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TN
Présentation de nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale (TaN) de haute qualité, la solution parfaite pour vos besoins de pulvérisation et de dépôt.
Fabriquées avec précision et expertise, nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.Ces cibles sont idéales pour une utilisation dans diverses applications, notamment le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, etc.
Nos cibles de pulvérisation de nitrure de tantale sont fabriquées à partir de matériaux de première qualité, garantissant une excellente pureté et cohérence.Avec leur composition uniforme et leur densité supérieure, ces cibles garantissent un dépôt de film constant et une productivité améliorée.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une large gamme de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt pour répondre à vos besoins spécifiques.Notre gamme complète de produits vous permet de trouver la solution parfaite pour vos processus de dépôt, garantissant des résultats et une efficacité optimaux.
En matière de qualité, nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale se démarquent de la concurrence.Chaque cible est soumise à des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour garantir qu'elle répond aux normes les plus élevées de l'industrie.Notre engagement envers l'excellence garantit que vous recevez uniquement les meilleurs produits pour vos applications.
Associez-vous à nous et découvrez la différence de travailler avec un fournisseur de confiance de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre équipe de professionnels se consacre à fournir un service client et un support technique exceptionnels, garantissant une expérience fluide du début à la fin.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale pour une qualité, une fiabilité et des performances inégalées.Élevez vos processus de dépôt vers de nouveaux sommets avec nos matériaux de pointe.Contactez-nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques et laissez-nous vous aider à trouver la solution parfaite pour votre application.
Spécifications du nitrure de tantale (TaN) :
type de materiau | Nitrure de tantale |
Symbole | Bronzer |
Couleur/apparence | Noir, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 3 360 |
Densité théorique (g/cc) | 16.3 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Évaporer Ta dans 10-3 Torr N2. |
type de materiau | Nitrure de tantale |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale (TaN) de haute qualité, la solution parfaite pour vos besoins de pulvérisation et de dépôt.
Fabriquées avec précision et expertise, nos cibles de pulvérisation en nitrure de tantale sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.Ces cibles sont idéales pour une utilisation dans diverses applications, notamment le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, etc.
Nos cibles de pulvérisation de nitrure de tantale sont fabriquées à partir de matériaux de première qualité, garantissant une excellente pureté et cohérence.Avec leur composition uniforme et leur densité supérieure, ces cibles garantissent un dépôt de film constant et une productivité améliorée.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une large gamme de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt pour répondre à vos besoins spécifiques.Notre gamme complète de produits vous permet de trouver la solution parfaite pour vos processus de dépôt, garantissant des résultats et une efficacité optimaux.
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Spécifications du nitrure de tantale (TaN) :
type de materiau | Nitrure de tantale |
Symbole | Bronzer |
Couleur/apparence | Noir, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 3 360 |
Densité théorique (g/cc) | 16.3 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Évaporer Ta dans 10-3 Torr N2. |
type de materiau | Nitrure de tantale |
