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Présentation des cibles de pulvérisation en oxyde d'aluminium (Al2O3)

L'ensemble des cibles de pulvérisation en oxyde d'aluminium (Al2O3) est évaporé sous vide pour former des films diélectriques pour l'industrie des semi-conducteurs et comme couche protectrice de type miroir pour les revêtements optiques.
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L'oxyde d'aluminium, ou plus communément appelé alumine, est un composé chimique de formule chimique Al2O3.Il est généralement d'apparence blanche ou claire avec un point de fusion de 2 072 °C, une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 550 °C et une densité de 3,97 g/cc.On le trouve le plus souvent dans la nature sous forme de corindon minéral, dont sont dérivés le rubis et le saphir.L'oxyde d'aluminium est largement utilisé comme abrasif et est utilisé dans diverses applications industrielles.On le trouve également dans la peinture, les cosmétiques et les implants chirurgicaux.Il est évaporé sous vide pour former des films diélectriques pour l'industrie des semi-conducteurs et comme couche protectrice de type miroir pour les revêtements optiques.

Spécifications de l'oxyde d'aluminium (Al2O3) :

type de materiau

Oxyde d'aluminium

Symbole

Al2O3

Couleur/apparence

Blanc, solide cristallin

Point de fusion (°C)

2 072

Densité théorique (g/cc)

3.97

Rapport Z

0.336

Pulvérisation

RF-R

Densité de puissance maximale

(Watts/pouce carré)

20*

Type de caution

Indium, élastomère

Saphir excellent en E

faisceau;forme des films lisses et durs.  Évaporation thermique probable   pas possible


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