| Quantité: | |
|---|---|
TN
matériaux destinés à être utilisés dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD).
Description:
Présentation de nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) de haute qualité, conçues spécifiquement pour être utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD).Ces cibles sont méticuleusement fabriquées pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries, offrant des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) sont des composants essentiels dans la création de films minces grâce aux techniques PVD.Ils sont largement utilisés dans des applications telles que la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les cellules solaires à couches minces.Grâce à leur excellente conductivité thermique et électrique, nos cibles de pulvérisation garantissent un dépôt précis et efficace, résultant en une qualité de film supérieure.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) présentent une pureté et une uniformité exceptionnelles, garantissant des résultats cohérents et reproductibles.Leur haute densité et leur structure à grains fins permettent une meilleure utilisation de la cible, prolongeant la durée de vie de la cible et réduisant les temps d'arrêt pour le remplacement.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Nos sources d'évaporation sont conçues pour fournir une vaporisation contrôlée des matériaux dans les processus PVD, permettant la création de films minces avec une excellente adhérence et uniformité.Grâce à notre vaste sélection de matériaux de dépôt, vous pouvez trouver la solution parfaite pour les exigences spécifiques de votre application.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) et nos matériaux de dépôt pour vos processus PVD et bénéficiez d'une fiabilité, de performances et d'une cohérence optimales.Nos produits s'appuient sur notre engagement envers la qualité et la satisfaction de nos clients, garantissant que vous recevez les meilleurs matériaux pour vos besoins en matière de dépôt de couches minces.Faites confiance à notre expertise et rejoignez les innombrables industries qui comptent sur nos produits pour leurs processus de fabrication avancés.
Niobium (Nb) Spécifications :
type de materiau | Niobium |
Symbole | Nb |
Poids atomique | 92.90638 |
Numéro atomique | 41 |
Couleur/apparence | Gris, Métallisé |
Conductivité thermique | 54 W/mK |
Point de fusion (°C) | 2 468 |
Coefficient thermique Expansion | 7,3 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 8.57 |
Rapport Z | 0.492 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Attaque la source W. |
matériaux destinés à être utilisés dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD).
Description:
Présentation de nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) de haute qualité, conçues spécifiquement pour être utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD).Ces cibles sont méticuleusement fabriquées pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries, offrant des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) sont des composants essentiels dans la création de films minces grâce aux techniques PVD.Ils sont largement utilisés dans des applications telles que la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les cellules solaires à couches minces.Grâce à leur excellente conductivité thermique et électrique, nos cibles de pulvérisation garantissent un dépôt précis et efficace, résultant en une qualité de film supérieure.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) présentent une pureté et une uniformité exceptionnelles, garantissant des résultats cohérents et reproductibles.Leur haute densité et leur structure à grains fins permettent une meilleure utilisation de la cible, prolongeant la durée de vie de la cible et réduisant les temps d'arrêt pour le remplacement.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Nos sources d'évaporation sont conçues pour fournir une vaporisation contrôlée des matériaux dans les processus PVD, permettant la création de films minces avec une excellente adhérence et uniformité.Grâce à notre vaste sélection de matériaux de dépôt, vous pouvez trouver la solution parfaite pour les exigences spécifiques de votre application.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en niobium (Nb) et nos matériaux de dépôt pour vos processus PVD et bénéficiez d'une fiabilité, de performances et d'une cohérence optimales.Nos produits s'appuient sur notre engagement envers la qualité et la satisfaction de nos clients, garantissant que vous recevez les meilleurs matériaux pour vos besoins en matière de dépôt de couches minces.Faites confiance à notre expertise et rejoignez les innombrables industries qui comptent sur nos produits pour leurs processus de fabrication avancés.
Niobium (Nb) Spécifications :
type de materiau | Niobium |
Symbole | Nb |
Poids atomique | 92.90638 |
Numéro atomique | 41 |
Couleur/apparence | Gris, Métallisé |
Conductivité thermique | 54 W/mK |
Point de fusion (°C) | 2 468 |
Coefficient thermique Expansion | 7,3 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 8.57 |
Rapport Z | 0.492 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Attaque la source W. |
