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Présentation de notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc (ZnO) - la quintessence de l'excellence dans le domaine des matériaux de dépôt.
Fabriquée avec la plus grande précision et utilisant des matériaux de la plus haute qualité, notre cible de pulvérisation en oxyde de zinc est conçue pour répondre aux exigences de diverses applications de pulvérisation.
Avec sa pureté et son uniformité exceptionnelles, cette cible de pulvérisation garantit des performances supérieures et des résultats cohérents dans les processus de dépôt de couches minces.Que vous ayez besoin de films minces pour des revêtements optiques, des dispositifs à semi-conducteurs ou des cellules solaires, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc est le choix parfait pour vos besoins.
Non limitée aux applications de pulvérisation, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc peut également être utilisée comme source d'évaporation, élargissant ainsi sa polyvalence dans le domaine des matériaux de dépôt.
Soutenue par une technologie de pointe et des recherches approfondies, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc garantit une qualité de film optimale, des taux de dépôt élevés et une productivité améliorée.
Investissez dans notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc et découvrez le summum de l'excellence en matière de matériaux de dépôt.Faites confiance à notre engagement à fournir le meilleur pour vos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres exigences en matière de matériaux de dépôt.
Spécifications de l'oxyde de zinc (ZnO) :
type de materiau | Oxyde de zinc |
Symbole | ZnO |
Couleur/apparence | Blanc, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 975 |
Densité théorique (g/cc) | 5.61 |
Rapport Z | 0.556 |
Pulvérisation | RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
Présentation de notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc (ZnO) - la quintessence de l'excellence dans le domaine des matériaux de dépôt.
Fabriquée avec la plus grande précision et utilisant des matériaux de la plus haute qualité, notre cible de pulvérisation en oxyde de zinc est conçue pour répondre aux exigences de diverses applications de pulvérisation.
Avec sa pureté et son uniformité exceptionnelles, cette cible de pulvérisation garantit des performances supérieures et des résultats cohérents dans les processus de dépôt de couches minces.Que vous ayez besoin de films minces pour des revêtements optiques, des dispositifs à semi-conducteurs ou des cellules solaires, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc est le choix parfait pour vos besoins.
Non limitée aux applications de pulvérisation, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc peut également être utilisée comme source d'évaporation, élargissant ainsi sa polyvalence dans le domaine des matériaux de dépôt.
Soutenue par une technologie de pointe et des recherches approfondies, notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc garantit une qualité de film optimale, des taux de dépôt élevés et une productivité améliorée.
Investissez dans notre cible de pulvérisation d'oxyde de zinc et découvrez le summum de l'excellence en matière de matériaux de dépôt.Faites confiance à notre engagement à fournir le meilleur pour vos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres exigences en matière de matériaux de dépôt.
Spécifications de l'oxyde de zinc (ZnO) :
type de materiau | Oxyde de zinc |
Symbole | ZnO |
Couleur/apparence | Blanc, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 975 |
Densité théorique (g/cc) | 5.61 |
Rapport Z | 0.556 |
Pulvérisation | RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
