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Machine rotative à haute température de four à tubes PECVD coulissant vertical

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Notre four tubulaire rotatif coulissant vertical haute température PECVD est un équipement de pointe conçu pour répondre aux exigences exigeantes de ces industries.


Cette machine utilise la technique PECVD pour déposer des films minces de haute qualité avec une uniformité et une adhérence exceptionnelles.Grâce à sa conception rotative coulissante verticale, il offre une flexibilité et une efficacité accrues dans le processus de dépôt.La fonction de glissement vertical permet un chargement et un déchargement faciles des substrats, minimisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant la productivité.


Le four est capable d'atteindre des températures élevées jusqu'à [insérer la plage de température] avec un contrôle précis de la température.Cela garantit des conditions optimales pour le dépôt du film, ce qui se traduit par une qualité et des performances supérieures du film.Le mouvement de rotation améliore encore l'uniformité du film en permettant une distribution uniforme des gaz précurseurs sur la surface du substrat.


Équipée d'une technologie avancée de génération de plasma, notre four tubulaire PECVD assure une excitation efficace du plasma, conduisant à des propriétés de film améliorées et à une réduction des défauts.Le plasma améliore les réactions chimiques, ce qui entraîne une amélioration de la densité, de la dureté et de l'adhérence du film.Cela en fait un choix idéal pour les applications nécessitant des films minces hautes performances.


La machine est équipée d'un panneau de commande convivial, permettant une utilisation et une surveillance faciles du processus de dépôt.Il offre divers paramètres programmables, tels que le temps de dépôt, la température, les débits de gaz et la pression, permettant un contrôle précis et une personnalisation des propriétés du film.


De plus, notre machine à four tubulaire PECVD est conçue avec des caractéristiques de sécurité pour garantir la protection de l'opérateur et minimiser le risque d'accident.Il est construit avec des matériaux et des composants de haute qualité, garantissant durabilité et fiabilité à long terme.


Dans l’ensemble, notre four à tubes PECVD rotatif coulissant vertical à haute température est une solution de pointe pour le dépôt de couches minces dans l’industrie électronique.Il offre des performances, une flexibilité et une facilité d'utilisation supérieures, ce qui en fait un outil essentiel pour les laboratoires de recherche, les universités et les installations de production.Investissez dans notre four tubulaire PECVD pour obtenir une qualité de couche mince exceptionnelle et accélérer vos processus de recherche et développement.


Paramètres techniques


Four tubulaire à double zone de température

Modèle du produit

CY-O1200-60IIC-R

Puissance de l'équipement

3KW

Matériau du tube du four

Quartz de haute pureté

Taille du tube du four

Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (tube hétéromorphe à quartz)

Longueur de la chambre du four

440mm

Longueur de la zone de chauffage

200mm+200mm

Température de fonctionnement

0~1150℃

Température limite

1200℃

Précision du contrôle de la température

±1 ℃

Type de thermocouple

Thermocouple de type K

Mode de contrôle de la température

Contrôle de la température par programme à 30 segments, réglage automatique des paramètres PID

Mode d'affichage

Écran tactile LCD couleur HD

Méthode de scellement

Bride à vide en acier inoxydable 304

Source de courant

CA : 220 V 50/60 Hz

Vitesse de rotation

0~13 tr/min

Angle d'inclinaison

0~35°

Débitmètre massique à 3 canaux

Modèle du produit

CY-3Z

Nombre de chemins de gaz

3 canaux

Type de débitmètre

Débitmètre massique

Plage de mesure

Un canal : 0~100sccm ;Canal B : 0 ~ 200 sccm ;Canal C : 0 ~ 500 sccm

Précision de mesure

±1,5%

Différence de pression de travail

0,1 ~ 0,5MPa

Interface de pipeline

Connecteur de virole de 1/4 pouces

Source de courant

AC220V 50/60Hz

Système de vide

Pompe à vide

Pompe à palettes rotatives à deux étages

Vitesse de pompage

1,1 L/s

Port de pompage

KF16

Pomper le vide ultime

10E-1Pa

Source de courant

AC220V 50/60Hz

Alimentation RF

Fréquence du signal

13,56 MHz ± 0,005 %

Plage de puissance de sortie

0~500W

Puissance réfléchie maximale

100W

Interface de sortie RF

50Ω, type N, femelle

Stabilité de puissance

≤5W


sur: 
En vertu d'un: 
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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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