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Présentation de nos cibles de pulvérisation Vanadium (V) de haute qualité, conçues pour répondre aux exigences de divers processus de dépôt.Ces cibles de pulvérisation cathodique sont spécialement conçues pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de dépôt de couches minces.
Fabriquées avec précision, nos cibles de pulvérisation au vanadium (V) sont idéales pour une utilisation dans un large éventail d'industries, notamment la fabrication de semi-conducteurs, de cellules optiques et de cellules solaires.Ils présentent une stabilité thermique remarquable, garantissant des performances constantes et fiables tout au long du processus de dépôt.
Nos cibles de pulvérisation sont méticuleusement fabriquées à l’aide de techniques avancées, ce qui donne une structure uniforme et dense.Cela permet une utilisation efficace des matériaux et une excellente uniformité du film, conduisant à une productivité et une rentabilité améliorées.
En plus des cibles de pulvérisation au vanadium (V), nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces produits sont conçus pour compléter nos cibles de pulvérisation cathodique, offrant à nos clients une solution complète pour leurs besoins en matière de dépôt de couches minces.
Avec un engagement envers la qualité, nos produits sont soumis à des procédures de tests et de contrôle qualité rigoureuses pour garantir qu'ils répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Nos cibles de pulvérisation Vanadium (V) garantissent des performances, une durabilité et une longévité exceptionnelles.
Associez-vous à nous pour tous vos besoins en matière de dépôt de couches minces et découvrez la fiabilité et l'efficacité de nos cibles de pulvérisation au vanadium (V).Faites confiance à notre expertise et à nos produits de pointe pour obtenir des revêtements en couches minces précis et uniformes pour vos applications.
Vanadium (V) Spécifications :
type de materiau | Vanadium |
Symbole | V |
Poids atomique | 50.9415 |
Numéro atomique | 23 |
Couleur/apparence | Gris argenté métallisé |
Conductivité thermique | 30,7 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 890 |
Coefficient de dilatation thermique | 8,4 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 6.11 |
Rapport Z | 0.53 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 50* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Mouille Mo. Évaporé par faisceau électronique films préférés. |
Présentation de nos cibles de pulvérisation Vanadium (V) de haute qualité, conçues pour répondre aux exigences de divers processus de dépôt.Ces cibles de pulvérisation cathodique sont spécialement conçues pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de dépôt de couches minces.
Fabriquées avec précision, nos cibles de pulvérisation au vanadium (V) sont idéales pour une utilisation dans un large éventail d'industries, notamment la fabrication de semi-conducteurs, de cellules optiques et de cellules solaires.Ils présentent une stabilité thermique remarquable, garantissant des performances constantes et fiables tout au long du processus de dépôt.
Nos cibles de pulvérisation sont méticuleusement fabriquées à l’aide de techniques avancées, ce qui donne une structure uniforme et dense.Cela permet une utilisation efficace des matériaux et une excellente uniformité du film, conduisant à une productivité et une rentabilité améliorées.
En plus des cibles de pulvérisation au vanadium (V), nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces produits sont conçus pour compléter nos cibles de pulvérisation cathodique, offrant à nos clients une solution complète pour leurs besoins en matière de dépôt de couches minces.
Avec un engagement envers la qualité, nos produits sont soumis à des procédures de tests et de contrôle qualité rigoureuses pour garantir qu'ils répondent aux normes les plus élevées de l'industrie.Nos cibles de pulvérisation Vanadium (V) garantissent des performances, une durabilité et une longévité exceptionnelles.
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Vanadium (V) Spécifications :
type de materiau | Vanadium |
Symbole | V |
Poids atomique | 50.9415 |
Numéro atomique | 23 |
Couleur/apparence | Gris argenté métallisé |
Conductivité thermique | 30,7 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 890 |
Coefficient de dilatation thermique | 8,4 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 6.11 |
Rapport Z | 0.53 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 50* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Mouille Mo. Évaporé par faisceau électronique films préférés. |
