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Présentation de nos cibles de pulvérisation en Hafnium (Hf) de qualité supérieure, conçues pour répondre à vos besoins de dépôt avancés.Avec un ton de voix professionnel, nous sommes fiers de présenter notre gamme de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.
Nos cibles de pulvérisation Hafnium (Hf) sont méticuleusement conçues pour offrir des performances exceptionnelles dans diverses applications de dépôt de couches minces.Fabriquées avec la plus grande précision, ces cibles garantissent des résultats cohérents et fiables, ce qui les rend idéales pour les industries de haute technologie telles que les semi-conducteurs, l'optique et l'électronique.
Conçues pour répondre aux exigences rigoureuses des processus de dépôt modernes, nos cibles de pulvérisation en Hafnium (Hf) présentent une pureté et une uniformité remarquables.Cela garantit le dépôt de films de haute qualité avec une excellente adhérence et une répartition uniforme de l’épaisseur, améliorant ainsi les performances globales de vos applications de couches minces.
Chez [Nom de l'entreprise], nous accordons la priorité à l'utilisation de techniques de fabrication de pointe pour garantir les plus hauts standards de qualité et de fiabilité.Nos cibles de pulvérisation Hafnium (Hf) sont soumises à des tests rigoureux et à des mesures de contrôle qualité pour garantir leurs performances supérieures, leur longévité et leur compatibilité avec divers systèmes de dépôt.
Avec notre gamme complète de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt, nous nous efforçons de vous fournir une solution unique pour tous vos besoins en matière de dépôt de couches minces.Notre engagement envers le professionnalisme et la satisfaction de nos clients nous distingue dans l'industrie, car nous travaillons continuellement à fournir des produits qui dépassent vos attentes.
Choisissez [Nom de l'entreprise] pour une expertise inégalée, une qualité exceptionnelle et un support client exceptionnel.Découvrez la différence que nos cibles de pulvérisation en Hafnium (Hf) peuvent faire dans vos processus de dépôt et ouvrez de nouvelles possibilités dans la technologie des couches minces.
Hafnium (Hf) Spécifications :
type de materiau | Hafnium |
Symbole | Hf |
Poids atomique | 178.49 |
Numéro atomique | 72 |
Couleur/apparence | Acier gris, métallisé |
Conductivité thermique | 23 W/mK |
Point de fusion (°C) | 2 227 |
Coefficient de dilatation thermique | 5,9 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 13.31 |
Rapport Z | 0.36 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 50* |
Type de caution | Indium, élastomère |
Contrôle des exportations (ECCN) | 1C231 |
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Nos cibles de pulvérisation Hafnium (Hf) sont méticuleusement conçues pour offrir des performances exceptionnelles dans diverses applications de dépôt de couches minces.Fabriquées avec la plus grande précision, ces cibles garantissent des résultats cohérents et fiables, ce qui les rend idéales pour les industries de haute technologie telles que les semi-conducteurs, l'optique et l'électronique.
Conçues pour répondre aux exigences rigoureuses des processus de dépôt modernes, nos cibles de pulvérisation en Hafnium (Hf) présentent une pureté et une uniformité remarquables.Cela garantit le dépôt de films de haute qualité avec une excellente adhérence et une répartition uniforme de l’épaisseur, améliorant ainsi les performances globales de vos applications de couches minces.
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Hafnium (Hf) Spécifications :
type de materiau | Hafnium |
Symbole | Hf |
Poids atomique | 178.49 |
Numéro atomique | 72 |
Couleur/apparence | Acier gris, métallisé |
Conductivité thermique | 23 W/mK |
Point de fusion (°C) | 2 227 |
Coefficient de dilatation thermique | 5,9 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 13.31 |
Rapport Z | 0.36 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 50* |
Type de caution | Indium, élastomère |
Contrôle des exportations (ECCN) | 1C231 |
