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Présentation de nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)), la quintessence de l'excellence dans le domaine des matériaux de dépôt.Conçues pour les cibles de pulvérisation, les sources d'évaporation et autres applications de dépôt, ces cibles sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) garantissent une utilisation supérieure des matériaux, permettant un dépôt de couche mince efficace et rentable.Avec un ton professionnel, nous sommes fiers d’offrir des produits qui répondent aux normes les plus élevées de l’industrie.
Ces cibles de pulvérisation cathodique sont méticuleusement fabriquées à partir d'un matériau en germanium (Ge) de haute qualité, spécialement conçu pour les applications de type N.Cela garantit une conductivité électrique optimale et des caractéristiques de film améliorées, permettant un contrôle précis du processus de dépôt.
Nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) présentent une excellente stabilité thermique, garantissant des performances constantes même dans des conditions exigeantes.Les cibles sont conçues pour résister à une pulvérisation à haute puissance, ce qui entraîne une érosion minimale de la cible et une durée de vie prolongée du produit.
Que vous ayez besoin de cibles de pulvérisation pour la recherche, le développement ou la production à grande échelle, nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) sont le choix idéal.Grâce à leur pureté et leur uniformité exceptionnelles, ils permettent le dépôt de films de haute qualité avec une excellente adhérence et uniformité.
Chez [Nom de l'entreprise], nous comprenons l'importance des matériaux de dépôt fiables et performants.Nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) illustrent notre engagement à fournir des produits qui dépassent les attentes.Faites confiance à notre expertise et à notre expérience pour répondre à vos besoins de dépôt avec précision et professionnalisme.
Germanium (Ge (type N)) Spécifications :
type de materiau | Germanium |
Symbole | Ge (type N) |
Poids atomique | 72.63 |
Numéro atomique | 32 |
Couleur/apparence | Blanc grisâtre, Semi-métallique |
Conductivité thermique | 60 W/mK |
Point de fusion (°C) | 937 |
Résistivité globale | 5-40 ohm-cm |
Coefficient thermique Expansion | 6 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 5.32 |
Dopant | Antimoine |
Rapport Z | 0.516 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Excellents films d'E-beam |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)), la quintessence de l'excellence dans le domaine des matériaux de dépôt.Conçues pour les cibles de pulvérisation, les sources d'évaporation et autres applications de dépôt, ces cibles sont conçues pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) garantissent une utilisation supérieure des matériaux, permettant un dépôt de couche mince efficace et rentable.Avec un ton professionnel, nous sommes fiers d’offrir des produits qui répondent aux normes les plus élevées de l’industrie.
Ces cibles de pulvérisation cathodique sont méticuleusement fabriquées à partir d'un matériau en germanium (Ge) de haute qualité, spécialement conçu pour les applications de type N.Cela garantit une conductivité électrique optimale et des caractéristiques de film améliorées, permettant un contrôle précis du processus de dépôt.
Nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) présentent une excellente stabilité thermique, garantissant des performances constantes même dans des conditions exigeantes.Les cibles sont conçues pour résister à une pulvérisation à haute puissance, ce qui entraîne une érosion minimale de la cible et une durée de vie prolongée du produit.
Que vous ayez besoin de cibles de pulvérisation pour la recherche, le développement ou la production à grande échelle, nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) sont le choix idéal.Grâce à leur pureté et leur uniformité exceptionnelles, ils permettent le dépôt de films de haute qualité avec une excellente adhérence et uniformité.
Chez [Nom de l'entreprise], nous comprenons l'importance des matériaux de dépôt fiables et performants.Nos cibles de pulvérisation en germanium (Ge (type N)) illustrent notre engagement à fournir des produits qui dépassent les attentes.Faites confiance à notre expertise et à notre expérience pour répondre à vos besoins de dépôt avec précision et professionnalisme.
Germanium (Ge (type N)) Spécifications :
type de materiau | Germanium |
Symbole | Ge (type N) |
Poids atomique | 72.63 |
Numéro atomique | 32 |
Couleur/apparence | Blanc grisâtre, Semi-métallique |
Conductivité thermique | 60 W/mK |
Point de fusion (°C) | 937 |
Résistivité globale | 5-40 ohm-cm |
Coefficient thermique Expansion | 6 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 5.32 |
Dopant | Antimoine |
Rapport Z | 0.516 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Excellents films d'E-beam |
