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Présentation de nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) haut de gamme, conçues pour répondre aux divers besoins de diverses industries.Nos cibles de pulvérisation, ainsi que les sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt, sont méticuleusement conçues pour garantir des performances et une fiabilité exceptionnelles dans les processus de dépôt de couches minces.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) offrent une uniformité, une pureté et une densité exceptionnelles, garantissant des revêtements en couches minces cohérents et de haute qualité.Ces cibles sont conçues pour résister à des conditions de pulvérisation rigoureuses, permettant un dépôt efficace et contrôlé de films de tantale sur des substrats.
Avec nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta), vous pouvez obtenir des revêtements de couches minces précis et reproductibles pour des applications telles que les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques, les supports de stockage magnétiques, etc.Nos cibles sont disponibles dans différentes formes, tailles et configurations pour répondre à vos besoins spécifiques, garantissant la compatibilité avec différents systèmes de pulvérisation.
Nous sommes fiers de notre engagement à fournir des produits haut de gamme qui répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) sont soumises à des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour garantir des performances, une longévité et une satisfaction client exceptionnelles.
Associez-vous à nous et découvrez l'excellence de nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta), de nos sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Améliorez vos processus de dépôt de couches minces avec nos produits de qualité professionnelle, conçus pour répondre aux exigences des applications les plus difficiles.Faites confiance à notre expertise et débloquez de nouvelles possibilités dans vos processus de dépôt.
Spécifications du tantale (Ta) :
type de materiau | Tantale |
Symbole | Ta |
Poids atomique | 180.9479 |
Numéro atomique | 73 |
Couleur/apparence | Gris Bleu, Métallisé |
Conductivité thermique | 57 W/mK |
Point de fusion (°C) | 3 017 |
Coefficient thermique Expansion | 6,3 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 16.6 |
Rapport Z | 0.262 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Forme de bons films. |
Présentation de nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) haut de gamme, conçues pour répondre aux divers besoins de diverses industries.Nos cibles de pulvérisation, ainsi que les sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt, sont méticuleusement conçues pour garantir des performances et une fiabilité exceptionnelles dans les processus de dépôt de couches minces.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) offrent une uniformité, une pureté et une densité exceptionnelles, garantissant des revêtements en couches minces cohérents et de haute qualité.Ces cibles sont conçues pour résister à des conditions de pulvérisation rigoureuses, permettant un dépôt efficace et contrôlé de films de tantale sur des substrats.
Avec nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta), vous pouvez obtenir des revêtements de couches minces précis et reproductibles pour des applications telles que les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques, les supports de stockage magnétiques, etc.Nos cibles sont disponibles dans différentes formes, tailles et configurations pour répondre à vos besoins spécifiques, garantissant la compatibilité avec différents systèmes de pulvérisation.
Nous sommes fiers de notre engagement à fournir des produits haut de gamme qui répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Nos cibles de pulvérisation au tantale (Ta) sont soumises à des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour garantir des performances, une longévité et une satisfaction client exceptionnelles.
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Spécifications du tantale (Ta) :
type de materiau | Tantale |
Symbole | Ta |
Poids atomique | 180.9479 |
Numéro atomique | 73 |
Couleur/apparence | Gris Bleu, Métallisé |
Conductivité thermique | 57 W/mK |
Point de fusion (°C) | 3 017 |
Coefficient thermique Expansion | 6,3 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 16.6 |
Rapport Z | 0.262 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Forme de bons films. |