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Cibles de pulvérisation en néodyme (Nd)

cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN

Présentation de nos cibles de pulvérisation en néodyme (Nd) de haute qualité, conçues pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries.Ces cibles de pulvérisation cathodique sont méticuleusement conçues pour offrir des performances exceptionnelles dans les processus de dépôt de couches minces.


Nos cibles de pulvérisation en néodyme (Nd) sont fabriquées à l’aide de techniques avancées, garantissant une composition et une pureté précises.Ces cibles sont méticuleusement conçues pour fournir des résultats cohérents et fiables, ce qui les rend idéales pour une large gamme d'applications.


Avec nos cibles de pulvérisation en néodyme (Nd), vous pouvez réaliser un dépôt précis de couches minces dans diverses industries, notamment les semi-conducteurs, le stockage optique et magnétique.Ces cibles sont spécialement conçues pour les processus de pulvérisation et d'évaporation, offrant une excellente adhérence et une excellente uniformité du film.


En plus des cibles de pulvérisation en néodyme (Nd), nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre vaste gamme de produits garantit que vous avez accès à tous les matériaux nécessaires pour vos besoins en matière de dépôt de couches minces.


Choisissez nos cibles de pulvérisation en néodyme (Nd) pour leur qualité, leur fiabilité et leurs performances exceptionnelles.Grâce à notre engagement envers l'excellence, vous pouvez être sûr que nos produits vous aideront à obtenir les résultats souhaités dans vos processus de dépôt de couches minces.Découvrez la différence entre nos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt de qualité professionnelle.

Néodyme (Nd) Spécifications :

type de materiau

Néodyme

Symbole

sd

Poids atomique

144.242

Numéro atomique

60

Couleur/apparence

Blanc argenté, jaunâtre   Teinte, métallique

Conductivité thermique

17 W/mK

Point de fusion (°C)

1 021

Coefficient thermique   Expansion

9,6 x 10-6/K

Densité théorique (g/cc)

7.01

Rapport Z

**1,00

Pulvérisation

CC

Densité de puissance maximale

(Watts/pouce carré)

30*

Numéro ONU

2813

commentaires

Faible solubilité du W.


sur: 
En vertu d'un: 
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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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