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Présentation de nos cibles de pulvérisation en nitrure de silicium (Si3N4) de haute qualité, conçues pour répondre à vos besoins de dépôt précis.Ces cibles sont méticuleusement conçues pour offrir des performances exceptionnelles et garantir des résultats optimaux dans diverses applications de pulvérisation.
Nos cibles de pulvérisation de nitrure de silicium sont spécialement conçues pour fournir une solution fiable et efficace pour vos processus de dépôt de couches minces.Avec leur pureté supérieure et leur excellente stabilité thermique, ces cibles garantissent une croissance de film constante et uniforme, vous permettant d'obtenir les propriétés de film mince souhaitées avec la plus grande précision.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre vaste sélection garantit que vous avez accès aux matériaux de la plus haute qualité requise pour vos techniques de dépôt, vous permettant d'adapter vos processus pour répondre aux exigences spécifiques de vos applications.
Avec notre engagement à fournir uniquement les meilleurs produits, nos cibles de pulvérisation en nitrure de silicium, nos sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt sont soumis à des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour garantir des performances et une fiabilité exceptionnelles.De plus, notre équipe d’experts est facilement disponible pour fournir une assistance et des conseils techniques, garantissant ainsi une intégration transparente de nos produits dans vos processus de dépôt.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en nitrure de silicium, nos sources d'évaporation et nos autres matériaux de dépôt pour des performances, une cohérence et une fiabilité inégalées.Découvrez la différence dans vos techniques de dépôt de couches minces avec nos produits haut de gamme.
Spécifications du nitrure de silicium (Si3N4) :
type de materiau | Nitrure de silicium |
Symbole | Si3N4 |
Couleur/apparence | Blanc à gris ou gris foncé au noir, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 900 |
Densité théorique (g/cc) | 3.44 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
type de materiau | Nitrure de silicium |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en nitrure de silicium (Si3N4) de haute qualité, conçues pour répondre à vos besoins de dépôt précis.Ces cibles sont méticuleusement conçues pour offrir des performances exceptionnelles et garantir des résultats optimaux dans diverses applications de pulvérisation.
Nos cibles de pulvérisation de nitrure de silicium sont spécialement conçues pour fournir une solution fiable et efficace pour vos processus de dépôt de couches minces.Avec leur pureté supérieure et leur excellente stabilité thermique, ces cibles garantissent une croissance de film constante et uniforme, vous permettant d'obtenir les propriétés de film mince souhaitées avec la plus grande précision.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre vaste sélection garantit que vous avez accès aux matériaux de la plus haute qualité requise pour vos techniques de dépôt, vous permettant d'adapter vos processus pour répondre aux exigences spécifiques de vos applications.
Avec notre engagement à fournir uniquement les meilleurs produits, nos cibles de pulvérisation en nitrure de silicium, nos sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt sont soumis à des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour garantir des performances et une fiabilité exceptionnelles.De plus, notre équipe d’experts est facilement disponible pour fournir une assistance et des conseils techniques, garantissant ainsi une intégration transparente de nos produits dans vos processus de dépôt.
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Spécifications du nitrure de silicium (Si3N4) :
type de materiau | Nitrure de silicium |
Symbole | Si3N4 |
Couleur/apparence | Blanc à gris ou gris foncé au noir, solide cristallin |
Point de fusion (°C) | 1 900 |
Densité théorique (g/cc) | 3.44 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | RF, RF-R |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
type de materiau | Nitrure de silicium |
