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Présentation de nos cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) de haute qualité, conçues pour répondre à vos besoins de dépôt avancés.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans diverses applications de dépôt de couches minces.Que vous ayez besoin de matériaux de dépôt pour des sources de pulvérisation ou d'évaporation, nos cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) sont votre choix idéal.
Avec un ton professionnel, nous vous assurons que nos produits sont fabriqués à l’aide d’une technologie de pointe et respectent des normes de qualité strictes.Notre équipe d'experts veille à ce que chaque cible de pulvérisation soit méticuleusement conçue pour permettre un dépôt de film cohérent et uniforme.
Les cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) possèdent des caractéristiques remarquables qui les distinguent dans l'industrie.Ceux-ci incluent une grande pureté, une excellente stabilité thermique et une conductivité électrique exceptionnelle.Leurs performances supérieures garantissent un dépôt de couches minces efficace et précis, vous permettant d’obtenir des résultats optimaux dans vos processus de recherche ou de production.
Notre engagement à fournir des produits de qualité supérieure s'étend à notre service client exceptionnel.Notre équipe compétente est toujours prête à vous aider à sélectionner les bonnes cibles de pulvérisation, sources d'évaporation ou autres matériaux de dépôt qui répondent le mieux à vos besoins spécifiques.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) pour des performances, une fiabilité et une durabilité exceptionnelles.Découvrez la différence dans vos processus de dépôt de couches minces avec nos produits de haute qualité.
Spécifications de l'oxyde de tantale (Ta2O5) :
type de materiau | Pentoxyde de tantale |
Symbole | Ta2O5 |
Couleur/apparence | Blanc, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 872 |
Densité théorique (g/cc) | 8.2 |
Rapport Z | 0.3 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Légère décomposition. Évaporer Ta dans 10-3 Torr O2. |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) de haute qualité, conçues pour répondre à vos besoins de dépôt avancés.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans diverses applications de dépôt de couches minces.Que vous ayez besoin de matériaux de dépôt pour des sources de pulvérisation ou d'évaporation, nos cibles de pulvérisation en oxyde de tantale (Ta2O5) sont votre choix idéal.
Avec un ton professionnel, nous vous assurons que nos produits sont fabriqués à l’aide d’une technologie de pointe et respectent des normes de qualité strictes.Notre équipe d'experts veille à ce que chaque cible de pulvérisation soit méticuleusement conçue pour permettre un dépôt de film cohérent et uniforme.
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Spécifications de l'oxyde de tantale (Ta2O5) :
type de materiau | Pentoxyde de tantale |
Symbole | Ta2O5 |
Couleur/apparence | Blanc, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 872 |
Densité théorique (g/cc) | 8.2 |
Rapport Z | 0.3 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Légère décomposition. Évaporer Ta dans 10-3 Torr O2. |
