vertical haute température PECVD est un équipement de pointe conçu pour répondre aux exigences exigeantes de ces industries.
Cette machine utilise la technique PECVD pour déposer des films minces de haute qualité avec une uniformité et une adhérence exceptionnelles.Grâce à sa conception rotative coulissante verticale, il offre une flexibilité et une efficacité accrues dans le processus de dépôt.La fonction de glissement vertical permet un chargement et un déchargement faciles des substrats, minimisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant la productivité.
Le four est capable d'atteindre des températures élevées jusqu'à [insérer la plage de température] avec un contrôle précis de la température.Cela garantit des conditions optimales pour le dépôt du film, ce qui se traduit par une qualité et des performances supérieures du film.Le mouvement de rotation améliore encore l'uniformité du film en permettant une distribution uniforme des gaz précurseurs sur la surface du substrat.
Équipée d'une technologie avancée de génération de plasma, notre four tubulaire PECVD assure une excitation efficace du plasma, conduisant à des propriétés de film améliorées et à une réduction des défauts.Le plasma améliore les réactions chimiques, ce qui entraîne une amélioration de la densité, de la dureté et de l'adhérence du film.Cela en fait un choix idéal pour les applications nécessitant des films minces hautes performances.
La machine est équipée d'un panneau de commande convivial, permettant une utilisation et une surveillance faciles du processus de dépôt.Il offre divers paramètres programmables, tels que le temps de dépôt, la température, les débits de gaz et la pression, permettant un contrôle précis et une personnalisation des propriétés du film.
De plus, notre machine à four tubulaire PECVD est conçue avec des caractéristiques de sécurité pour garantir la protection de l'opérateur et minimiser le risque d'accident.Il est construit avec des matériaux et des composants de haute qualité, garantissant durabilité et fiabilité à long terme.
Dans l’ensemble, notre four à tubes PECVD rotatif coulissant vertical à haute température est une solution de pointe pour le dépôt de couches minces dans l’industrie électronique.Il offre des performances, une flexibilité et une facilité d'utilisation supérieures, ce qui en fait un outil essentiel pour les laboratoires de recherche, les universités et les installations de production.Investissez dans notre four tubulaire PECVD pour obtenir une qualité de couche mince exceptionnelle et accélérer vos processus de recherche et développement.
Paramètres techniques
Four tubulaire à double zone de température | Modèle du produit | CY-O1200-60IIC-R |
Puissance de l'équipement | 3KW | |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté | |
Taille du tube du four | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (tube hétéromorphe à quartz) | |
Longueur de la chambre du four | 440mm | |
Longueur de la zone de chauffage | 200mm+200mm | |
Température de fonctionnement | 0~1150℃ | |
Température limite | 1200℃ | |
Précision du contrôle de la température | ±1 ℃ | |
Type de thermocouple | Thermocouple de type K | |
Mode de contrôle de la température | Contrôle de la température par programme à 30 segments, réglage automatique des paramètres PID | |
Mode d'affichage | Écran tactile LCD couleur HD | |
Méthode de scellement | Bride à vide en acier inoxydable 304 | |
Source de courant | CA : 220 V 50/60 Hz | |
Vitesse de rotation | 0~13 tr/min | |
Angle d'inclinaison | 0~35° | |
Débitmètre massique à 3 canaux | Modèle du produit | CY-3Z |
Nombre de chemins de gaz | 3 canaux | |
Type de débitmètre | Débitmètre massique | |
Plage de mesure | Un canal : 0~100sccm ;Canal B : 0 ~ 200 sccm ;Canal C : 0 ~ 500 sccm | |
Précision de mesure | ±1,5% | |
Différence de pression de travail | 0,1 ~ 0,5MPa | |
Interface de pipeline | Connecteur de virole de 1/4 pouces | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Système de vide | Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives à deux étages |
Vitesse de pompage | 1,1 L/s | |
Port de pompage | KF16 | |
Pomper le vide ultime | 10E-1Pa | |
Source de courant | AC220V 50/60Hz | |
Alimentation RF | Fréquence du signal | 13,56 MHz ± 0,005 % |
Plage de puissance de sortie | 0~500W | |
Puissance réfléchie maximale | 100W | |
Interface de sortie RF | 50Ω, type N, femelle | |
Stabilité de puissance | ≤5W |