État de disponibilité: | |
---|---|
Quantité: | |
TN
Présentation de nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2), la solution ultime pour vos besoins de pulvérisation.Fabriquées avec la plus grande précision et en utilisant des matériaux de la plus haute qualité, ces cibles de pulvérisation sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) sont spécialement conçues pour répondre aux exigences exigeantes de divers processus de dépôt.Que vous soyez dans l'industrie des semi-conducteurs, de l'optique ou dans tout autre domaine nécessitant le dépôt de couches minces, nos cibles de pulvérisation cathodique sont le choix idéal.
Avec un ton professionnel, nous sommes fiers d’offrir une large gamme de matériaux de dépôt, y compris des sources d’évaporation et d’autres composants essentiels.Notre engagement envers l’excellence garantit que nos produits fournissent systématiquement des résultats exceptionnels, vous permettant d’obtenir facilement des revêtements optimaux en couches minces.
Lorsqu'il s'agit de cibles de pulvérisation, nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) se distinguent par leur pureté, leur uniformité et leur durabilité exceptionnelles.Ces cibles sont méticuleusement conçues pour fournir une excellente utilisation des matériaux, ce qui se traduit par des processus de dépôt efficaces et rentables.
Notre équipe d'experts travaille sans relâche pour garantir que nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Des mesures de contrôle qualité rigoureuses sont mises en œuvre tout au long du processus de fabrication, garantissant des performances et une fiabilité constantes.
Investir dans nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2), c'est investir dans l'avenir de vos processus de dépôt.Découvrez la différence que nos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt de haute qualité peuvent faire pour obtenir des revêtements en couches minces de qualité supérieure.
Spécifications de l'oxyde d'étain (SnO2) :
type de materiau | Oxyde d'étain |
Symbole | SnO2 |
Couleur/apparence | Blanc ou gris, cristallin Solide |
Point de fusion (°C) | 1 630 |
Densité théorique (g/cc) | 6.95 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Élastomère |
commentaires | Les films de W sont de l’oxygène déficient;s'oxyder à l'air. |
Choisissez nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) pour des performances, une fiabilité et une efficacité inégalées.Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre gamme complète de matériaux de dépôt et sur la manière dont ils peuvent élever vos processus de dépôt de couches minces vers de nouveaux sommets.
Présentation de nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2), la solution ultime pour vos besoins de pulvérisation.Fabriquées avec la plus grande précision et en utilisant des matériaux de la plus haute qualité, ces cibles de pulvérisation sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) sont spécialement conçues pour répondre aux exigences exigeantes de divers processus de dépôt.Que vous soyez dans l'industrie des semi-conducteurs, de l'optique ou dans tout autre domaine nécessitant le dépôt de couches minces, nos cibles de pulvérisation cathodique sont le choix idéal.
Avec un ton professionnel, nous sommes fiers d’offrir une large gamme de matériaux de dépôt, y compris des sources d’évaporation et d’autres composants essentiels.Notre engagement envers l’excellence garantit que nos produits fournissent systématiquement des résultats exceptionnels, vous permettant d’obtenir facilement des revêtements optimaux en couches minces.
Lorsqu'il s'agit de cibles de pulvérisation, nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) se distinguent par leur pureté, leur uniformité et leur durabilité exceptionnelles.Ces cibles sont méticuleusement conçues pour fournir une excellente utilisation des matériaux, ce qui se traduit par des processus de dépôt efficaces et rentables.
Notre équipe d'experts travaille sans relâche pour garantir que nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Des mesures de contrôle qualité rigoureuses sont mises en œuvre tout au long du processus de fabrication, garantissant des performances et une fiabilité constantes.
Investir dans nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2), c'est investir dans l'avenir de vos processus de dépôt.Découvrez la différence que nos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt de haute qualité peuvent faire pour obtenir des revêtements en couches minces de qualité supérieure.
Spécifications de l'oxyde d'étain (SnO2) :
type de materiau | Oxyde d'étain |
Symbole | SnO2 |
Couleur/apparence | Blanc ou gris, cristallin Solide |
Point de fusion (°C) | 1 630 |
Densité théorique (g/cc) | 6.95 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Élastomère |
commentaires | Les films de W sont de l’oxygène déficient;s'oxyder à l'air. |
Choisissez nos cibles de pulvérisation en oxyde d'étain (SnO2) pour des performances, une fiabilité et une efficacité inégalées.Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre gamme complète de matériaux de dépôt et sur la manière dont ils peuvent élever vos processus de dépôt de couches minces vers de nouveaux sommets.